IMT-Wiki - User contributions [en]

VISTEC VB6

2014-08-20T16:05:53Z

Kira.Koehnle: /* Spezifikationen des Geräts */

Studenten - students

2014-08-06T06:07:48Z

Kira.Koehnle:

{| class="wikitable sortable" cellpadding= 2 cellspacing= 3 border= 1 style= width:100%;
|- style= background:#fedcba;
!Bild
Picture
!Nachname
Familiy Name
!Vorname
First Name
!Raum
Room
!Betreuer
Supervisor
!Status
!Zeitraum am IMT
Time period at IMT
|-
|
|Khalil
|Ibrahim
|326
|[[Benutzer:Frieder.Koch|Frieder Koch]], [[Benutzer:Danays.Kunka|Danays Kunka]]
|Master
|15.04. - 14.10.2014
|-
|[[Datei:Faisal_Abrar.png|70px]]
|Faisal
|Abrar
|326
|[[Benutzer:Frieder.Koch|Frieder Koch]], [[Benutzer:Jan.Meiser|Jan Meiser]]
|Master
|01.06. - 30.11.2014
|-
|
|Volz
|Tillmann
|326
|[[Benutzer:Jan.Meiser|Jan Meiser]], [[Benutzer:Tobias.Schroeter|Tobias Schröter]]
|Hiwi
|Ende: 31.10.2014
|-
|
|Patel
|Harsh
|Institut für Angewandte Informatik
|[[Benutzer:Jan.Meiser|Jan Meiser]], [[Benutzer:Tobias.Schroeter|Tobias Schröter]]
|Internship
|15.04.-14.10.2014
|-
|
|Chaitanya Lakkaraju
|Sri Sai Krishna
|307
|[[Benutzer:Frieder.Koch|Frieder Koch]]
|Hiwi
|
|-
|
|Deutchoua
|Roly
|Heimarbeit
|[[Benutzer:Jan.Meiser|Jan Meiser]]
|Hiwi
|Ende: 31.10.2014
|-
|
|Rosenberger
|Ralf
|326
|[[Benutzer:Kira.Koehnle|Kira Köhnle]],[[Benutzer:Daria.Kohler|Daria Kohler]],Jörg Pfeifle
|Diplomand (Physik)
|Ende: 31.08.2015
|-
|
|Vijayan
|Kovendhan
|307
|[[Benutzer:Kira.Koehnle|Kira Köhnle]]
|KSOP Praktikum
|Ende: 31.10.2014
|-
|
|ABOBEIH
|Mohamed Hamed
|307
|[[Benutzer:Kira.Koehnle|Kira Köhnle]]
|KSOP Praktikum
|Ende: 15.10.2014
|-}

[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

User:Kira.Koehnle

2014-05-16T11:23:54Z

Kira.Koehnle: /* Weitere Aufgaben am IMT */

==Kira Köhnle==

[[Datei:Kira_Koehnle_Passfoto.jpg|rahmenlos|links|]]

'''Funktionsbereich''': F&E3-TN

'''Raum''': 222

'''Telefon''': 29239

'''e-mail''': kira.koehnle@kit.edu

==Promotion==
* Doktorand am IMT seit: April 2012
* Thema: Nanophotonische und nanoplasmonische Bauteile und deren Herstellung
* Unterthemen:
** Herstellung und Charakterisierung von "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Herstellung von Ringresonatoren in Siliziumnitrid
** Einführung Negativlack für Elektronenstrahllithographie am IMT
** Proximity-Korrektur-Strategie
** Herstellung plasmonischer MZ-Modulatoren
* Bisherige Studenten
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - März bis Juni 2013
** Ibrahim Kharrat (Internship - Sommer 2013
* Veröffentlichungen: --
* Teilnahme an Konferenzen, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14. - 15. März 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)
** Oxford Usermeeting 2013 an der TU München
** Genisys Beammeeting in Freiburg (2014)

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===

==== Fertigungsmittel ====
* [[HMDS-Ofen Star-2000]]
* [[Spincoater (OPTIcoat ST22+)]]
* [[VISTEC_VB6]] (nicht im Problemfall, nur wenn's läuft)
* Ultraschall- und Megaschall
* Plasmaverascher 4TEC
* Ofen für hohe Temperaturen in Bau 321 (Oxidation von Silizium bei 900-1000°C)

==== Prüfmittel ====
* Dektac
* Tencor
* Lichtmikroskop neben REM
* Supra-REM
* Ellipsometer (Reinraum und Bau 321)

=== Prozesse ===
* Elektronenstrahllithographie (komplette Prozesskette)
* Spin-coating, speziell von kleinen Chips [[Aufschleudern/Spin coating]]
* Trockenätzen für Silizium und Siliziumnitrid
* Schwefelsäure
* Reinigungsprozesse

=== Software ===
* CST Microwavestudio (Simulation von Wellenleiterstrukturen)
* Phoenix Mask Engineer (Design von photonischen Bauteilen)
* Inkscape

== Weitere Aufgaben am IMT ==
* Ehemaliger Doggiesprecher zusammen mit [[Benutzer:Radwanul.Siddique | Radwan]]

==English version==

*With the institute since April 2012
*Topic: Nanophotonic and nanoplasmonic devices and their fabrication
* Subtopics:
** Fabrication and characterization of "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Fabrication of ring resonators in silicon-rich silicon nitride
** Testing of negative resists for the IMT
** Proximity correction mechanism
*Students
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - March to June 2013
*Papers: --
*Konferences, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14-15. March 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

[[Category:Doktoranden - PhD_Students]]
[[Category:F&E3-TN]]
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

User:Kira.Koehnle

2014-05-16T11:23:24Z

Kira.Koehnle: /* Promotion */

==Kira Köhnle==

[[Datei:Kira_Koehnle_Passfoto.jpg|rahmenlos|links|]]

'''Funktionsbereich''': F&E3-TN

'''Raum''': 222

'''Telefon''': 29239

'''e-mail''': kira.koehnle@kit.edu

==Promotion==
* Doktorand am IMT seit: April 2012
* Thema: Nanophotonische und nanoplasmonische Bauteile und deren Herstellung
* Unterthemen:
** Herstellung und Charakterisierung von "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Herstellung von Ringresonatoren in Siliziumnitrid
** Einführung Negativlack für Elektronenstrahllithographie am IMT
** Proximity-Korrektur-Strategie
** Herstellung plasmonischer MZ-Modulatoren
* Bisherige Studenten
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - März bis Juni 2013
** Ibrahim Kharrat (Internship - Sommer 2013
* Veröffentlichungen: --
* Teilnahme an Konferenzen, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14. - 15. März 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)
** Oxford Usermeeting 2013 an der TU München
** Genisys Beammeeting in Freiburg (2014)

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===

==== Fertigungsmittel ====
* [[HMDS-Ofen Star-2000]]
* [[Spincoater (OPTIcoat ST22+)]]
* [[VISTEC_VB6]] (nicht im Problemfall, nur wenn's läuft)
* Ultraschall- und Megaschall
* Plasmaverascher 4TEC
* Ofen für hohe Temperaturen in Bau 321 (Oxidation von Silizium bei 900-1000°C)

==== Prüfmittel ====
* Dektac
* Tencor
* Lichtmikroskop neben REM
* Supra-REM
* Ellipsometer (Reinraum und Bau 321)

=== Prozesse ===
* Elektronenstrahllithographie (komplette Prozesskette)
* Spin-coating, speziell von kleinen Chips [[Aufschleudern/Spin coating]]
* Trockenätzen für Silizium und Siliziumnitrid
* Schwefelsäure
* Reinigungsprozesse

=== Software ===
* CST Microwavestudio (Simulation von Wellenleiterstrukturen)
* Phoenix Mask Engineer (Design von photonischen Bauteilen)
* Inkscape

== Weitere Aufgaben am IMT ==
* Aktueller Doggiesprecher zusammen mit [[Benutzer:Radwanul.Siddique | Radwan]]

==English version==

*With the institute since April 2012
*Topic: Nanophotonic and nanoplasmonic devices and their fabrication
* Subtopics:
** Fabrication and characterization of "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Fabrication of ring resonators in silicon-rich silicon nitride
** Testing of negative resists for the IMT
** Proximity correction mechanism
*Students
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - March to June 2013
*Papers: --
*Konferences, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14-15. March 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

[[Category:Doktoranden - PhD_Students]]
[[Category:F&E3-TN]]
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

Sicherheitseinweisung/Safety Instruction

2014-03-05T15:56:52Z

Kira.Koehnle: FB geändert

==Trainings==

Each employee should attend the following trainings:

* Once a year: "Allgemeine Sicherheitsschulung" of Mr. Guttmann, takes place quarter yearly
* Once a year: Job-related safety instruction (e.g. for the liquid nitrogen, for the etching machine, for each lab)
* If the employee doesn't speak German: The English "IMT Safety Instruction" when he/she starts at the IMT

==English Safety Instruction==

The PDF can be found here: [[Media:20131216_IMT_Safety_Instructions.pdf|IMT Safety Instruction]]

===How to use it (as a supervisor of a new employee/student)===

# Download or open the PDF.
# Look through the presentation together with your employee/student.
# Ask for questions.
# Test if your employee/student understood the presentation by asking test questions.
# Fill out Formblatt FB 802 [J:\iso9001\QW\QM-DOK\_Formblaetter (FB)\800\FB802.00_Schul-Nachweis-englisch-GeneralSafetyInstruction.doc] and give it to Mrs. Schmolka.

