IMT-Wiki - User contributions [en]

User:Markus.Meissner

2017-12-05T14:27:52Z

Randy.Fechner:

{{Dead Box}}
[[User:{{PAGENAME}}/English | English Version]]

== Markus Meissner ==



'''Funktionsbereich''': NMCEL

'''Aufgabengebiet''': NMCEL MicroGradient

'''Bau''': 310

'''Raum''': 240

'''Telefon''': 0721-608-29309

'''e-mail''': mailto:meissner@kit.edu

'''Stellvertreter''':
*[[User:Dario.Mager|Mager, Dario]]

== Tätigkeitsbeschreibung ==
Entwicklung eines Mikrogradienten für MRI

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===

=== Prozesse ===

=== Software ===
* Microsoft Paint

[[Category:Ehemalige Mitarbeiter - Former Employees]]
[[Category:Ehemalige Doktoranden - Former PhD Students]]

Conference room

2017-11-03T16:34:45Z

Randy.Fechner: Created page with " There are six different conference rooms available at IMT. You can check if they are free and reserve them via Outlook. For reservation of the rooms see: [[Besprechungsplanu..."

There are six different conference rooms available at IMT.
You can check if they are free and reserve them via Outlook.

For reservation of the rooms see: [[Besprechungsplanung - Schedule Meeting]]

Keep in mind that the availability of flip charts and whiteboards do not necessarily include the corresponding paper and markers ;-)

==seminar room 405 (bldg. 301)==
[[file:seminar_room_405.jpg|thumb|500px|left|seminar room]]

===capacity===
normally 16 people at tables and >60 altogether
===equipment===
* projector (HDMI & VGA)
* speaker (audio jack, HDMI)
* blackboard
* flip chart
<div style="clear:both;"></div>
==conference room 412 (bldg. 301)==
[[file:conference_room_412.jpg|thumb|200px|left|conference room 412]]

===capacity===
8 people
===equipment===
* TV set (VGA, HDMI)
* "white"board
<div style="clear:both;"></div>

==conference room 335 (bldg. 307)==
[[file:conference_room_335.jpg|thumb|500px|left|conference room 307]]

===capacity===
10 people
===equipment===
* projector (HDMI & VGA)
* whiteboard
* flip chart

<div style="clear:both;"></div>

==conference room 322 (bldg. 307)==
[[file:conference_room_322.jpg|thumb|500px|left|conference room 322]]
===capacity===
18 people
===equipment===
* projector (HDMI & VGA)
* whiteboard
* flip chart
* telephone with conference microphone

<div style="clear:both;"></div>

==conference room 251 (bldg. 310)==
under construction

==conference room 316 (bldg. 321)==

{{Suchbegriffe|conference room, meeting room, seminar room, meeting, Besprechungsraum, Seminarraum, Konferenzraum, Konferenz, Besprechung}}

File:Seminar room 405.jpg

2017-11-03T14:12:13Z

Randy.Fechner:

File:Conference room 412.jpg

2017-11-03T14:11:59Z

Randy.Fechner: Randy.Fechner uploaded a new version of "File:Conference room 412.jpg"

File:Conference room 412.jpg

2017-11-03T14:11:57Z

Randy.Fechner:

File:Conference room 335.jpg

2017-11-03T14:09:27Z

Randy.Fechner:

File:Conference room 322.jpg

2017-11-03T14:09:04Z

Randy.Fechner:

OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)/English

2017-11-02T13:09:48Z

Randy.Fechner:

[[file:OxfordCluster_Anlage_small.png‎|500px|thumb|right|Plasmaätzanlage]]
= RIE/RIBE Oxford PlasmaLab 100 =

The Oxford PlasmaLab 100 is used for structuring material by [[#Dry Etching Methods|dry etching]] processes.

Before considering RIE for a material not on the [[#List of Materials that have been structured successfully with the Oxford PlasmaLab 100|list]] below, please talk to the operators. Even if a process is generally feasible, contamination of the chamber walls can negatively influence standard processes (This is especially the case for nickel).

== Alternatives ==
*[[4-TEC Plasmaätzer]]
*[[Sentec RIE]]
*Oxford RIE at CFN

== Operators ==
* [[user:Alban.Muslija|Alban Muslija]]

== Operation Modes ==
* Reactive ion etching
** Sulfur hexafluoride (SF6)
** N2
** Argon
** Oxygen
** Chloride
** Fluoroform (CHF3)
** BCl3
** HBr
* Reactive ion beam etching
** Argon
** Cl2

The RIE chamber is equipped with a laser based endpoint detection.

