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		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* Tätigkeitsbeschreibung */&lt;/p&gt;
&lt;hr /&gt;
&lt;div&gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
[[Benutzer:{{PAGENAME}}/English|English Version]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Christin Straus ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&amp;lt;!--&lt;br /&gt;
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--&amp;gt;&lt;br /&gt;
[[Datei:&amp;lt;Bilddatei&amp;gt;|rahmenlos|links|Text der Bild-Legende]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Fachbereich&#039;&#039;&#039;: MF (Mikrofertigung)&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Aufgabengebiet&#039;&#039;&#039;: Goldgalvanik, (i.V. Nickelgalvanik, verschiedene Ätzarbeiten&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Raum&#039;&#039;&#039;: Bau 307 Raum 125&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Telefon&#039;&#039;&#039;: 072160824429&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;e-mail&#039;&#039;&#039;: christin.straus@kit.edu&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Stellvertreter&#039;&#039;&#039;: Barbara Matthis&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Tätigkeitsbeschreibung ==&lt;br /&gt;
Gelernte Chemielaborantin und hauptsächlich zuständig für &lt;br /&gt;
* die Goldgalvanik und vertretungsweise Nickelgalvanik &lt;br /&gt;
* verschiedene Ätzprozesse wie Kupfer-, Titan-, Invar- und SU8 ätzen&lt;br /&gt;
* die Oxidation von Wafern und Kupfergrundplatten&lt;br /&gt;
* Plasma-Reinigungsschritte (4Tec; RIE/RIBE)&lt;br /&gt;
* die Urlaubsvertretung im nasschemischen Entwickeln&lt;br /&gt;
* Wafervorbereitung für gebogene Gitter&lt;br /&gt;
* die praktische Unterstützung von Doktoranden, Diplomanden,......etc bei Reinraumarbeiten&lt;br /&gt;
* für die Ordnung im Reinraum und das Auffüllen von Verbrauchs- und Arbeitsmaterialien&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Fertigkeiten/Kenntnisse ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Geräte ===&lt;br /&gt;
*[[Oxidationsanlage]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbäder]]&lt;br /&gt;
*[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]]&lt;br /&gt;
*[[Laserbeschriftungsgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Galvanikbad HEGA I+III+IV]]&lt;br /&gt;
*[[Vakuumöfen]]&lt;br /&gt;
*[[4-TEC Plasmaätzer]]&lt;br /&gt;
*[[Maskenreiniger HMR 900]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbad (FMK, WA wie GA 0220)]]&lt;br /&gt;
*[[Lackentferner STP 2020]]&lt;br /&gt;
*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]]&lt;br /&gt;
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
*[[Oberflächenmessgerät TENCOR P 2]]&lt;br /&gt;
*[[Messmikroskop ERGOLUX]]&lt;br /&gt;
*[[pH-Messgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
* Oxidation&lt;br /&gt;
* Goldgalvanik von ZM´s und AM´s&lt;br /&gt;
* Plasmaätzen&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Software ===&lt;br /&gt;
*Analysis (teilweise)&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Weitere Aufgaben am IMT ==&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- z.B. Geräteveratwortlicher, Gremienzugehörigkeit, etc. falls nicht zutreffend, bitte Überschrift entfernen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- Optionale Einträge wie Veröffentlichungen und Vorträge andere Wunschthemen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- Weitere Kategorien: FuEX, --&amp;gt;&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* Tätigkeitsbeschreibung */&lt;/p&gt;
&lt;hr /&gt;
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&lt;br /&gt;
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&lt;br /&gt;
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== Christin Straus ==&lt;br /&gt;
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&#039;&#039;&#039;Fachbereich&#039;&#039;&#039;: MF (Mikrofertigung)&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
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&lt;br /&gt;
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== Tätigkeitsbeschreibung ==&lt;br /&gt;
Gelernte Chemielaborantin und hauptsächlich zuständig für &lt;br /&gt;
* die Goldgalvanik und vertretungsweise Nickelgalvanik &lt;br /&gt;
* verschiedene Ätzprozesse wie Kupfer-, Titan-, Invar- und SU8 ätzen&lt;br /&gt;
* die Oxidation von Wafern und Kupfergrundplatten&lt;br /&gt;