[[Kategorie:AC]]
[[Kategorie:Allgemeines]]
[[Kategorie:Sicherheit und Abfallentsorgung]]

Studentische Arbeitsverträge

2013-12-16T16:53:43Z

Kira.Koehnle: Formatierung, Rechtschreibfehler

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

==Allgemein==

Diese Information gilt nicht für Studierende, die im Rahmen einer Lehrveranstaltung am IMT sind (Mikrosystemtechnik-Praktikum, Prüfungen, Exkursionen oder Vorlesungen). Für alle anderen sind vom Betreuer drei Schritte, nach Möglichkeit in dieser Reihenfolge, zu erledigen.

# Interne Genehmigung, Klärung der Rahmenbedingungen und Daten: Interner Laufzettel für studentische Arbeiten (Word - IMT - diverse Formulare)

# Klärung der Vertragsgestaltung und Beschaffung aller erforderlichen Dokumente, Vertragsschluss

# Einweisung des neuen Studierenden, erste Sicheitsunterweisungen (anhand der Checkliste Studenten die von Herrn Klein an den Betreuer übergeben wird)

Dabei sind die Punkte 1 und 3 immer gleich und wichtig, aber nur selten inhaltlich oder zeitlich problematisch (naja, bis auf die Tatsache, dass der interne Laufzettel oft recht spät gestartet wird).

Daher im Folgenden ein paar Daten zum Vertragsschluss mit Studierenden:

==Wichtige Informationen==
* Kein Studierender arbeitet am IMT ohne Zuordnung zu einem IMT-Projekt, keiner ohne einen Betreuer und keiner ohne einen Vertrag.

* Alle Verträge werden gemeinsam mit den Betreuern vorbereitet und vom FBL-AC bei PSE beantragt oder direkt ausgefertigt.

* Die Durchlaufzeiten und damit der notwendige Vorlauf können zum Teil etwas variieren, die hier genannten Zeiten sind dabei von "das kann grad so klappen" bis "mit diesem Vorlauf kann eigentlich nichts schief gehen". Diese Zeiten beginnen erst zu laufen, wenn wirklich alle Unterlagen da sind und in Ordnung. Dabei gibt es zwei Kriterien und damit 4 denkbare Fälle:
** Uni-Vertrag ohne Bezahlung: 0 Tage bis 0 Tage
** Uni-Vertrag mit Bezahlung: 14 Tage bis 14 Tage
** Nord-Vertrag ohne Bezahlung: 1 bis 2 Wochen
** Nord-Vertrag mit Bezahlung: 2 bis 4 Wochen.

[[Kategorie:Allgemeines]][[Kategorie:Papierkram_-_Paperwork]]

Studentische Arbeitsverträge

2013-12-16T16:49:40Z

Kira.Koehnle:

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

Zunächst: Diese Information gilt nicht für Studierende, die im Rahmen einer Lehrveranstaltung am IMT sind (Mikrosystemtechnik-Praktikum, Prüfungen, Exkursionen oder Vorlesungen). Für alle anderen sind vom Betreuer drei Schritte, nach Möglichkeit in dieser Reihenfolge, zu erledigen.

1. Interne Genehmigung, Klärung der Rahmenbedingungen und Daten: Interner Laufzettel für studentische Arbeiten
(Word - IMT - diverse Formulare)

2. Klärung der Vertragsgestaltung und Beschaffung aller erforderlichen Dokumente, Vertrtagsschluss

3. Einweisung des neuen Studierenden, erste Sicheitsunterweisungen (ahand der Checkliste Studenten die von Herrn Klein an den Betreuer übergeben wird)

Dabei sind die Punkte 1 und 3 immer gleich und wichtig, aber nur selten inhaltlich oder zeitlich problematisch (naja, bis auf die Tatsache, dass der interne laufzettel oft recht spät gestratet wird).

Daher im Folgenden ein paar Daten zum Vertragsschluss mit Studierenden:

Wichtig: Kein Studierender arbeitet am IMT ohne zuordnung zu einem IMT-Projekt, keiner ohne einen Betreuer und keiner ohne einen Vertrag.

Alle Verträge werden gemeinsam mit den Betreuern vorbereitet und vom FBL-AC bei PSE beantragt oder direkt ausgefertigt.

Die Durchlaufzeiten und damit der notwendige Vorlauf können zum Teil etwas variieren, die hier genannten Zeiten sind dabei von "das kann grad so klappen" bis "mit diesem Vorlauf kann eigentlich nichts schief gehen". Diese Zeiten beginnen erst zu laufen, wenn wirklich alle Unterlagen da sind und in Ordnung. Dabei gibt es zwei Kriterien und damit 4 denkbare Fälle:

Uni-Vertrag ohne Bezahlung: 0 Tage bis 0 Tage
Uni-Vertrag mit Bezahlung: 14 Tage bis 14 Tage
Nord-Vertrag ohne Bezahlung: 1 bis 2 Wochen
Nord-Vertrag mit Bezahlung: 2 bis 4 Wochen.

[[Kategorie:Allgemeines]][[Kategorie:Papierkram_-_Paperwork]]

Reinraumregeln/English

2013-12-16T16:48:44Z

Kira.Koehnle:

[[Datei:RR_Einkleidung_Blau.jpg|150px|thumb|left|Blue Overalls and hood for the team]]
[[Datei:Reinraumkleidung_Wei%C3%9F.jpg|150px|thumb|right|Clothing for users]]
== Clothing in the cleanroom ==

* The cleanroom team wear blue overalls and hoods.
* All the other users wear white overalls and paper hoods.
* Masks are only necessary with critical processes like spincoating or if one has a beard.

== Ground rules in the cleanroom ==

* Always wear appropriate gloves and a mask if necessary!
* Be careful with your samples, be aware of particles, dirt and avoid finger prints!
* Leave your working place always cleared up and clean! Substrates and chemicals must be removed and restored.
* Experiments should always be checked with the a responsible person. Chemicals have to be labeled and the experimental setup has to be marked with a date and the name of the user!
* Substrates must always be accompanied by its documents!
* Don't move to fast in the cleanroom and don't make hasty moves.
* Eating, drinking and taking medicine are not allowed in any lab, especially in the cleanroom!
* Only use the special cleanroom paper in the cleanroom!

== Safety rules in the cleanroom ==
[[Datei:Sicherheitseinrichtungen02.jpg|150px|thumb|right|]]

* The IMT cleanroom is a high hazard lab (Labor mit erhöhter Gefährung). That means that you are only allowed to work in the cleanroom between 6 am and 7 pm.
* If you want to work alone you have to follow the rules (see Betriebsanweisung Alleinarbeit).
* To keep this "high hazard" lab status, we need to minimize dangers by toxic/poisonous chemicals and the dangerous tools.
* We only want to use harmless chemicals. Toxic/poisonous chemicals, chemicals which harm the environment and carcinogenic chemicals are prohibited or are only allowed to use by specially instructed employees who follow the respective safety behaviour.
* For each new chemical you want to use in the cleanroom, the lab supervisor must be informed and he/she will decide whether you are allowed to bring it into the cleanroom.

== Restrictions ==

[[Kategorie:Allgemeines]]

Reinraumregeln/English

2013-12-16T16:42:47Z

Kira.Koehnle:

Reinraumregeln/English

2013-12-16T16:41:44Z

Kira.Koehnle:

[[Datei:RR_Einkleidung_Blau.jpg|150px|thumb|left|Blue Overalls and hood for the team]]
[[Datei:Reinraumkleidung_Wei%C3%9F.jpg|150px|thumb|right|Clothing for users]]
== Clothing in the cleanroom ==

* The cleanroom team wear blue overalls and hoods.
* All the other users wear white overalls and paper hoods.
* Masks are only necessary with critical processes like spincoating or if one has a beard.

== Ground rules in the cleanroom ==

* Always wear appropriate gloves and a mask if necessary!
* Be careful with your probes, be aware of particles, dirt and avoid finger prints!
* Leave your working place always cleared up and clean! Substrates and chemicals must be removed and restored.
* Experiments should always be checked with the a responsible person. Chemicals have to be labeled and the experimental setup has to be marked with a date and the name of the user!
* Substrates must always be accompanied by its documents!
* Don't move to fast in the cleanroom and don't make hasty moves.
* Eating, drinking and taking medicine are not allowed in any lab, especially in the cleanroom!
* Only use the special cleanroom paper in the cleanroom!

