https://www.imt.kit.edu/wiki/api.php?action=feedcontributions&feedformat=atom&user=IMT.bot 2026-05-09T23:49:35Z User contributions MediaWiki 1.39.17 https://www.imt.kit.edu/wiki/index.php?title=OPT_-_Trocken%C3%A4tzanlage_(RIE/ICP,_RIBE)&diff=2754 2014-02-04T17:07:19Z

<p>IMT.bot: Bot-Replacement: bot test 2</p> <hr /> <div>[[{{PAGENAME}}/English | English Version]]<br /> <br /> &lt;!--<br /> Falls Bilder angezeigt werden sollen, müssen die entsprechenden Dateien erst hochgeladen werden.<br /> Dies ermöglicht die Seitenleiste &quot;werkzeuge -&gt; Datei hochladen&quot;.<br /> Bitte achtet auf Dateigröße, ideal wäre &lt;100kB<br /> --&gt;<br /> [[Datei:OxfordCluster_Anlage_small.png‎|500px|thumb|right|Plasmaätzanlage]]<br /> <br /> '''Gerätebezeichnung:''' XXXXXXXX<br /> <br /> '''Geräteverantwortliche/Operateure:''' A. Muslija, D. Häringer<br /> <br /> '''Standort:''' Reinraum, genauerer Ort?<br /> <br /> '''Prüfmittel-/Fertigungsmittelnummer:''' XXXX<br /> <br /> '''Spezifikations-Nummer:''' SP-XXXX<br /> <br /> <br /> == Kurzbeschreibung ==<br /> Die Anlage verfügt über eine Kammer zum Reaktiven Ionen Ätzen (RIE), in der das Plasma auch induktiv eingekoppelt werden kann (ICP).<br /> Eine weitere Kammer dient zum rein physischen Ätzen mittels Argonionen (RIBE), hier kann der Winkel des Substrats zum Ionenstrahl eingestellte werden. <br /> [http://www.knmf.kit.edu/img/KNMF_Dry_Etching.pdf KMNF-Geräteinfo]<br /> <br /> == Alternativen ==<br /> *[[4-TEC Plasmaätzer]]<br /> *[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford ]]<br /> *Oxfordanlage am CFN<br /> <br /> &lt;!-- Gibt es andere Geräte, die gleiche oder ähnliche Funktion haben/Prozesse durchführen können? Bitte hier benennen und verlinken. Den korrekten Namen der Wiki-Seite des zu verlinkenden Geräts findet sich in der [[Prüfmittel_Liste_-_List_of_Measurement_Devices| Prüfmittel Liste]] oder der [[Liste der Fertigungsmittel - List of Manufacturing Equipment|Liste der Fertigungsmittel]].--&gt;<br /> <br /> == Spezifikationen des Geräts ==<br /> <br /> *RIE<br /> **SF6<br /> **O2<br /> **N2<br /> **CHF3<br /> **BCL3<br /> **CL2<br /> **Argon<br /> **in Zukunft auch HBr (für flache Siliziumätzungen)<br /> *RIBE<br /> **Argon<br /> **CL2<br /> <br /> (Zusätzliche) Ausstattung und Funktionen, z.B. Prozessgase, Wellenlängen, Auflösung, Strukturdimensionen<br /> <br /> == Etablierte Prozesse ==<br /> *Cryoprozess (Silizium(tief)ätzen) (Muslija)<br /> * Titan<br /> * Chrom<br /> *Unterätzen von Siliziumopferschichten (Lay)<br /> *Siliziumnitridätzen in der Entwicklung (Köhnle)<br /> *Glasätzen in der Entwicklung (Häringer)<br /> *... (Hr. Muslija oder Dr. Häringer fragen).<br /> <br /> &lt;!--Welche Prozesse wurden erfolgreich mit diesem Gerät durchgeführt, welche Materialien wurden mit dem Gerät strukturiert, geprüft, verarbeitet? Bitte keine Prozessparameter und sensible Details in die Wiki eintragen, stattdessen Hinweise, wo man diese finden oder erfragen kann (z.B. Pfad zu Dokument im J: Laufwerk). --&gt;<br /> <br /> == Einschränkungen ==<br /> Bevor die Verwendung der RIE oder der RIBE Anlage in Betracht gezogen werden, sollte man sich mit dem zuständigen [[Benutzer:Alban.Muslija |Operateur]] beraten. Dies gilt insbesondere dann, wenn das zu ätzende Material nicht in der Liste der etablierten Prozesse aufgeführt ist.<br /> *Die RIBE Anlage ist wesentlich unempfindlicher gegen Verunreinigung mit Fremdstoffen als die RIE Anlage.<br /> *Metalle (isb. Nickel) können die Funktion der RIE Kammer negativ beeinflussen. Wenn möglich sollte auf die RIBE ausgewichen werden.<br /> <br /> <br /> &lt;!--Welche Prozesse lassen sich mit dem Gerät nicht durchführen oder würden die Funktion des Gerätes beeinträchtigen? --&gt;<br /> <br /> == Eingewiesene Nutzer ==<br /> Personen bitte immer mit [[Benutzer:Vorname.Nachname | Nachname, Vorname]] verknüpfen.<br /> <br /> *[[Benutzer:Alban.Muslija | Muslija, Alban]]<br /> *[[Benutzer:Daniel.Häringer| Häringer, Daniel]]<br /> *[[Benutzer:Christian.Lay | Lay, Christian ]]<br /> *[[Benutzer:Julian.Hartbaum | Hartbaum , Julian]]<br /> *[[Benutzer:Kira.Koehnle| Köhnle, Kira]]<br /> <br /> <br /> [[Kategorie:Geräte - Devices]]<br /> [[Kategorie:Fertigungsmittel_-_Manufacturing_Equipment]]<br /> [[Kategorie:KNMF]]<br /> [[Kategorie:F&amp;E1-SMD]]</div>

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