* Plasma-Reinigungsschritte (4Tec; RIE/RIBE)&lt;br /&gt;
* die Urlaubsvertretung im nasschemischen Entwickeln&lt;br /&gt;
* Wafervorbereitung für gebogene Gitter&lt;br /&gt;
* für die Ordnung im Reinraum und das Auffüllen von Verbrauchs- und Arbeitsmaterialien&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Fertigkeiten/Kenntnisse ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Geräte ===&lt;br /&gt;
*[[Oxidationsanlage]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbäder]]&lt;br /&gt;
*[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]]&lt;br /&gt;
*[[Laserbeschriftungsgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Galvanikbad HEGA I+III+IV]]&lt;br /&gt;
*[[Vakuumöfen]]&lt;br /&gt;
*[[4-TEC Plasmaätzer]]&lt;br /&gt;
*[[Maskenreiniger HMR 900]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbad (FMK, WA wie GA 0220)]]&lt;br /&gt;
*[[Lackentferner STP 2020]]&lt;br /&gt;
*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]]&lt;br /&gt;
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
*[[Oberflächenmessgerät TENCOR P 2]]&lt;br /&gt;
*[[Messmikroskop ERGOLUX]]&lt;br /&gt;
*[[pH-Messgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
* Oxidation&lt;br /&gt;
* Goldgalvanik von ZM´s und AM´s&lt;br /&gt;
* Plasmaätzen&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Software ===&lt;br /&gt;
*Analysis (teilweise)&lt;br /&gt;
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== Weitere Aufgaben am IMT ==&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- z.B. Geräteveratwortlicher, Gremienzugehörigkeit, etc. falls nicht zutreffend, bitte Überschrift entfernen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
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		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* Prozesse */&lt;/p&gt;
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== Tätigkeitsbeschreibung ==&lt;br /&gt;
Zuständig für &lt;br /&gt;
* die Goldgalvanik und vertretungsweise Nickelgalvanik &lt;br /&gt;
* verschiedene Ätzprozesse wie Kupfer-, Titan-, Invar- und SU8 ätzen&lt;br /&gt;
* die Oxidation von Wafern und Kupfergrundplatten&lt;br /&gt;
* Plasma-Reinigungsschritte (4Tec; RIE/RIBE)&lt;br /&gt;
* die Urlaubsvertretung im nasschemischen Entwickeln&lt;br /&gt;
* Wafervorbereitung für gebogene Gitter&lt;br /&gt;
* für die Ordnung im Reinraum und das Auffüllen von Verbrauchs- und Arbeitsmaterialien&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Fertigkeiten/Kenntnisse ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Geräte ===&lt;br /&gt;
*[[Oxidationsanlage]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbäder]]&lt;br /&gt;
*[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]]&lt;br /&gt;
*[[Laserbeschriftungsgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Galvanikbad HEGA I+III+IV]]&lt;br /&gt;
*[[Vakuumöfen]]&lt;br /&gt;
*[[4-TEC Plasmaätzer]]&lt;br /&gt;
*[[Maskenreiniger HMR 900]]&lt;br /&gt;
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*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]]&lt;br /&gt;
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
*[[Oberflächenmessgerät TENCOR P 2]]&lt;br /&gt;
*[[Messmikroskop ERGOLUX]]&lt;br /&gt;
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*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
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=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
* Oxidation&lt;br /&gt;
* Goldgalvanik von ZM´s und AM´s&lt;br /&gt;
* Plasmaätzen&lt;br /&gt;
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=== Software ===&lt;br /&gt;
*Analysis (teilweise)&lt;br /&gt;
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&amp;lt;!-- z.B. Geräteveratwortlicher, Gremienzugehörigkeit, etc. falls nicht zutreffend, bitte Überschrift entfernen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
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		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<updated>2013-05-17T14:04:48Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* Tätigkeitsbeschreibung */&lt;/p&gt;
&lt;hr /&gt;
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== Christin Straus ==&lt;br /&gt;
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Zuständig für &lt;br /&gt;
* die Goldgalvanik und vertretungsweise Nickelgalvanik &lt;br /&gt;
* verschiedene Ätzprozesse wie Kupfer-, Titan-, Invar- und SU8 ätzen&lt;br /&gt;
* die Oxidation von Wafern und Kupfergrundplatten&lt;br /&gt;