== Safety rules in the cleanroom ==
[[Datei:Sicherheitseinrichtungen02.jpg|150px|thumb|right|]]

* The IMT cleanroom is a high hazard lab (Labor mit erhöhter Gefährung). That means that you are only allowed to work in the cleanroom between 6 am and 7 pm.
* If you want to work alone you have to follow the rules (see Betriebsanweisung Alleinarbeit).
* To keep this "high hazard" lab status, we need to minimize dangers by toxic/poisonous chemicals and the dangerous tools.
* We only want to use harmless chemicals. Toxic/poisonous chemicals, chemicals which harm the environment and carcinogenic chemicals are prohibited or are only allowed to use by specially instructed employees who follow the respective safety behaviour.
* For each new chemical you want to use in the cleanroom, the lab supervisor must be informed and he/she will decide whether you are allowed to bring it into the cleanroom.

== Restrictions ==

Reinraumregeln

2013-12-16T16:27:03Z

Kira.Koehnle:

[[Kategorie:Allgemeines]]
[[{{PAGENAME}}/English | English Version]]


[[Datei:RR_Einkleidung_Blau.jpg|150px|thumb|left|Reinraumkleidung des Reinraumteams]]
[[Datei:Reinraumkleidung_Wei%C3%9F.jpg|150px|thumb|right|Reinraumkleidung der User]]
== Reinraumkleidung ==

'''Die Mitarbeiter des Reinraumteams tragen im Reinraum blaue Overalls und Hauben. Die sonstigen Nutzer des Reinraums tragen weiße Overalls und Einweghauben. Mundschutz zu tragen ist nicht obligatorisch, sondern sollte nur im Bedarfsfall bei kritischen Prozessen wie Spincoating getragen werden. Bartträger müssen immer Mundschutz tragen.
'''

== Grundregeln im Reinraum ==

* Grundsätzlich im Reinraum Handschuhe und falls erforderlich Mundschutz tragen!

* Auf saubere Handhabung der Substrate achten, Verunreinigungen, Partikel und Fingerabdrücke vermeiden!

* Den Arbeitsplatz stets aufgeräumt und gesäubert hinterlassen! Substrate und Chemikalien müssen weggeräumt werden.

* Versuche dürfen nur in Absprache mit dem Reinraumverantwortlichen aufgebaut werden und müssen mit Name und Datum gekennzeichnet sein!

* Substrate und Dokumente müssen einer Laufkarte oder einem Mitarbeiter zuzuordnen sein!

* Schnelles Gehen und hektische Bewegungen unbedingt vermeiden.

* Der Verzehr sowie die Mitnahme von Speisen, Getränken, Genussmitteln oder Medikamenten ist verboten!

* Für die Dokumentation darf nur spezielles Reinraumpapier verwendet werden!

== Sicherheit im Reinraum ==
[[Datei:Sicherheitseinrichtungen02.jpg|150px|thumb|right|]]

'''Der Reinraum des IMT ist ein Labor mit erhöhter Gefährdung (s.a. Betriebsanweisung Alleinarbeit). Das heißt, dass z.B. tagsüber zwischen 6:00 und 19:00 Uhr auch alleine gearbeitet werden kann. Das erfordert aber auch eine Minimierung möglicher Gefährdungen sei es durch giftige Chemikalien oder gefährliche Laborgeräte. Da im Reinraum offen mit Gefahrstoffen umgegangen wird und Dämpfe in die Umluft gelangen können, wird angestrebt nur möglichst harmlose Chemikalien zu verwenden. Giftige, umweltgefährdende oder gar krebserregende Stoffe sind verboten oder dürfen nur von speziell geschulten Mitarbeitern mit entsprechenden Sicherheitsvorkehrungen verwendet werden. Jeder neue Stoff, der im Reinraum verwendet werden soll, muss gemeldet und vom Laborverantwortlichen genehmigt werden.'''

== Einschränkungen ==

Reinraumregeln

2013-12-16T16:26:49Z

Kira.Koehnle: Fett -> Bulletpoints

Sicherheitseinweisung/Safety Instruction

2013-12-16T16:15:39Z

Kira.Koehnle: Hatte die Kategorien auf der englischen Seite vergessen

==Trainings==

Each employee should attend the following trainings:

* Once a year: "Allgemeine Sicherheitsschulung" of Mr. Guttmann, takes place quarter yearly
* Once a year: Job-related safety instruction (e.g. for the liquid nitrogen, for the etching machine, for each lab)
* If the employee doesn't speak German: The English "IMT Safety Instruction" when he/she starts at the IMT

==English Safety Instruction==

The PDF can be found here: [[Media:20131216_IMT_Safety_Instructions.pdf|IMT Safety Instruction]]

===How to use it (as a supervisor of a new employee/student)===

# Download or open the PDF.
# Look through the presentation together with your employee/student.
# Ask for questions.
# Test if your employee/student understood the presentation by asking test questions.
# Fill out Formblatt FB 804 (there might be the new FB 805 in English soon) and give it to Mrs. Schmolka.

[[Kategorie:AC]]
[[Kategorie:Allgemeines]]
[[Kategorie:Sicherheit und Abfallentsorgung]]

Category:Sicherheit und Abfallentsorgung

2013-12-16T16:15:03Z

Kira.Koehnle: Die Seite wurde geleert.

Category:Sicherheit und Abfallentsorgung

2013-12-16T16:14:32Z

Kira.Koehnle: Die Seite wurde neu angelegt: „English version“

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

Abfallentsorgung/Waste disposal

2013-12-16T16:13:59Z

Kira.Koehnle: Kategorien hinzugefügt

==Waste separation==

A guide can be downloaded here: [[Media:20131216_IMT_Waste_Disposal_101.pdf|IMT Waste Disposal 101]]

In case you have questions you can ask Mr. Gramlich (building 301, room 212.4, opening hours 9 - 10 am)

==Waste and Safety==

Information is available in the Englisch Safety Instruction: [[Media:20131216_IMT_Safety_Instructions.pdf|IMT Safety Instruction]]

[[Kategorie:Anleitungen - Instructions]][[Kategorie:AC]] [[Kategorie:Allgemeines]] [[Kategorie:Sicherheit und Abfallentsorgung]]

Abfallentsorgung

2013-12-16T16:09:49Z

Kira.Koehnle: Bildgröße angepasst, damit man auch Informationen rausholen kann.

[[{{PAGENAME}}/Waste disposal|English version]]

== Normale Abfälle ==

Normaler Abfall wie z.B. Papier, Restmüll oder auch Biomüll (Bananenschale) können, wenn es sich um kleine Mengen handelt in den Abfallbehältern wie sie in jedem Büro zu finden sind entsorgt werden. Bei größeren Mengen sollte man die Abfallbehälter im Innenhof des IMTs benutzen.

[[Datei:Abfallentsorgung.JPG|600px|thumb|center|Abfallentsorgung im Innenhof des IMTs]]

Im Abfall Depot vor 301 finden Sie all die Behältnisse, die für die normale Entsorgung vorgesehen sind [1].

== Sondermüll (Batterien..) ==

Speziellere Abfälle sind im Abstellraum Gebäude 308 Raum 308.6. Diese sind Styropor Chips(Styropor-Formteile Abfall Depot oben), alte Datenträger, leere Druckerpatronen, Flachglas und Alt-Batterien.
Wegbeschreibung: von Bau 301 kommend am Abfall Depot vorbei, Fußweg links, letzter Abstellraum 308.6 [1]

Die Entsorgung von Chemikalien und sonstigen Sondermaterialen erfolgt ausschließlich über Matthias Gramlich. [1]

== Chemieabfälle ==

Bitte beachten Sie das Infoblatt Chemieabfälle.

[1] Müll Fibel IMT; Matthias Gramlich; 2013 per Mail oder hier zum Download [[Media:Müll_Fibel_IMT.pdf|Müllfibel 2013]]

[[Kategorie:Anleitungen - Instructions]]
[[Kategorie:Allgemeines]]
[[Kategorie:Sicherheit und Abfallentsorgung]]
[[Kategorie:AC]]

Abfallentsorgung

2013-12-16T16:09:10Z

Kira.Koehnle:

[[{{PAGENAME}}/Waste disposal|English version]]

== Normale Abfälle ==

Normaler Abfall wie z.B. Papier, Restmüll oder auch Biomüll (Bananenschale) können, wenn es sich um kleine Mengen handelt in den Abfallbehältern wie sie in jedem Büro zu finden sind entsorgt werden. Bei größeren Mengen sollte man die Abfallbehälter im Innenhof des IMTs benutzen.

[[Datei:Abfallentsorgung.JPG|400px|thumb|right|Abfallentsorgung im Innenhof des IMTs]]

Im Abfall Depot vor 301 finden Sie all die Behältnisse, die für die normale Entsorgung vorgesehen sind [1].

== Sondermüll (Batterien..) ==

Speziellere Abfälle sind im Abstellraum Gebäude 308 Raum 308.6. Diese sind Styropor Chips(Styropor-Formteile Abfall Depot oben), alte Datenträger, leere Druckerpatronen, Flachglas und Alt-Batterien.
Wegbeschreibung: von Bau 301 kommend am Abfall Depot vorbei, Fußweg links, letzter Abstellraum 308.6 [1]

Die Entsorgung von Chemikalien und sonstigen Sondermaterialen erfolgt ausschließlich über Matthias Gramlich. [1]

== Chemieabfälle ==

Bitte beachten Sie das Infoblatt Chemieabfälle.