== Established Processes ==
=== RIE ===
# Titanium
# Chrome
# Silicon, anisotropic profile (Cryo Process)
# Silicon, isotropic profile (Underetching of Si sacrificial layers)
# Silicon nitride
# Silicon oxide/glass

== Trained Users ==

*[[User:Sanaz.Rastjoo | Rastjoo, Sanaz ]]
*[[User:Randy.Fechner|Fechner, Randy]]
*[[User:Sandeep.Ummethala|Ummethala, Sandeep]]
*[[User:Sascha.Muehlbrandt|Mühlbrandt, Sascha]]
*[[User:Marie-Kristin.Nees|Nees, Marie-Kristin]]

= Dry Etching Methods =

== Advantages of Dry Etching ==

Wet etching is an estalished method for microstructuring that provides fast results. However, if you want to have

* an anisotropic etch profile
* low mask undercut
* no trouble with stiction due to capillary forces
* high aspect ratio structures (esp. silicon),

then dry etching might be your method of choice. Of course, many materials can also be structured with isotropic profiles.

==Functioning Principles ==

=== Reactive Ion Beam Etching (R)IBE ===
[[file:RIBE.png|300px|thumb|right|Fig. 1: Schematic of a reactive ion beam etching chamber]]
Argon gas is let into the plasma chamber, where it is ionized. This can be done by accelerating electrons emitted from the cathode towards the anode, where they will start a collision chain reaction that ends with the loss of electrons of the argon atoms.

The extraction grid has a positive voltage applied in order to accelerate the argon ions towards the sample. Before they reach the sample, the neutralizer adds electrons to the ions which results in a beam which has neutral charge on average.

The accelerated ions/atoms attack the surface of the sample only with their kinetic force, no chemistry is involved. A chemical component can be added by letting additional gasses through valves in the sample holder. These will be ionized and accelerated by collisions with the argon atoms.

The sample stage can be tilted face down to an angle of 70°. Usually, the angle is 10-30°, and the sample plate rotates to prevent redeposition (see Fig. 2).

[[file:RIBE Etch Redeposition.png|300px|thumb|right|Fig. 2: Redeposition during RIBE. Substrate residue removed from the bottom of the etch profile is more likely to redeposit on the profile's sidewalls with an increase of the aspect ratio h/w ]]

==== Advantages and Disadvantages of RIBE ====
The main advantage of RIBE is that it can be used to structure virtually everything. The physical attack does not disciminate largely between materials, and the plasma chamber is separated from the etch chamber, thus preventing any contamination of the plasma with sample residue.

Disadvantages are low etch rates as well as low selectivity between the resist and the sample material. Because of the selectivity < 1 and redeposition, the maximum aspect ratio is 1:1.

=== Reactive Ion Etching ===

[[file:RIE ICP Chamber.png|300px|thumb|right|Fig. 3: Schematic of a reactive ion etching chamber]]

A mixture of reactive gasses is let into the chamber, where a plasma is created by applying an AC power source between the wafer stage and another plate. As this is essentially a capacitator, this setup creates a so called capacitive coupled plasma (CCP). The capacitive coupling also accelerates the ions away from and towards the wafer, permitting some of the ions to collide with it and therby etching the wafer material.

After a plasma has been ignited, an AC powered coil can be used to increase the amount of ionization by the method of induction. This is termed the inductive coupled plasma (ICP).

While CCP controls both the physical attack mode by accelerating atoms as well as the chemical attack mode by creating ions, the ICP provides a separate control parameter for ionization only. Together with the chamber pressure, which controls the mean free path of the ions, a fine control of physical and chemical contribution to the etch process is possible.

Additionally, the sample holder can be cooled with helium and liquid nitrogen for temperatures down to -150 °C, which allows the use of the silicon cryo process to create high aspect ratio structures.