* Plasma-Reinigungsschritte (4Tec; RIE/RIBE)&lt;br /&gt;
* die Urlaubsvertretung im nasschemischen Entwickeln&lt;br /&gt;
* Wafervorbereitung für gebogene Gitter&lt;br /&gt;
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=== Geräte ===&lt;br /&gt;
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*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]]&lt;br /&gt;
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
*[[Oberflächenmessgerät TENCOR P 2]]&lt;br /&gt;
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*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
* Oxidation&lt;br /&gt;
* Goldgalvanik&lt;br /&gt;
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&lt;br /&gt;
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[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<id>https://www.imt.kit.edu/wiki/index.php?title=User:Christin.Straus&amp;diff=1384</id>
		<title>User:Christin.Straus</title>
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		<updated>2013-05-17T14:02:14Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* Tätigkeitsbeschreibung */&lt;/p&gt;
&lt;hr /&gt;
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== Christin Straus ==&lt;br /&gt;
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&lt;br /&gt;
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== Tätigkeitsbeschreibung ==&lt;br /&gt;
Zuständig für &lt;br /&gt;
* die Galdgalvanik und vertretungsweise Nickelgalvanik &lt;br /&gt;
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* die Oxidation von Wafern und Kupfergrundplatten&lt;br /&gt;
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* die Urlaubsvertretung im nasschemischen Entwickeln&lt;br /&gt;
* Wafervorbereitung für gebogene Gitter&lt;br /&gt;
* für die Ordnung im Reinraum und das Auffüllen von Verbrauchs- und Arbeitsmaterialien&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Fertigkeiten/Kenntnisse ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Geräte ===&lt;br /&gt;
*[[Oxidationsanlage]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbäder]]&lt;br /&gt;
*[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]]&lt;br /&gt;
*[[Laserbeschriftungsgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Galvanikbad HEGA I+III+IV]]&lt;br /&gt;
*[[Vakuumöfen]]&lt;br /&gt;
*[[4-TEC Plasmaätzer]]&lt;br /&gt;
*[[Maskenreiniger HMR 900]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbad (FMK, WA wie GA 0220)]]&lt;br /&gt;
*[[Lackentferner STP 2020]]&lt;br /&gt;
*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]]&lt;br /&gt;
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
*[[Oberflächenmessgerät TENCOR P 2]]&lt;br /&gt;
*[[Messmikroskop ERGOLUX]]&lt;br /&gt;
*[[pH-Messgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
* Oxidation&lt;br /&gt;
* Goldgalvanik&lt;br /&gt;
* Plasmaätzen&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Software ===&lt;br /&gt;
*Analysis (teilweise)&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Weitere Aufgaben am IMT ==&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- z.B. Geräteveratwortlicher, Gremienzugehörigkeit, etc. falls nicht zutreffend, bitte Überschrift entfernen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- Optionale Einträge wie Veröffentlichungen und Vorträge andere Wunschthemen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- Weitere Kategorien: FuEX, --&amp;gt;&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<updated>2013-05-17T14:01:23Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* Prozesse */&lt;/p&gt;
&lt;hr /&gt;
&lt;div&gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
[[Benutzer:{{PAGENAME}}/English|English Version]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Christin Straus ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
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&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Fachbereich&#039;&#039;&#039;: MF (Mikrofertigung)&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Aufgabengebiet&#039;&#039;&#039;: Goldgalvanik, (i.V. Nickelgalvanik, verschiedene Ätzarbeiten&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Raum&#039;&#039;&#039;: Bau 307 Raum 125&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Telefon&#039;&#039;&#039;: 072160824429&lt;br /&gt;