[1] Müll Fibel IMT; Matthias Gramlich; 2013 per Mail oder hier zum Download [[Media:Müll_Fibel_IMT.pdf|Müllfibel 2013]]

[[Kategorie:Anleitungen - Instructions]]
[[Kategorie:Allgemeines]]
[[Kategorie:Sicherheit und Abfallentsorgung]]
[[Kategorie:AC]]

File:Müll Fibel IMT.pdf

2013-12-16T16:08:10Z

Kira.Koehnle: Müllfibel vom Matthias Gramlich, Version 2013

Müllfibel vom Matthias Gramlich, Version 2013

Abfallentsorgung

2013-12-16T16:08:01Z

Kira.Koehnle: Link zur Müllfibel

[[{{PAGENAME}}/Waste disposal|English version]]

== Normale Abfälle ==

Normaler Abfall wie z.B. Papier, Restmüll oder auch Biomüll (Bananenschale) können, wenn es sich um kleine Mengen handelt in den Abfallbehältern wie sie in jedem Büro zu finden sind entsorgt werden. Bei größeren Mengen sollte man die Abfallbehälter im Innenhof des IMTs benutzen.

[[Datei:Abfallentsorgung.JPG|<Gewünschte Breite in Pixeln>|thumb|right|Abfallentsorgung im Innenhof des IMTs]]

Im Abfall Depot vor 301 finden Sie all die Behältnisse, die für die normale Entsorgung vorgesehen sind [1].

== Sondermüll (Batterien..) ==

Speziellere Abfälle sind im Abstellraum Gebäude 308 Raum 308.6. Diese sind Styropor Chips(Styropor-Formteile Abfall Depot oben), alte Datenträger, leere Druckerpatronen, Flachglas und Alt-Batterien.
Wegbeschreibung: von Bau 301 kommend am Abfall Depot vorbei, Fußweg links, letzter Abstellraum 308.6 [1]

Die Entsorgung von Chemikalien und sonstigen Sondermaterialen erfolgt ausschließlich über Matthias Gramlich. [1]

== Chemieabfälle ==

Bitte beachten Sie das Infoblatt Chemieabfälle.

[1] Müll Fibel IMT; Matthias Gramlich; 2013 per Mail oder hier zum Download [[Media:Müll_Fibel_IMT.pdf|Müllfibel 2013]]

[[Kategorie:Anleitungen - Instructions]]
[[Kategorie:Allgemeines]]
[[Kategorie:Sicherheit und Abfallentsorgung]]
[[Kategorie:AC]]

Abfallentsorgung/Waste disposal

2013-12-16T15:59:15Z

Kira.Koehnle: Die Seite wurde neu angelegt: „==Waste separation== A guide can be downloaded here: IMT Waste Disposal 101 In case you have questions you can ask…“

File:20131216 IMT Waste Disposal 101.pdf

2013-12-16T15:57:18Z

Kira.Koehnle: Abfallmerkblatt auf Englisch // Waste Disposal at the IMT in English

Abfallmerkblatt auf Englisch // Waste Disposal at the IMT in English

Abfallentsorgung

2013-12-16T15:54:45Z

Kira.Koehnle: Links hinzugefügt

[[{{PAGENAME}}/Waste disposal|English version]]

== Normale Abfälle ==

Normaler Abfall wie z.B. Papier, Restmüll oder auch Biomüll (Bananenschale) können, wenn es sich um kleine Mengen handelt in den Abfallbehältern wie sie in jedem Büro zu finden sind entsorgt werden. Bei größeren Mengen sollte man die Abfallbehälter im Innenhof des IMTs benutzen.

[[Datei:Abfallentsorgung.JPG|<Gewünschte Breite in Pixeln>|thumb|right|Abfallentsorgung im Innenhof des IMTs]]

Im Abfall Depot vor 301 finden Sie all die Behältnisse, die für die normale Entsorgung vorgesehen sind[1].

== Sondermüll (Batterien..) ==

Speziellere Abfälle sind im Abstellraum Gebäude 308 Raum 308.6. Diese sind Styropor Chips(Styropor-Formteile Abfall Depot oben), alte Datenträger, leere Druckerpatronen, Flachglas und Alt-Batterien.
Wegbeschreibung: von Bau 301 kommend am Abfall Depot vorbei, Fußweg links, letzter Abstellraum 308.6 [1]

Die Entsorgung von Chemikalien und sonstigen Sondermaterialen erfolgt ausschließlich über Matthias Gramlich. [1]

== Chemieabfälle ==

Bitte beachten Sie das Infoblatt Chemieabfälle.

[1] Müll Fibel IMT; Matthias Gramlich; 2013 per Mail

[[Kategorie:Anleitungen - Instructions]]
[[Kategorie:Allgemeines]]
[[Kategorie:Sicherheit und Abfallentsorgung]]
[[Kategorie:AC]]

Sicherheitseinweisung

2013-12-16T15:52:43Z

Kira.Koehnle:

[[{{PAGENAME}}/Safety Instruction|English version]]

==Sicherheitschulungen==

Jeder Mitarbeiter sollte folgende Schulungen besuchen:

* 1x im Jahr die allgemeine Sicherheitseinweisung von Hr. Guttmann (findet vierteljährlich statt)
* 1x im Jahr arbeitsplatzbezogene Sicherheitseinweisungen (z.B für die Stickstoffentnahme, jedes Labor in dem man arbeitet)
* Wenn man nicht Deutsch kann: Die neue englische "Safety Instruction" bei Arbeitsbeginn.

==Englische "Safety Instruction"==

Informationen zur englischen Sicherheitseinweisung finden Sie hier: [[{{PAGENAME}}/Safety Instruction#English Safety Instruction|English Safety Instruction]]

[[Kategorie:AC]]
[[Kategorie:Allgemeines]]
[[Kategorie:Sicherheit und Abfallentsorgung]]

Sicherheitseinweisung

2013-12-16T15:52:01Z

Kira.Koehnle:

[[{{PAGENAME}}/Safety Instruction|English version]]

Jeder Mitarbeiter sollte folgende Schulungen besuchen:

* 1x im Jahr die allgemeine Sicherheitseinweisung von Hr. Guttmann (findet vierteljährlich statt)
* 1x im Jahr arbeitsplatzbezogene Sicherheitseinweisungen (z.B für die Stickstoffentnahme, jedes Labor in dem man arbeitet)
* Wenn man nicht Deutsch kann: Die neue englische "Safety Instruction" bei Arbeitsbeginn.

Informationen zur englischen Sicherheitseinweisung finden Sie hier: [[{{PAGENAME}}/Safety Instruction#English Safety Instruction|English Safety Instruction]]

[[Kategorie:AC]]
[[Kategorie:Allgemeines]]
[[Kategorie:Sicherheit und Abfallentsorgung]]

Sicherheitseinweisung/Safety Instruction

2013-12-16T15:49:45Z

Kira.Koehnle:

==Trainings==

Each employee should attend the following trainings:

* Once a year: "Allgemeine Sicherheitsschulung" of Mr. Guttmann, takes place quarter yearly
* Once a year: Job-related safety instruction (e.g. for the liquid nitrogen, for the etching machine, for each lab)
* If the employee doesn't speak German: The English "IMT Safety Instruction" when he/she starts at the IMT

==English Safety Instruction==

The PDF can be found here: [[Media:20131216_IMT_Safety_Instructions.pdf|IMT Safety Instruction]]

===How to use it (as a supervisor of a new employee/student)===

# Download or open the PDF.
# Look through the presentation together with your employee/student.
# Ask for questions.
# Test if your employee/student understood the presentation by asking test questions.
# Fill out Formblatt FB 804 (there might be the new FB 805 in English soon) and give it to Mrs. Schmolka.

Sicherheitseinweisung/Safety Instruction

2013-12-16T15:48:59Z

Kira.Koehnle: /* English Safety Instruction */

==Trainings==

Each employee should attend the following trainings:

* Once a year: "Allgemeine Sicherheitsschulung" of Mr. Guttmann, takes place quarter yearly
* Once a year: Job-related safety instruction (e.g. for the liquid nitrogen, for the etching machine, for each lab)
* If the employee doesn't speak German: The English "IMT Safety Instruction" when he/she starts at the IMT

==English Safety Instruction {{anchor|SafetyInstr}} ==

The PDF can be found here: [[Media:20131216_IMT_Safety_Instructions.pdf|IMT Safety Instruction]]

===How to use it (as a supervisor of a new employee/student)===

# Download or open the PDF.
# Look through the presentation together with your employee/student.
# Ask for questions.
# Test if your employee/student understood the presentation by asking test questions.
# Fill out Formblatt FB 804 (there might be the new FB 805 in English soon) and give it to Mrs. Schmolka.