==== The silicon cryo process ====

TBA

[[Category:English]]

User:Sebastian.Ecken

2017-11-02T13:06:45Z

Randy.Fechner:

[[file:Sebastian_von_der_Ecken.jpg|500x250px|rechts|Sebastian von der Ecken]]

[[user:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Sebastian von der Ecken ==


'''Funktionsbereich''': F&E2 BBM (BioMEMS, Biosensorik, '''Mikrofluidik''')

'''Aufgabengebiet''': Mikrofluidik, [[Digitale Mikrofluidik und Elektrobenetzung|Elektrobenetzung]] (electrowetting), digitale Mikrofluidik ([[Digitale Mikrofluidik und Elektrobenetzung|DMF]])

'''Bau''': 307

'''Raum''': 325 ('''NEU''')

'''Telefon''': 0721-608-23924 ('''NEU''')

'''e-mail''': mailto:sebastian.vonderecken@kit.edu



== Tätigkeitsbeschreibung ==
Ich arbeite mit einem Lab-on-Chip System auf Grundlage der der "Digitalen Mikrofluidik". Das bedeutet, dass ich Flüssigkeiten in Form von Tropfen mittels elektrischer Felder auf einem Mikrofluidik Chip direkt steuern kann (bewegen, splitten, mischen). Mit einem magnetischen Feld habe ich überdies die Möglichkeit, magnetische Partikel von einem in den anderen Tropfen zu bewegen.

Der Vorteil gegenüber "normaler" Mikrofluidik ist, dass keine Ventile, Pumpen oder Kanäle auf dem Chip benötigt werden.

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===
'''[[scobµ]] ''': Anlage zur Ansteuerung und Observation von [[Digitale Mikrofluidik und Elektrobenetzung|DMF]]-Chips (107.5)

VSI Weißlichtinterferrometer (107.5)

Spincoater (Der neue, links von der 4er Hotplate)

Dipcoater [[OWIS_Dipcoater|OWIS]] (Lab 107)

(AFM)

=== Prozesse ===
'''[[Digitale Mikrofluidik und Elektrobenetzung|DMF]]''': Entwurf, Auslegung, Konstruktion und Fertigung von DMF-Chips. (electrowetting)

'''Analyse''': Particle image velocimetry (PIV), particle tracking velocimetry (PTV) (Studienarbeits-Wissen)

=== Software ===
'''CAD''': [[AutoCAD|AutoCAD]], Solid Works, Solid Edge

'''Grafik''': Adobe Photoshop, Gimp, Open Office Draw (Vektorgrafik)