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&#039;&#039;&#039;e-mail&#039;&#039;&#039;: christin.straus@kit.edu&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Stellvertreter&#039;&#039;&#039;: Barbara Matthis&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Tätigkeitsbeschreibung ==&lt;br /&gt;
Zuständig für &lt;br /&gt;
* die Galdgalvanik und vertretungsweise Nickelgalvanik &lt;br /&gt;
* verschiedene Ätzprozesse wie Kupfer-, Titan-, Invar- und SU8 ätzen&lt;br /&gt;
* die Oxidation von Wafern und Kupfergrundplatten&lt;br /&gt;
* Plasma-Reinigungsschritte (4Tec; RIE/RIBE)&lt;br /&gt;
* die Urlaubsvertretung im nasschemischen Entwickeln&lt;br /&gt;
* für die Ordnung im Reinraum und das Auffüllen von Verbrauchs- und Arbeitsmaterialien&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Fertigkeiten/Kenntnisse ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Geräte ===&lt;br /&gt;
*[[Oxidationsanlage]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbäder]]&lt;br /&gt;
*[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]]&lt;br /&gt;
*[[Laserbeschriftungsgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Galvanikbad HEGA I+III+IV]]&lt;br /&gt;
*[[Vakuumöfen]]&lt;br /&gt;
*[[4-TEC Plasmaätzer]]&lt;br /&gt;
*[[Maskenreiniger HMR 900]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbad (FMK, WA wie GA 0220)]]&lt;br /&gt;
*[[Lackentferner STP 2020]]&lt;br /&gt;
*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]]&lt;br /&gt;
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
*[[Oberflächenmessgerät TENCOR P 2]]&lt;br /&gt;
*[[Messmikroskop ERGOLUX]]&lt;br /&gt;
*[[pH-Messgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
* Oxidation&lt;br /&gt;
* Goldgalvanik&lt;br /&gt;
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=== Software ===&lt;br /&gt;
*Analysis (teilweise)&lt;br /&gt;
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&lt;hr /&gt;
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Zuständig für &lt;br /&gt;
* die Galdgalvanik und vertretungsweise Nickelgalvanik &lt;br /&gt;
* verschiedene Ätzprozesse wie Kupfer-, Titan-, Invar- und SU8 ätzen&lt;br /&gt;
* die Oxidation von Wafern und Kupfergrundplatten&lt;br /&gt;
* Plasma-Reinigungsschritte (4Tec; RIE/RIBE)&lt;br /&gt;
* die Urlaubsvertretung im nasschemischen Entwickeln&lt;br /&gt;
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== Fertigkeiten/Kenntnisse ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Geräte ===&lt;br /&gt;
*[[Oxidationsanlage]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbäder]]&lt;br /&gt;
*[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]]&lt;br /&gt;
*[[Laserbeschriftungsgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Galvanikbad HEGA I+III+IV]]&lt;br /&gt;
*[[Vakuumöfen]]&lt;br /&gt;
*[[4-TEC Plasmaätzer]]&lt;br /&gt;
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*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
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*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
* Oxidation&lt;br /&gt;
* Goldgalvanik&lt;br /&gt;
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=== Software ===&lt;br /&gt;
*Analysis (teilweise)&lt;br /&gt;
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		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* Materialien */&lt;/p&gt;
&lt;hr /&gt;
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Zuständig für &lt;br /&gt;
* die Galdgalvanik und vertretungsweise Nickelgalvanik &lt;br /&gt;
* verschiedene Ätzprozesse wie Kupfer-, Titan- und Invarätzen&lt;br /&gt;
* die Oxidation von Wafern und Kupfergrundplatten&lt;br /&gt;
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=== Geräte ===&lt;br /&gt;
*[[Oxidationsanlage]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbäder]]&lt;br /&gt;
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=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
* Oxidation&lt;br /&gt;
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		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* Software */&lt;/p&gt;
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*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]]&lt;br /&gt;
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
*[[Oberflächenmessgerät TENCOR P 2]]&lt;br /&gt;
*[[Messmikroskop ERGOLUX]]&lt;br /&gt;
*[[pH-Messgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
* Oxidation&lt;br /&gt;
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&amp;lt;!-- Weitere Kategorien: FuEX, --&amp;gt;&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<id>https://www.imt.kit.edu/wiki/index.php?title=User:Christin.Straus&amp;diff=1379</id>