Sicherheitseinweisung/Safety Instruction

2013-12-16T15:43:06Z

Kira.Koehnle: Die Seite wurde neu angelegt: „==Trainings== Each employee should attend the following trainings: * Once a year: "Allgemeine Sicherheitsschulung" of Mr. Guttmann, takes place quarter yearly *…“

==Trainings==

Each employee should attend the following trainings:

* Once a year: "Allgemeine Sicherheitsschulung" of Mr. Guttmann, takes place quarter yearly
* Once a year: Job-related safety instruction (e.g. for the liquid nitrogen, for the etching machine, for each lab)
* If the employee doesn't speak German: The English "IMT Safety Instruction" when he/she starts at the IMT

==English Safety Instruction ==

The PDF can be found here: [[Media:20131216_IMT_Safety_Instructions.pdf|IMT Safety Instruction]]

===How to use it (as a supervisor of a new employee/student)===

# Download or open the PDF.
# Look through the presentation together with your employee/student.
# Ask for questions.
# Test if your employee/student understood the presentation by asking test questions.
# Fill out Formblatt FB 804 (there might be the new FB 805 in English soon) and give it to Mrs. Schmolka.

File:20131216 IMT Safety Instructions.pdf

2013-12-16T15:39:54Z

Kira.Koehnle: Englische IMT-Sicherheitseinweisung // English IMT Safety Instruction

Englische IMT-Sicherheitseinweisung // English IMT Safety Instruction

Sicherheitseinweisung

2013-12-16T15:28:54Z

Kira.Koehnle: Die Seite wurde neu angelegt: „English version Jeder Mitarbeiter sollte folgende Schulungen besuchen: * 1x im Jahr die allgemeine Sicherheitseinweisung von…“

[[{{PAGENAME}}/Safety Instruction|English version]]

Jeder Mitarbeiter sollte folgende Schulungen besuchen:

* 1x im Jahr die allgemeine Sicherheitseinweisung von Hr. Guttmann (findet vierteljährlich statt)
* 1x im Jahr arbeitsplatzbezogene Sicherheitseinweisungen (z.B für die Stickstoffentnahme, jedes Labor in dem man arbeitet)
* Wenn man nicht Deutsch kann: Die neue englische "Safety Instruction" bei Arbeitsbeginn.

[[Kategorie:AC]]
[[Kategorie:Allgemeines]]
[[Kategorie:Sicherheit und Abfallentsorgung]]

Dienstreise - Business trip

2013-09-19T13:51:54Z

Kira.Koehnle: Die Seite wurde neu angelegt: „English version ==Dienstreiseantrag bekommen== Vom Sekretariat (z.B Frau Schmolka oder Frau Seither) ==Dienstreiseantrag ausfüllen== ;…“

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

==Dienstreiseantrag bekommen==
Vom Sekretariat (z.B Frau Schmolka oder Frau Seither)

==Dienstreiseantrag ausfüllen==
; Pers.-Nr : Personalnummer
; Name, Vorname: z.B Prof. Uli Lemmer
; Anschrift: kann man auch leer lassen
; E-Mail: z.B uli.lemmer@kit.edu
; Org-Einheit: IMT
; Kostenstelle: kann man leer lassen
; Fonds: kann man leer lassen
; Diensttelefon: z.B 42530
; Bankverbindung: leer lassen
; Dienstlicher Anreisetag/Rückreisetag: z.B "Es fängt um 7 Uhr morgens am nächsten Tag an und du willst nicht den Nachtzug nehmen, dann kannst du auch ganz locker am Tag vorher anreisen" -> dann musst du hier einen Tag vorher angeben
; Reiseziel: Da wo du hinwillst.
; Beginn der Dienstgeschäfte: Wann fängt deine Sitzung/Konferenz/Meeting an?
; Begründung: z.B Workship Oxford Instruments / DFG Tagung / Gruppentreffen Uni Heidelberg
; Projekt/Auftrag/Kostenträger/(EU-)Vertragsnummer: Herr Moritz fragen!

=== Abschnitt Reiseplanung===
* Falls man da nix ankreuzt, dann wird davon ausgegangen, dass man mit dem öffentlichen Verkehr fährt und sich selbst um die Tickets, Hotels, usw. kümmert.
* Meiner Meinung nach lohnt es sich die Tickets vom Reisebüro ausdrucken zu lassen, weil man sie dann nicht auslegen muss.
* Man kann bis zu 5 private Tage (Urlaubstage) ohne Begründung an eine Dienstreise ranhängen. Wie wär's mit einer Konferenz in London?

====Bahntickets beantragen====
# "JA" auf dem Dienstreiseantrag ausfüllen. Der Dienstreiseantrag wird dann ans Reisebüro weitergeleitet.
# Raussuchen, wann du fahren willst. Die am Reisebüro sind zu blöd die Verbindungen rauszusuchen.
#* Formular für das Reisebüro neben Kantine ausfüllen. [http://www.pse.kit.edu/dienstreise/dienstreise.php Formular vom PSE]
#* Alternativ einfach hingehen und dann machen die das auch so.
# Ab 2h Reisedauer darf man 1. Klasse fahren.

====Flugtickets beantragen====
* Vermutlich so wie Bahntickets. Hab aber nicht so wirklich Ahnung. Ergänzung an dieser Stelle erwünscht.

====Dienstwagen beantragen====
* KIT-Führerschein benötigt. Dafür braucht man einen vom Institutsleiter unterschriebenen Antrag (Sekretariat) und einen normalen Führerschein.
* "JA" bei Dienstwagen ankreuzen, Begründung schreiben z.B. Wir fahren zu viert nach Freiburg und haben viel Gepäck. Es ist billiger fürs KIT uns ein Auto zu stellen.
* Fahrdienstauftrag im SAP-System machen. Kosten: Null (0) Euro. Ganz wichtig, sonst leitet es Hr. Moritz nicht weiter.
* Bei Fahrdienst nachfragen, ob die es auch bekommen haben. (z.B Gerd Nagel: gerd.nagel@kit.edu, -25110). Die sind alle schon ein wenig älter, deshalb ist anrufen besser.

====Hotels buchen====
Kein Hotel buchen von dem man sich nicht sicher ist, dass man es erstattet bekommt!
* Man kann entweder Hotels aus der Hotelliste vom "BUND" buchen: [http://www.pse.kit.edu/1075.php Hotellisten vom PSE]
* Tagungshotel, kann man auch in Absprache mit Hr. Moritz buchen, wenn es teurer ist wie normal.
* ev. Hotels, die billiger sind als ??€ (bitte jemand nachtragen, der das weiß)

==Dienstreise abrechnen==
# Alles kopieren. Es verschwindet scheinbar manchmal was.
# Den zweiten Teil vom Dienstreiseantrag ausfüllen und unterschreiben lassen.
# Zum PSE schicken.
# Warten. Falls nix überwiesen wird, dann nachfragen.

[[Kategorie:Papierkram - Paperwork]]

Kleberoboter/English

2013-07-09T14:52:28Z

Kira.Koehnle: Die Seite wurde neu angelegt: „{{ers:Geräte-Devices/English}}“

[[File:<File name>|<Display width in pixel>|thumb|right|<Figure caption>]]

'''Device name:'''

'''Operator/Responsible for this device:'''

'''Position:'''

'''Device designation:'''

'''Specifiaction number:'''


== Short Description ==

== Alternatives ==
Are there other devices at IMT with the same or a similar application? Please name them and their differences or similarities, and link them here. YOu can find the correct link name in the [[Prüfmittel_Liste_-_List_of_Measurement_Devices| list of measurement devices]] or in the [[Liste der Fertigungsmittel - List of Manufacturing Equipment| list of fabrication devices]].

== Device Specifications ==
(Additional) equipment and functions, e.g. process gasses, wavelengths, resolution, smallest achievable feature size
(Zusätzliche) Ausstattung und Funktionen, z.B. Prozessgase, Wellenlängen, Auflösung, Strukturdimensionen

== Established Processes ==
Which processes have been compelted successfully with this device, what materials have been structured, testet or processed?
Please don't enter any process parameters and sensible details into the wiki, but add the path to J: network drive where the detaisl are described or link a user who knows about the process.

== Restrictions ==
What can not and/or should not be done with the device, i.e. are there materials that could impair the performance of the device if they are structured with, e.g. nickel inside the RIE? Are there other precautions that have to be taken for sample preparation?

== Instructed Users ==
Persons who have recieved an instruction and thus are allowed to operate the device.
Please create a list and link them to the user profiles:
* [[Benutzer:Vorname.Nachname | Nachname, Vorname]]

OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)

2013-07-09T14:50:19Z

Kira.Koehnle: Erstellung und Bearbeitung der Geräteseite

[[{{PAGENAME}}/English | English Version]]


[[Datei:OxfordCluster_Anlage_small.png‎|500px|thumb|right|Plasmaätzanlage]]

'''Gerätebezeichnung:''' XXXXXXXX

'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' A. Muslija, D. Häringer

'''Standort:''' Reinraum, genauerer Ort?