'''Text''': LaTeX

'''Zahlen''': MatLAB, Origin

'''Labor''': LabVIEW, Lavision DAVIS

'''Büro''': MS Office, Open Office

=== Materialien ===
[[:Category:Materialien_-_Materials|Materialien]]
{| class="wikitable sortable" style="background:#efefef; border:2px solid black"
! Name !! Was? !! Was genau? !! SP-Nummer !! class="unsortable" | Bemerkung
|-
| Orasol® Gelb 2GLN (Pulver)
| Chemiekalie
| Farbstoff
|style="text-align:right"| SP270190.00
| nicht wasserlöslicher Farbstoff, diffundiert nicht in Siliconöl, zur Einfärbung von polaren Flüssigkeiten in der Mikrofluidik
|-
| Orasol® Rot BL (Pulver)
| Chemiekalie
| Farbstoff
|style="text-align:right"| SP270190.00
| nicht wasserlöslicher Farbstoff, diffundiert nicht in Siliconöl, zur Einfärbung von polaren Flüssigkeiten in der Mikrofluidik
|-
| Orasol® Blau (Pulver)
| Chemiekalie
| Farbstoff
|style="text-align:right"| SP270190.00
| nicht wasserlöslicher Farbstoff, diffundiert nicht in Siliconöl, zur Einfärbung von polaren Flüssigkeiten in der Mikrofluidik
|-
| Indigotin blau (Pulver)
| Chemiekalie
| Farbstoff
|style="text-align:right"| SP270189.00
| wasserlöslicher Farbstoff, zur Einfärbung von nichtpolaren Flüssigkeiten und Wasser in der Mikrofluidik
|-
| Tween 20 (Polysorbat 20)
| Chemiekalie
| Tensid
|style="text-align:right"| SP270187.00
| nicht-ionisches Tensid
|-
| Pluronic L-64
| Chemiekalie
| Tensid
|style="text-align:right"| SP270203.00
| Poly(ethylene glycol)-block-poly(propylene glycol)-block-poly(ethylene glycol)
|-
| Fluorinert FC-40
| Chemiekalie
| Lösemittel
|style="text-align:right"| SP270202.00
| Lösemittel für Dupont Teflon AF, zum Herstellen einer Teflonlösung zur Herstellung einer hydrophoben Beschichtung
|-
| DuPont Teflon AF 1600 (Pulver)
| Chemiekalie
| Beschichtung
|style="text-align:right"| SP270192.00
| Das Teflon AF muss zuvor in Lösung gebracht werden, z.B. in FC40 der Firma 3M.
|-
| Glas Wafer 4 Zoll x 1mm
| Werkstoff
| Wafer
|style="text-align:right"| SP260614.00
| Borofloat Wafer 4" 1000±20µm DSP Ra<1,2nm
|-
| Glassubstrat rechteckig mit ITO-Beschichtung
| Werkstoff
| Wafer
|style="text-align:right"| SP260585.00
| Glassubstrat 75x50x0,7 mm oder 75x50x1,1 mm oder 75x25x0,7mm, einseitig ITO beschichtet
|-
| Silikonöl
| Chemiekalie
| Silikone
|style="text-align:right"| SP270185.00
| Viskosität 10 und 0,65
|-
| Propylencarbonat
| Chemiekalie
| Puffer
|style="text-align:right"| SP270188.00
| nix bemerkenswertes
|-
| Epoxidharzklebstoff EPO-TEK H20E
| Chemiekalie
| Klebstoff
|style="text-align:right"| SP270008.01
| 2-Komponentenkleber, elektrisch leitfähig durch Silberpartikel, geeignet zur Kontaktierung von Kontaktpins und ITO
|-
| DELO Duopox AD-895
| Chemiekalie
| Klebstoff
|style="text-align:right"| SP270191.00
| Undurchsichtig, grau, glänzend nach Trocknung. 2K Epoxyklebstoff, elektrisch isolierend, Temperaturbereich -40-140°C, auf biokompatibilität geprüft nach ISO 10993-5 Test auf Cyotoxizität.
|-
| DuPont [[Teflon AF]] 1601 (18wt% Lösung)
| Chemiekalie
| Beschichtung
|style="text-align:right"| n.a.
| Teflon AF 1601 in FC-40 gelöst, kann bei Bedarf weiter verdünnt werden. '''Nicht mehr lieferbar'''. Ersatz: Teflon AF 1600. Reinraum Resistschrank.
|-
| DuPont Teflon AF 1600 ('''1wt%''' Lösung)
| Chemiekalie
| Beschichtung
|style="text-align:right"| n.a.
| Zum '''Spincoaten, Dipcoaten'''. Teflon AF 1600 in FC-40 gelöst. Reinraum Resistschrank.
|-
| DuPont Teflon AF 1600 ('''0,5wt%''' Lösung)
| Chemiekalie
| Beschichtung
|style="text-align:right"| n.a.
| Zum '''Spincoaten, Dipcoaten'''. Teflon AF 1600 in FC-40 gelöst. Reinraum Resistschrank.
|}

== [[Abkürzungen - Abbreviations|PVA]] für IMT-Projekte ==
* [[13-097]]

== Weitere Aufgaben am IMT ==





Inoffiziell beauftragter offizieller KICKER Verantwortlicher (bis 08.01.2016)

==Belohnungen für Wiki-Engagement==
[[file:Giraffemitstern.png|thumb|200x265px|rechts|Giraffe mit Sternchen für Wiki-Engagement im Mai 2015 ]]

Sebastian bekommt für sein Engagement im Wiki-Artikel schreiben für den Monat Mai 2015 eine Giraffe mit *.

Verliehen von den Wiki-Verantwortlichen. Unterschrift: [[user:Marcel.Gueltig|Marcel.Gueltig]] ([[Benutzer Diskussion:Marcel.Gueltig|Diskussion]]) 16:54, 2. Jun. 2015 (CEST)

[[Category:F&E2-BBM]]
[[Category:Ehemalige Mitarbeiter - Former Employees]]
[[Category:Ehemalige Doktoranden - Former PhD Students]]

User:Radwanul.Siddique

2017-11-02T13:06:28Z

Randy.Fechner:

{{template:dead_Box}}
== Radwanul Hasan Siddique ==

[[file:Radwanul.siddique|rahmenlos|links|150x150px|Text der Bild-Legende]]