		<title>User:Christin.Straus</title>
		<link rel="alternate" type="text/html" href="https://www.imt.kit.edu/wiki/index.php?title=User:Christin.Straus&amp;diff=1379"/>
		<updated>2013-05-17T13:56:41Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* Prozesse */&lt;/p&gt;
&lt;hr /&gt;
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== Christin Straus ==&lt;br /&gt;
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&#039;&#039;&#039;Telefon&#039;&#039;&#039;: 072160824429&lt;br /&gt;
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&#039;&#039;&#039;e-mail&#039;&#039;&#039;: christin.straus@kit.edu&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Stellvertreter&#039;&#039;&#039;: Barbara Matthis&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Tätigkeitsbeschreibung ==&lt;br /&gt;
Zuständig für &lt;br /&gt;
* die Galdgalvanik und vertretungsweise Nickelgalvanik &lt;br /&gt;
* verschiedene Ätzprozesse wie Kupfer-, Titan- und Invarätzen&lt;br /&gt;
* die Oxidation von Wafern und Kupfergrundplatten&lt;br /&gt;
* für die Ordnung im Reinraum und das Auffüllen von Verbrauchs- und Arbeitsmaterialien&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Fertigkeiten/Kenntnisse ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Geräte ===&lt;br /&gt;
*[[Oxidationsanlage]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbäder]]&lt;br /&gt;
*[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]]&lt;br /&gt;
*[[Laserbeschriftungsgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Galvanikbad HEGA I+III+IV]]&lt;br /&gt;
*[[Vakuumöfen]]&lt;br /&gt;
*[[4-TEC Plasmaätzer]]&lt;br /&gt;
*[[Maskenreiniger HMR 900]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbad (FMK, WA wie GA 0220)]]&lt;br /&gt;
*[[Lackentferner STP 2020]]&lt;br /&gt;
*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]]&lt;br /&gt;
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
*[[Oberflächenmessgerät TENCOR P 2]]&lt;br /&gt;
*[[Messmikroskop ERGOLUX]]&lt;br /&gt;
*[[pH-Messgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
* Oxidation&lt;br /&gt;
* Goldgalvanik&lt;br /&gt;
*&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Software ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Materialien ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Weitere Aufgaben am IMT ==&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- z.B. Geräteveratwortlicher, Gremienzugehörigkeit, etc. falls nicht zutreffend, bitte Überschrift entfernen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- Optionale Einträge wie Veröffentlichungen und Vorträge andere Wunschthemen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- Weitere Kategorien: FuEX, --&amp;gt;&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<updated>2013-05-17T13:55:54Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* Tätigkeitsbeschreibung */&lt;/p&gt;
&lt;hr /&gt;
&lt;div&gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
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&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Christin Straus ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&amp;lt;!--&lt;br /&gt;
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&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Fachbereich&#039;&#039;&#039;: MF (Mikrofertigung)&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Aufgabengebiet&#039;&#039;&#039;: Goldgalvanik, (i.V. Nickelgalvanik, verschiedene Ätzarbeiten&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Raum&#039;&#039;&#039;: Bau 307 Raum 125&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
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== Tätigkeitsbeschreibung ==&lt;br /&gt;
Zuständig für &lt;br /&gt;
* die Galdgalvanik und vertretungsweise Nickelgalvanik &lt;br /&gt;
* verschiedene Ätzprozesse wie Kupfer-, Titan- und Invarätzen&lt;br /&gt;
* die Oxidation von Wafern und Kupfergrundplatten&lt;br /&gt;
* für die Ordnung im Reinraum und das Auffüllen von Verbrauchs- und Arbeitsmaterialien&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Fertigkeiten/Kenntnisse ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Geräte ===&lt;br /&gt;
*[[Oxidationsanlage]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbäder]]&lt;br /&gt;
*[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]]&lt;br /&gt;