'''Prüfmittel-/Fertigungsmittelnummer:''' XXXX

'''Spezifikations-Nummer:''' SP-XXXX

== Kurzbeschreibung ==
Kann ICP - Ätzen und RIE-Ätzen. Und die RIE-Stage kann gekippt werden. Dafür kann die ICP höhere Leistungen in der getrennten ICP-Stufe.
[http://www.knmf.kit.edu/img/KNMF_Dry_Etching.pdf KMNF-Geräteinfo]

== Alternativen ==
*[[4-TEC Plasmaätzer]]
*[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford ]]
*Oxfordanlage am CFN

Gibt es andere Geräte, die gleiche oder ähnliche Funktion haben/Prozesse durchführen können? Bitte hier benennen und verlinken. Den korrekten Namen der Wiki-Seite des zu verlinkenden Geräts findet sich in der [[Prüfmittel_Liste_-_List_of_Measurement_Devices| Prüfmittel Liste]] oder der [[Liste der Fertigungsmittel - List of Manufacturing Equipment|Liste der Fertigungsmittel]].

== Spezifikationen des Geräts ==
*SF6
*O2
*N2
*CHF3
*BCL3
*CL2
*Argon
*in Zukunft auch HBr (für flache Siliziumätzungen)

(Zusätzliche) Ausstattung und Funktionen, z.B. Prozessgase, Wellenlängen, Auflösung, Strukturdimensionen

== Etablierte Prozesse ==
*Cryoprozess (Silizium(tief)ätzen) (Muslija)
*Unterätzen von Silizium oder Siliziumdioxid (Lay)
*Siliziumnitridätzen in der Entwicklung (Köhnle)
*Glasätzen in der Entwicklung (Häringer)
*... (Hr. Muslija oder Dr. Häringer fragen).

Welche Prozesse wurden erfolgreich mit diesem Gerät durchgeführt, welche Materialien wurden mit dem Gerät strukturiert, geprüft, verarbeitet? Bitte keine Prozessparameter und sensible Details in die Wiki eintragen, stattdessen Hinweise, wo man diese finden oder erfragen kann (z.B. Pfad zu Dokument im J: Laufwerk).

== Einschränkungen ==
*Bei der RIE dürfen Metalle geätzt werden, bei der ICP nicht.
*Siliziumsubstrate sind erlaubt. Andere Substrate nur in Absprache mit der Gerätebetreuung.

Welche Prozesse lassen sich mit dem Gerät nicht durchführen oder würden die Funktion des Gerätes beeinträchtigen?

== Eingewiesene Nutzer ==
Personen bitte immer mit [[Benutzer:Vorname.Nachname | Nachname, Vorname]] verknüpfen.

*[[Benutzer:Alban.Muslija | Muslija, Alban]]
*[[Benutzer:Daniel.Häringer| Häringer, Daniel]]
*[[Benutzer:Lay.Christian | Lay, Christian ]]
*[[Benutzer:Julian.Hartbaum | Hartbaum , Julian]]
*[[Benutzer:Kira.Koehnle| Köhnle, Kira]]

[[Kategorie:Geräte - Devices]]

File:OxfordCluster Anlage small.png

2013-07-09T14:48:38Z

Kira.Koehnle: Oxford ICP-RIE Anlage

Oxford ICP-RIE Anlage

4-TEC Plasmaätzer

2013-07-09T14:27:10Z

Kira.Koehnle:

[[{{PAGENAME}}/English | English Version]]


[[Datei:platzhalter.jpg|250px|thumb|right|<Bildunterschrift>]]

'''Gerätebezeichnung:''' XXXXXXXX

'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' Köhler

'''Standort:''' XXXX

'''Prüfmittel/Fertigungsnummer:''' XXXX

'''Spezifikations-Nummer:''' SP-XXXX

== Kurzbeschreibung ==
Plasmaverascher, ca. 20 nm/min PMMA-Abtrag

== Alternativen ==
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]
*[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]]

Gibt es andere Geräte, die gleiche oder ähnliche Funktion haben/Prozesse durchführen können? Bitte hier benennen und verlinken. Den korrekten Namen der Wiki-Seite des zu verlinkenden Geräts findet sich in der [[Prüfmittel_Liste_-_List_of_Measurement_Devices| Prüfmittel Liste]] oder der [[Liste der Fertigungsmittel - List of Manufacturing Equipment|Liste der Fertigungsmittel]].

== Spezifikationen des Geräts ==
Prozessgase: O2, N2

(Zusätzliche) Ausstattung und Funktionen, z.B. Prozessgase, Wellenlängen, Auflösung, Strukturdimensionen

== Etablierte Prozesse ==
*Reinigung von Substraten
*Strippen von Resist (PMMA)

Welche Prozesse wurden erfolgreich mit diesem Gerät durchgeführt, welche Materialien wurden mit dem Gerät strukturiert, geprüft, verarbeitet? Bitte keine Prozessparameter und sensible Details in die Wiki eintragen, stattdessen Hinweise, wo man diese finden oder erfragen kann (z.B. Pfad zu Dokument im J: Laufwerk).

== Einschränkungen ==
Nicht über Nacht die Gase anlassen!! Falls man das Gerät mal programmieren muss (HF-Einheit), dann kann man [[Benutzer:Kira.Koehnle | Köhnle, Kira ]] kontaktieren.

Welche Prozesse lassen sich mit dem Gerät nicht durchführen oder würden die Funktion des Gerätes beeinträchtigen?

== Eingewiesene Nutzer ==
Personen bitte immer mit [[Benutzer:Vorname.Nachname | Nachname, Vorname]] verknüpfen.

[[Benutzer:Kira.Koehnle | Köhnle, Kira ]]

[[Kategorie:Geräte - Devices]]
[[Kategorie:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment]]

OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)

2013-07-09T14:16:07Z

Kira.Koehnle: Die Seite wurde neu angelegt: „{{ers:Geräte-Devices}}“

4-TEC Plasmaätzer

2013-07-09T14:13:38Z

Kira.Koehnle: Beschreibung überarbeitet

[[{{PAGENAME}}/English | English Version]]


[[Datei:platzhalter.jpg|250px|thumb|right|<Bildunterschrift>]]

'''Gerätebezeichnung:''' XXXXXXXX

'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' Köhler

'''Standort:''' XXXX

'''Prüfmittel/Fertigungsnummer:''' XXXX

'''Spezifikations-Nummer:''' SP-XXXX

== Kurzbeschreibung ==
Plasmaverascher, ca. 20 nm/min PMMA-Abtrag

== Alternativen ==
*[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]]
*[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]]

Gibt es andere Geräte, die gleiche oder ähnliche Funktion haben/Prozesse durchführen können? Bitte hier benennen und verlinken. Den korrekten Namen der Wiki-Seite des zu verlinkenden Geräts findet sich in der [[Prüfmittel_Liste_-_List_of_Measurement_Devices| Prüfmittel Liste]] oder der [[Liste der Fertigungsmittel - List of Manufacturing Equipment|Liste der Fertigungsmittel]].

== Spezifikationen des Geräts ==
Prozessgase: O2, N2

(Zusätzliche) Ausstattung und Funktionen, z.B. Prozessgase, Wellenlängen, Auflösung, Strukturdimensionen

== Etablierte Prozesse ==
*Reinigung von Substraten
*Strippen von Resist (PMMA)

Welche Prozesse wurden erfolgreich mit diesem Gerät durchgeführt, welche Materialien wurden mit dem Gerät strukturiert, geprüft, verarbeitet? Bitte keine Prozessparameter und sensible Details in die Wiki eintragen, stattdessen Hinweise, wo man diese finden oder erfragen kann (z.B. Pfad zu Dokument im J: Laufwerk).

== Einschränkungen ==
Nicht über Nacht die Gase anlassen!! Falls man das Gerät mal programmieren muss (HF-Einheit), dann kann man [[Benutzer:Kira.Koehnle]] kontaktieren.

Welche Prozesse lassen sich mit dem Gerät nicht durchführen oder würden die Funktion des Gerätes beeinträchtigen?

== Eingewiesene Nutzer ==
Personen bitte immer mit [[Benutzer:Vorname.Nachname | Nachname, Vorname]] verknüpfen.