'''Group''': F&E1-BSS

'''Research topic''': Biomimetics, Bio-inspired photonic structures: FEM modeling, Fabrication and Characterization

'''Room''': 229

'''Telephone''': 24684

'''E-mail''': radwanul.siddique@kit.edu

'''Webpage''': http://www.imt.kit.edu/english/hoelscher.php

== Job description ==
[[file:blue-butterfly.gif|thumb|150x150px|alt=Example alt text|Fig.1: Sparkling blue irradiance of Morpho butterfly due to light interaction with Christmas tree like nanostructures.]]
[[file:Morpho_scattering_400-600nm.gif|thumb|150x150px|alt=Example alt text|Fig.2: Scattering of incident white light (TM plane waves) from Christmas tree like nanostructures of Blue Morpho butterflies.]]
I have been inspecting the optical active nanostructures on biomimic butterfly (Fig.1) scales theoretically using FEM simulation (Fig.2) and high resolution optical microscopy. Meantime, I am working on the fabrication of the scales to mimic all possible features of original butterfly structures.

== Expertise ==
*Simulation: Matlab, COMSOL Multyphysics: RF Module
*Microscopy: TEM, AFM
*Lithography: Laser interference lithography

== Equipment ==
*Optical Spectrometer: Perkin Elmer Lambda 900
**Range: 200-3000 nm
**Task: Measuring transmission, absorption and reflection spectra
More details will be given afterwards.
*AFM: Commercial
*TEM: Zeiss T109 (ITG)

== Other task at IMT ==
* Current Doggiespeaker together with [[User:Kira.Koehnle | '''Kira Köhnle''']]

== Publications ==
*Journal:
** '''Theoretical and experimental analysis of the structural pattern responsible for the iridescence of Morpho butterflies''', R. H. Siddique, S. Diewald, J. Leuthold, and H. Hölscher, Optics Express 21, 14351 (2013).
*Conference:
** '''Analysis and fabrication of optical active nanostructures inspired by the blue Morpho butterfly''', R H. Siddique, S. Diewald, J. Leuthold and H. Hoelscher, European Conference on Lasers and Electro-Optics (CLEO) and XIIIth International Quantum Electronics Conference (Poster), 2013, Munich, Germany.
** '''Mimicking the wide angular reflection of blue light from Morpho butterfly wings''', Gordon Research Conference: Environmental Nanotechnology (Poster), 2013, Vermont, USA.

[[Category:Ehemalige Mitarbeiter - Former Employees]]
[[Category:Ehemalige Doktoranden - Former PhD Students]]
[[Category:F&E1-BSS]]

User:Norbert.Schneider

2017-11-02T13:06:18Z

Randy.Fechner:

[[file:Passbild_Norbert_Schneider.jpg|200px|thumb|rechts|Norbert Schneider]]
[[user:{{PAGENAME}}/English | English Version]]

== Norbert Schneider ==



'''Funktionsbereich''': F&E1-NM

'''Aufgabengebiet''': Photonische Strukturen

'''Bau''': 307

'''Raum''': 341

'''Telefon''': 0721-608-26845

'''e-mail''': mailto:n.schneider@kit.edu

'''Stellvertreter''':

== Tätigkeitsbeschreibung ==
Großflächige Replikation biomimetischer photonischer Strukturen.

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===
* [[EVG 510-Nanoimprintanlage]]
* [[WUM1 Heißpräge- / Thermoformanlage]]
* [[AFM Commercial]]
* [[Ellipsometer]]
* [[Spincoater Opticoat]]

=== Prozesse ===
*[[Heißprägen]]
*[[Thermoformen]]
*[[Spincoaten]]

=== Software ===
* Microsoft Office
* Windows batch-Skripte
* Linux Shell-Skripte
* IDL
* Visual Basic (eingeschränkt)

=== Materialien ===
* PMMA
* PC
* PP
* PS
* PE
* PPS
* Formgedächtnispolymere

== [[Abkürzungen - Abbreviations|PVA]] für IMT-Projekte ==
* [[12-057P]]

== Weitere Aufgaben am IMT ==
* Finanzminister der Kaffeemaschine (Küche 3.Stock Bau 307)

[[Category:Mitarbeiter - Employees]]
[[Category:F&E1-NM]]
[[Category:Ehemalige Doktoranden - Former PhD Students]]