*[[Laserbeschriftungsgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Galvanikbad HEGA I+III+IV]]&lt;br /&gt;
*[[Vakuumöfen]]&lt;br /&gt;
*[[4-TEC Plasmaätzer]]&lt;br /&gt;
*[[Maskenreiniger HMR 900]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbad (FMK, WA wie GA 0220)]]&lt;br /&gt;
*[[Lackentferner STP 2020]]&lt;br /&gt;
*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]]&lt;br /&gt;
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
*[[Oberflächenmessgerät TENCOR P 2]]&lt;br /&gt;
*[[Messmikroskop ERGOLUX]]&lt;br /&gt;
*[[pH-Messgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Software ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Materialien ===&lt;br /&gt;
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== Weitere Aufgaben am IMT ==&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- z.B. Geräteveratwortlicher, Gremienzugehörigkeit, etc. falls nicht zutreffend, bitte Überschrift entfernen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
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		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* PVA für IMT-Projekte */&lt;/p&gt;
&lt;hr /&gt;
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&lt;br /&gt;
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== Fertigkeiten/Kenntnisse ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Geräte ===&lt;br /&gt;
*[[Oxidationsanlage]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbäder]]&lt;br /&gt;
*[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]]&lt;br /&gt;
*[[Laserbeschriftungsgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Galvanikbad HEGA I+III+IV]]&lt;br /&gt;
*[[Vakuumöfen]]&lt;br /&gt;
*[[4-TEC Plasmaätzer]]&lt;br /&gt;
*[[Maskenreiniger HMR 900]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbad (FMK, WA wie GA 0220)]]&lt;br /&gt;
*[[Lackentferner STP 2020]]&lt;br /&gt;
*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]]&lt;br /&gt;
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
*[[Oberflächenmessgerät TENCOR P 2]]&lt;br /&gt;
*[[Messmikroskop ERGOLUX]]&lt;br /&gt;
*[[pH-Messgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
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=== Software ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Materialien ===&lt;br /&gt;
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== Weitere Aufgaben am IMT ==&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- z.B. Geräteveratwortlicher, Gremienzugehörigkeit, etc. falls nicht zutreffend, bitte Überschrift entfernen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
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&amp;lt;!-- Weitere Kategorien: FuEX, --&amp;gt;&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<updated>2013-05-17T13:42:50Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: Änderung 1368 von Christin.Straus (Diskussion) rückgängig gemacht.&lt;/p&gt;
&lt;hr /&gt;
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&lt;br /&gt;
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== Christin Straus ==&lt;br /&gt;
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&#039;&#039;&#039;Fachbereich&#039;&#039;&#039;: MF (Mikrofertigung)&lt;br /&gt;
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&lt;br /&gt;
=== Geräte ===&lt;br /&gt;
*[[Oxidationsanlage]]&lt;br /&gt;
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*[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]]&lt;br /&gt;
*[[Laserbeschriftungsgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Galvanikbad HEGA I+III+IV]]&lt;br /&gt;
*[[Vakuumöfen]]&lt;br /&gt;
*[[4-TEC Plasmaätzer]]&lt;br /&gt;
*[[Maskenreiniger HMR 900]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbad (FMK, WA wie GA 0220)]]&lt;br /&gt;
*[[Lackentferner STP 2020]]&lt;br /&gt;
*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]]&lt;br /&gt;
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
*[[Oberflächenmessgerät TENCOR P 2]]&lt;br /&gt;
*[[Messmikroskop ERGOLUX]]&lt;br /&gt;
*[[pH-Messgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Software ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Materialien ===&lt;br /&gt;
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== [[Abkürzungen - Abbreviations|PVA]] für IMT-Projekte ==&lt;br /&gt;
* [[00-000P]]&lt;br /&gt;
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== Weitere Aufgaben am IMT ==&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- z.B. Geräteveratwortlicher, Gremienzugehörigkeit, etc. falls nicht zutreffend, bitte Überschrift entfernen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