[[Benutzer:Kira.Koehnle]]

[[Kategorie:Geräte - Devices]]
[[Kategorie:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment]]

User:Kira.Koehnle

2013-04-16T08:20:26Z

Kira.Koehnle: /* Kira Köhnle */

==Kira Köhnle==

[[Datei:Kira_Koehnle_Passfoto.jpg|rahmenlos|links|]]

'''Fachbereich''': F&E7

'''Raum''': 222

'''Telefon''': 29239

'''e-mail''': kira.koehnle@kit.edu

==Promotion==
* Doktorand am IMT seit: April 20112
* Thema: Nanophotonische und nanoplasmonische Bauteile und deren Herstellung
* Unterthemen:
** Herstellung und Charakterisierung von "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Herstellung von Ringresonatoren in Siliziumnitrid
** Einführung Negativlack für Elektronenstrahllithographie am IMT
** Proximity-Korrektur-Strategie
* Bisherige Studenten
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - März bis Juni 2013
* Veröffentlichungen: Noch keine
* Teilnahme an Konferenzen, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14. - 15. März 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===

==== Fertigungsmittel ====
* [[HMDS-Ofen Star-2000]]
* [[Spincoater (OPTIcoat ST22+)]]
* [[VISTEC_VB6]] (nicht im Problemfall, nur wenn's läuft)
* Ultraschall- und Megaschall
* Plasmaverascher 4TEC
* Ofen für hohe Temperaturen in Bau 321 (Oxidation von Silizium bei 900-1000°C)

==== Prüfmittel ====
* Dektac
* Tencor
* Lichtmikroskop neben REM
* Supra-REM
* Ellipsometer (Reinraum und Bau 321)

=== Prozesse ===
* Elektronenstrahllithographie (komplette Prozesskette)
* Spin-coating, speziell von kleinen Chips [[Aufschleudern/Spin coating]]
* Trockenätzen für Silizium und Siliziumnitrid
* Schwefelsäure
* Reinigungsprozesse

=== Software ===
* CST Microwavestudio (Simulation von Wellenleiterstrukturen)
* Phoenix Mask Engineer (Design von photonischen Bauteilen)
* Inkscape

== Weitere Aufgaben am IMT ==
* Aktueller Doggiesprecher zusammen mit [[Benutzer:Radwanul.Siddique | Radwan]]

==English version==

*With the institute since April 2012
*Topic: Nanophotonic and nanoplasmonic devices and their fabrication
* Subtopics:
** Fabrication and characterization of "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Fabrication of ring resonators in silicon-rich silicon nitride
** Testing of negative resists for the IMT
** Proximity correction mechanism
*Students
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - March to June 2013
*Papers: --
*Konferences, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14-15. March 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

[[Category:Doktoranden - PhD_Students]]
[[Category:FuE7]]
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

User:Kira.Koehnle

2013-04-16T08:19:56Z

Kira.Koehnle: /* Kira Köhnle */

==Kira Köhnle==
'''Fachbereich''': F&E7

'''Raum''': 222

'''Telefon''': 29239

'''e-mail''': kira.koehnle@kit.edu

[[Datei:Kira_Koehnle_Passfoto.jpg|rahmenlos|links|]]

==Promotion==
* Doktorand am IMT seit: April 20112
* Thema: Nanophotonische und nanoplasmonische Bauteile und deren Herstellung
* Unterthemen:
** Herstellung und Charakterisierung von "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Herstellung von Ringresonatoren in Siliziumnitrid
** Einführung Negativlack für Elektronenstrahllithographie am IMT
** Proximity-Korrektur-Strategie
* Bisherige Studenten
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - März bis Juni 2013
* Veröffentlichungen: Noch keine
* Teilnahme an Konferenzen, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14. - 15. März 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===

==== Fertigungsmittel ====
* [[HMDS-Ofen Star-2000]]
* [[Spincoater (OPTIcoat ST22+)]]
* [[VISTEC_VB6]] (nicht im Problemfall, nur wenn's läuft)
* Ultraschall- und Megaschall
* Plasmaverascher 4TEC
* Ofen für hohe Temperaturen in Bau 321 (Oxidation von Silizium bei 900-1000°C)

==== Prüfmittel ====
* Dektac
* Tencor
* Lichtmikroskop neben REM
* Supra-REM
* Ellipsometer (Reinraum und Bau 321)

=== Prozesse ===
* Elektronenstrahllithographie (komplette Prozesskette)
* Spin-coating, speziell von kleinen Chips [[Aufschleudern/Spin coating]]
* Trockenätzen für Silizium und Siliziumnitrid
* Schwefelsäure
* Reinigungsprozesse

=== Software ===
* CST Microwavestudio (Simulation von Wellenleiterstrukturen)
* Phoenix Mask Engineer (Design von photonischen Bauteilen)
* Inkscape

== Weitere Aufgaben am IMT ==
* Aktueller Doggiesprecher zusammen mit [[Benutzer:Radwanul.Siddique | Radwan]]

==English version==

*With the institute since April 2012
*Topic: Nanophotonic and nanoplasmonic devices and their fabrication
* Subtopics:
** Fabrication and characterization of "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Fabrication of ring resonators in silicon-rich silicon nitride
** Testing of negative resists for the IMT
** Proximity correction mechanism
*Students
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - March to June 2013
*Papers: --
*Konferences, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14-15. March 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

[[Category:Doktoranden - PhD_Students]]
[[Category:FuE7]]
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

User:Kira.Koehnle

2013-04-16T08:19:16Z

Kira.Koehnle: /* Kira Köhnle */

==Kira Köhnle==
'''Fachbereich''': F&E7

'''Raum''': 222

'''Telefon''': 29239

'''e-mail''': kira.koehnle@kit.edu

[[Datei:Kira_Koehnle_Passbild.jpg|rahmenlos|links|]]

==Promotion==
* Doktorand am IMT seit: April 20112
* Thema: Nanophotonische und nanoplasmonische Bauteile und deren Herstellung
* Unterthemen:
** Herstellung und Charakterisierung von "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Herstellung von Ringresonatoren in Siliziumnitrid
** Einführung Negativlack für Elektronenstrahllithographie am IMT
** Proximity-Korrektur-Strategie
* Bisherige Studenten
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - März bis Juni 2013
* Veröffentlichungen: Noch keine
* Teilnahme an Konferenzen, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14. - 15. März 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===

==== Fertigungsmittel ====
* [[HMDS-Ofen Star-2000]]
* [[Spincoater (OPTIcoat ST22+)]]
* [[VISTEC_VB6]] (nicht im Problemfall, nur wenn's läuft)
* Ultraschall- und Megaschall
* Plasmaverascher 4TEC
* Ofen für hohe Temperaturen in Bau 321 (Oxidation von Silizium bei 900-1000°C)

==== Prüfmittel ====
* Dektac
* Tencor
* Lichtmikroskop neben REM
* Supra-REM
* Ellipsometer (Reinraum und Bau 321)

=== Prozesse ===
* Elektronenstrahllithographie (komplette Prozesskette)
* Spin-coating, speziell von kleinen Chips [[Aufschleudern/Spin coating]]
* Trockenätzen für Silizium und Siliziumnitrid
* Schwefelsäure
* Reinigungsprozesse

=== Software ===
* CST Microwavestudio (Simulation von Wellenleiterstrukturen)
* Phoenix Mask Engineer (Design von photonischen Bauteilen)
* Inkscape

== Weitere Aufgaben am IMT ==
* Aktueller Doggiesprecher zusammen mit [[Benutzer:Radwanul.Siddique | Radwan]]

==English version==

*With the institute since April 2012
*Topic: Nanophotonic and nanoplasmonic devices and their fabrication
* Subtopics:
** Fabrication and characterization of "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Fabrication of ring resonators in silicon-rich silicon nitride
** Testing of negative resists for the IMT
** Proximity correction mechanism
*Students
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - March to June 2013
*Papers: --
*Konferences, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14-15. March 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

[[Category:Doktoranden - PhD_Students]]
[[Category:FuE7]]
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

File:Kira Koehnle Passfoto.jpg

2013-04-16T08:18:07Z

Kira.Koehnle: Passfoto, Kira Köhnle

Passfoto, Kira Köhnle

User:Kira.Koehnle

2013-04-09T15:25:43Z

Kira.Koehnle: /* Weitere Aufgaben am IMT */

==Kira Köhnle==
'''Fachbereich''': F&E7

'''Raum''': 222

'''Telefon''': 29239

'''e-mail''': kira.koehnle@kit.edu

==Promotion==
* Doktorand am IMT seit: April 20112
* Thema: Nanophotonische und nanoplasmonische Bauteile und deren Herstellung
* Unterthemen:
** Herstellung und Charakterisierung von "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Herstellung von Ringresonatoren in Siliziumnitrid
** Einführung Negativlack für Elektronenstrahllithographie am IMT
** Proximity-Korrektur-Strategie
* Bisherige Studenten
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - März bis Juni 2013
* Veröffentlichungen: Noch keine
* Teilnahme an Konferenzen, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14. - 15. März 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===

==== Fertigungsmittel ====
* [[HMDS-Ofen Star-2000]]
* [[Spincoater (OPTIcoat ST22+)]]
* [[VISTEC_VB6]] (nicht im Problemfall, nur wenn's läuft)
* Ultraschall- und Megaschall
* Plasmaverascher 4TEC
* Ofen für hohe Temperaturen in Bau 321 (Oxidation von Silizium bei 900-1000°C)

==== Prüfmittel ====
* Dektac
* Tencor
* Lichtmikroskop neben REM
* Supra-REM
* Ellipsometer (Reinraum und Bau 321)

=== Prozesse ===
* Elektronenstrahllithographie (komplette Prozesskette)
* Spin-coating, speziell von kleinen Chips [[Aufschleudern/Spin coating]]
* Trockenätzen für Silizium und Siliziumnitrid
* Schwefelsäure
* Reinigungsprozesse