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&amp;lt;!-- Weitere Kategorien: FuEX, --&amp;gt;&lt;br /&gt;
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		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<updated>2013-05-17T13:41:58Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* Weitere Aufgaben am IMT */&lt;/p&gt;
&lt;hr /&gt;
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*[[4-TEC Plasmaätzer]]&lt;br /&gt;
*[[Maskenreiniger HMR 900]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbad (FMK, WA wie GA 0220)]]&lt;br /&gt;
*[[Lackentferner STP 2020]]&lt;br /&gt;
*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]]&lt;br /&gt;
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
*[[Oberflächenmessgerät TENCOR P 2]]&lt;br /&gt;
*[[Messmikroskop ERGOLUX]]&lt;br /&gt;
*[[pH-Messgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Software ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Materialien ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== [[Abkürzungen - Abbreviations|PVA]] für IMT-Projekte ==&lt;br /&gt;
* [[00-000P]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<id>https://www.imt.kit.edu/wiki/index.php?title=User:Christin.Straus&amp;diff=1367</id>
		<title>User:Christin.Straus</title>
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		<updated>2013-05-17T13:41:37Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* Geräte */&lt;/p&gt;
&lt;hr /&gt;
&lt;div&gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
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== Christin Straus ==&lt;br /&gt;
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&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Fachbereich&#039;&#039;&#039;: MF (Mikrofertigung)&lt;br /&gt;
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&lt;br /&gt;
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&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Stellvertreter&#039;&#039;&#039;: Barbara Matthis&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
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=== Geräte ===&lt;br /&gt;
*[[Oxidationsanlage]]&lt;br /&gt;
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*[[Galvanikbad HEGA I+III+IV]]&lt;br /&gt;
*[[Vakuumöfen]]&lt;br /&gt;
*[[4-TEC Plasmaätzer]]&lt;br /&gt;
*[[Maskenreiniger HMR 900]]&lt;br /&gt;
*[[Goldgalvanikbad (FMK, WA wie GA 0220)]]&lt;br /&gt;
*[[Lackentferner STP 2020]]&lt;br /&gt;
*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]]&lt;br /&gt;
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
*[[Oberflächenmessgerät TENCOR P 2]]&lt;br /&gt;
*[[Messmikroskop ERGOLUX]]&lt;br /&gt;
*[[pH-Messgerät]]&lt;br /&gt;
*[[Analysenwaage ED224S]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Software ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Materialien ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== [[Abkürzungen - Abbreviations|PVA]] für IMT-Projekte ==&lt;br /&gt;
* [[00-000P]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Weitere Aufgaben am IMT ==&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- z.B. Geräteveratwortlicher, Gremienzugehörigkeit, etc. falls nicht zutreffend, bitte Überschrift entfernen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
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&amp;lt;!-- Weitere Kategorien: FuEX, --&amp;gt;&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<updated>2013-05-17T13:33:42Z</updated>

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&lt;br /&gt;
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&#039;&#039;&#039;Fachbereich&#039;&#039;&#039;: MF (Mikrofertigung)&lt;br /&gt;
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&#039;&#039;&#039;Aufgabengebiet&#039;&#039;&#039;: Goldgalvanik, (i.V. Nickelgalvanik, verschiedene Ätzarbeiten&lt;br /&gt;
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== Tätigkeitsbeschreibung ==&lt;br /&gt;
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== Fertigkeiten/Kenntnisse ==&lt;br /&gt;
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=== Geräte ===&lt;br /&gt;
[[Oxidationsanlage]]&lt;br /&gt;
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[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]]&lt;br /&gt;
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[[Galvanikbad HEGA I+III+IV]]&lt;br /&gt;
[[Vakuumöfen]]&lt;br /&gt;
[[4-TEC Plasmaätzer]]&lt;br /&gt;
[[Maskenreiniger HMR 900]]&lt;br /&gt;
[[Goldgalvanikbad (FMK, WA wie GA 0220)]]&lt;br /&gt;
[[Lackentferner STP 2020]]&lt;br /&gt;
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[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]&lt;br /&gt;
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=== Prozesse ===&lt;br /&gt;
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&amp;lt;!-- z.B. Geräteveratwortlicher, Gremienzugehörigkeit, etc. falls nicht zutreffend, bitte Überschrift entfernen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
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[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>Christin.Straus</name></author>
	</entry>
	<entry>
		<id>https://www.imt.kit.edu/wiki/index.php?title=User:Christin.Straus&amp;diff=1334</id>
		<title>User:Christin.Straus</title>
		<link rel="alternate" type="text/html" href="https://www.imt.kit.edu/wiki/index.php?title=User:Christin.Straus&amp;diff=1334"/>
		<updated>2013-05-17T13:00:26Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: /* Vorname Nachname */&lt;/p&gt;
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== Christin Straus ==&lt;br /&gt;
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== Tätigkeitsbeschreibung ==&lt;br /&gt;
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== Fertigkeiten/Kenntnisse ==&lt;br /&gt;
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=== Geräte ===&lt;br /&gt;
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== [[Abkürzungen - Abbreviations|PVA]] für IMT-Projekte ==&lt;br /&gt;
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== Weitere Aufgaben am IMT ==&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- z.B. Geräteveratwortlicher, Gremienzugehörigkeit, etc. falls nicht zutreffend, bitte Überschrift entfernen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
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&amp;lt;!-- Optionale Einträge wie Veröffentlichungen und Vorträge andere Wunschthemen --&amp;gt;&lt;br /&gt;
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&amp;lt;!-- Weitere Kategorien: FuEX, --&amp;gt;&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<id>https://www.imt.kit.edu/wiki/index.php?title=User:Christin.Straus/English&amp;diff=1333</id>
		<title>User:Christin.Straus/English</title>
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		<updated>2013-05-17T12:59:57Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: Die Seite wurde neu angelegt: „{{ers:Mitarbeiter/English}}“&lt;/p&gt;
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&#039;&#039;&#039;Department&#039;&#039;&#039;:&lt;br /&gt;
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&lt;br /&gt;
&#039;&#039;&#039;Room&#039;&#039;&#039;:&lt;br /&gt;
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&#039;&#039;&#039;e-mail&#039;&#039;&#039;:&lt;br /&gt;
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&lt;br /&gt;
== Job Description ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Expertise ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Devices ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Processes ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Software ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
=== Materials ===&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== [[Abkürzungen - Abbreviations|PVA]] for IMT Projects ==&lt;br /&gt;
* [[00-000P]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Further Tasks at IMT ==&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- e.g. device responsible , board member, etc. --&amp;gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&amp;lt;!-- Optional Categories as Publications, Presentations, etc. --&amp;gt;&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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		<id>https://www.imt.kit.edu/wiki/index.php?title=User:Christin.Straus&amp;diff=1332</id>
		<title>User:Christin.Straus</title>
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		<updated>2013-05-17T12:59:01Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;Christin.Straus: Die Seite wurde neu angelegt: „{{ers:Mitarbeiter}}“&lt;/p&gt;
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[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>Christin.Straus</name></author>
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