=== Software ===
* CST Microwavestudio (Simulation von Wellenleiterstrukturen)
* Phoenix Mask Engineer (Design von photonischen Bauteilen)
* Inkscape

== Weitere Aufgaben am IMT ==
* Aktueller Doggiesprecher zusammen mit [[Benutzer:Radwanul.Siddique | Radwan]]

==English version==

*With the institute since April 2012
*Topic: Nanophotonic and nanoplasmonic devices and their fabrication
* Subtopics:
** Fabrication and characterization of "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Fabrication of ring resonators in silicon-rich silicon nitride
** Testing of negative resists for the IMT
** Proximity correction mechanism
*Students
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - March to June 2013
*Papers: --
*Konferences, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14-15. March 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

[[Category:Doktoranden - PhD_Students]]
[[Category:FuE7]]
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

User:Kira.Koehnle

2013-04-09T15:25:12Z

Kira.Koehnle: /* Fertigungsmittel */

==Kira Köhnle==
'''Fachbereich''': F&E7

'''Raum''': 222

'''Telefon''': 29239

'''e-mail''': kira.koehnle@kit.edu

==Promotion==
* Doktorand am IMT seit: April 20112
* Thema: Nanophotonische und nanoplasmonische Bauteile und deren Herstellung
* Unterthemen:
** Herstellung und Charakterisierung von "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Herstellung von Ringresonatoren in Siliziumnitrid
** Einführung Negativlack für Elektronenstrahllithographie am IMT
** Proximity-Korrektur-Strategie
* Bisherige Studenten
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - März bis Juni 2013
* Veröffentlichungen: Noch keine
* Teilnahme an Konferenzen, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14. - 15. März 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===

==== Fertigungsmittel ====
* [[HMDS-Ofen Star-2000]]
* [[Spincoater (OPTIcoat ST22+)]]
* [[VISTEC_VB6]] (nicht im Problemfall, nur wenn's läuft)
* Ultraschall- und Megaschall
* Plasmaverascher 4TEC
* Ofen für hohe Temperaturen in Bau 321 (Oxidation von Silizium bei 900-1000°C)

==== Prüfmittel ====
* Dektac
* Tencor
* Lichtmikroskop neben REM
* Supra-REM
* Ellipsometer (Reinraum und Bau 321)

=== Prozesse ===
* Elektronenstrahllithographie (komplette Prozesskette)
* Spin-coating, speziell von kleinen Chips [[Aufschleudern/Spin coating]]
* Trockenätzen für Silizium und Siliziumnitrid
* Schwefelsäure
* Reinigungsprozesse

=== Software ===
* CST Microwavestudio (Simulation von Wellenleiterstrukturen)
* Phoenix Mask Engineer (Design von photonischen Bauteilen)
* Inkscape

== Weitere Aufgaben am IMT ==
* Aktueller Doggiesprecher zusammen mit [[Benutzer:Radwanul.Siddique]]

==English version==

*With the institute since April 2012
*Topic: Nanophotonic and nanoplasmonic devices and their fabrication
* Subtopics:
** Fabrication and characterization of "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Fabrication of ring resonators in silicon-rich silicon nitride
** Testing of negative resists for the IMT
** Proximity correction mechanism
*Students
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - March to June 2013
*Papers: --
*Konferences, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14-15. March 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

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VISTEC VB6

2013-04-09T15:23:52Z

Kira.Koehnle: Die Seite wurde neu angelegt: „ English Version <!-- Falls Bilder angezeigt werden sollen, müssen die entsprechenden Dateien erst hochgeladen werden. Dies ermöglich…“

Spincoater (OPTIcoat ST22+)

2013-04-09T15:06:49Z

Kira.Koehnle:

File:Ebeam.jpg

2013-04-09T14:55:53Z

Kira.Koehnle: Bild von VISTEC VB6 im Reinraum

Bild von VISTEC VB6 im Reinraum

User:Kira.Koehnle

2013-04-09T14:48:10Z

Kira.Koehnle: /* Geräte */

==Kira Köhnle==
'''Fachbereich''': F&E7

'''Raum''': 222

'''Telefon''': 29239

'''e-mail''': kira.koehnle@kit.edu

==Promotion==
* Doktorand am IMT seit: April 20112
* Thema: Nanophotonische und nanoplasmonische Bauteile und deren Herstellung
* Unterthemen:
** Herstellung und Charakterisierung von "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Herstellung von Ringresonatoren in Siliziumnitrid
** Einführung Negativlack für Elektronenstrahllithographie am IMT
** Proximity-Korrektur-Strategie
* Bisherige Studenten
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - März bis Juni 2013
* Veröffentlichungen: Noch keine
* Teilnahme an Konferenzen, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14. - 15. März 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===

==== Fertigungsmittel ====
* [[HMDS-Ofen Star-2000]]
* [[Spincoater (OPTIcoat ST22+)]]
* VISTEC VB6 (nicht im Problemfall, nur wenn's läuft)
* Ultraschall- und Megaschall
* Plasmaverascher 4TEC
* Ofen für hohe Temperaturen in Bau 321 (Oxidation von Silizium bei 900-1000°C)
==== Prüfmittel ====
* Dektac
* Tencor
* Lichtmikroskop neben REM
* Supra-REM
* Ellipsometer (Reinraum und Bau 321)

=== Prozesse ===
* Elektronenstrahllithographie (komplette Prozesskette)
* Spin-coating, speziell von kleinen Chips [[Aufschleudern/Spin coating]]
* Trockenätzen für Silizium und Siliziumnitrid
* Schwefelsäure
* Reinigungsprozesse

=== Software ===
* CST Microwavestudio (Simulation von Wellenleiterstrukturen)
* Phoenix Mask Engineer (Design von photonischen Bauteilen)
* Inkscape

== Weitere Aufgaben am IMT ==
* Aktueller Doggiesprecher zusammen mit [[Benutzer:Radwanul.Siddique]]

==English version==

*With the institute since April 2012
*Topic: Nanophotonic and nanoplasmonic devices and their fabrication
* Subtopics:
** Fabrication and characterization of "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Fabrication of ring resonators in silicon-rich silicon nitride
** Testing of negative resists for the IMT
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*Papers: --
*Konferences, Workshops:
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User:Kira.Koehnle

2013-04-03T11:32:47Z

Kira.Koehnle:

==Kira Köhnle==
'''Fachbereich''': F&E7

'''Raum''': 222

'''Telefon''': 29239

'''e-mail''': kira.koehnle@kit.edu

==Promotion==
* Doktorand am IMT seit: April 20112
* Thema: Nanophotonische und nanoplasmonische Bauteile und deren Herstellung
* Unterthemen:
** Herstellung und Charakterisierung von "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Herstellung von Ringresonatoren in Siliziumnitrid
** Einführung Negativlack für Elektronenstrahllithographie am IMT
** Proximity-Korrektur-Strategie
* Bisherige Studenten
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - März bis Juni 2013
* Veröffentlichungen: Noch keine
* Teilnahme an Konferenzen, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14. - 15. März 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===
* [[HMDS-Ofen Star-2000]]
* [[Spincoater (OPTIcoat ST22+)]]
* VISTEC VB6 (nicht im Problemfall, nur wenn's läuft)
* Ultraschall- und Megaschall
* Plasmaverascher 4TEC
* Ofen für hohe Temperaturen in Bau 321 (Oxidation von Silizium bei 900-1000°C)

=== Prozesse ===
* Elektronenstrahllithographie (komplette Prozesskette)
* Spin-coating, speziell von kleinen Chips [[Aufschleudern/Spin coating]]
* Trockenätzen für Silizium und Siliziumnitrid
* Schwefelsäure
* Reinigungsprozesse

=== Software ===
* CST Microwavestudio (Simulation von Wellenleiterstrukturen)
* Phoenix Mask Engineer (Design von photonischen Bauteilen)
* Inkscape

== Weitere Aufgaben am IMT ==
* Aktueller Doggiesprecher zusammen mit [[Benutzer:Radwanul.Siddique]]

==English version==

*With the institute since April 2012
*Topic: Nanophotonic and nanoplasmonic devices and their fabrication
* Subtopics:
** Fabrication and characterization of "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Fabrication of ring resonators in silicon-rich silicon nitride
** Testing of negative resists for the IMT
** Proximity correction mechanism
*Students
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - March to June 2013
*Papers: --
*Konferences, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14-15. March 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

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[[Kategorie:Mitarbeiter/Employees]]

User:Kira.Koehnle

2013-04-03T10:01:07Z

Kira.Koehnle:

User:Kira.Koehnle

2013-04-03T09:46:04Z

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==Kira Köhnle==

* Doktorand am IMT seit: April 20112
* Thema: Nanophotonische und nanoplasmonische Bauteile und deren Herstellung
* Bisherige Studenten
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - März bis Juni 2013
* Veröffentlichungen: Noch keine
* Teilnahme an Konferenzen, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14-15. März 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

==English version==

*With the institute since April 2012
*Topic: Nanophotonic and nanoplasmonic devices and their fabrication
*Students
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - March to June 2013
*Papers: --
*Konferences, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14-15. March 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)