User:Markus.Meissner

2017-11-02T13:05:59Z

Randy.Fechner:

[[User:{{PAGENAME}}/English | English Version]]

== Markus Meissner ==



'''Funktionsbereich''': NMCEL

'''Aufgabengebiet''': NMCEL MicroGradient

'''Bau''': 310

'''Raum''': 240

'''Telefon''': 0721-608-29309

'''e-mail''': mailto:meissner@kit.edu

'''Stellvertreter''':
*[[User:Dario.Mager|Mager, Dario]]

== Tätigkeitsbeschreibung ==
Entwicklung eines Mikrogradienten für MRI

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===

=== Prozesse ===

=== Software ===
* Microsoft Paint

[[Category:Ehemalige Mitarbeiter - Former Employees]]
[[Category:Ehemalige Doktoranden - Former PhD Students]]

User:Marcel.Gueltig

2017-11-02T13:05:45Z

Randy.Fechner:

[[User:Marcel.Gueltig/English | English Version]]

== Marcel Gültig ==

[[file:Gueltig_klein.jpg|200px|rahmenlos|links|Text der Bild-Legende]]

'''Funktionsbereich''': F&E1-SMD

'''Aufgabengebiet''': Energy Harvesting

'''Raum''': 404

'''Telefon''': 22753

'''e-mail''': marcel.gueltig@kit.edu

== Tätigkeitsbeschreibung ==
Ich untersuche ein Aktorprinzip bestehend aus einem Formgedächtnisaktor, der durch Umgebungswärme zu einer periodischen Bewegung erregt wird. Die Energie kann nun mit einem elektromagnetischen oder pyroelektrischen Prinzip gewandelt werden.

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===
* [[Zwicki-Line|Zwickiline Zugmaschine]]
* [[Elastometer]]
* [[4W-CryoVac]], [[CryoVac]]

=== Prozesse ===
* Nasschemisches Ätzen von NiTi
* Optische Lithographie

=== Software ===
* CAE: Matlab, Maple, Mathematica
* CAD: Autodesk Inventor
* COMSOL Multiphysics
* Programmieren: Labview, Java
* Arduino-Programmierung
* Macs und iPhones

=== Materialien ===
* Formgedächtnislegierungen (NiTi, NiMnGa)

== Weitere Aufgaben am IMT ==
* Wiki-Verantwortlicher
* Laborverantwortlicher Raum 209 (Gebäude 301)

==Hobbys==

Radfahren, Skifahren, Fantasybücher, ...

[[Category:Ehemalige Doktoranden - Former PhD Students]]
[[Category:F&E1-SMD]]
[[Category:Mitarbeiter - Employees]]

User:Kira.Koehnle

2017-11-02T13:05:30Z

Randy.Fechner:

==Kira Köhnle==

[[file:Kira_Koehnle_Passfoto.jpg|rahmenlos|links|]]

'''Funktionsbereich''': F&E3-TN

'''Raum''': 222

'''Telefon''': 29239

'''e-mail''': kira.koehnle@kit.edu

==Promotion==
* Doktorand am IMT seit: April 2012
* Thema: Nanophotonische und nanoplasmonische Bauteile und deren Herstellung
* Unterthemen:
** Herstellung und Charakterisierung von "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Herstellung von Ringresonatoren in Siliziumnitrid
** Einführung Negativlack für Elektronenstrahllithographie am IMT
** Proximity-Korrektur-Strategie
** Herstellung plasmonischer MZ-Modulatoren
* Bisherige Studenten
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - März bis Juni 2013
** Ibrahim Kharrat (Internship - Sommer 2013
* Veröffentlichungen: --
* Teilnahme an Konferenzen, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14. - 15. März 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)
** Oxford Usermeeting 2013 an der TU München
** Genisys Beammeeting in Freiburg (2014)

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===

==== Fertigungsmittel ====
* [[HMDS-Ofen Star-2000]]
* [[Spincoater (OPTIcoat ST22+)]]
* [[VISTEC_VB6]] (nicht im Problemfall, nur wenn's läuft)
* Ultraschall- und Megaschall
* Plasmaverascher 4TEC
* Ofen für hohe Temperaturen in Bau 321 (Oxidation von Silizium bei 900-1000°C)

==== Prüfmittel ====
* Dektac
* Tencor
* Lichtmikroskop neben REM
* Supra-REM
* Ellipsometer (Reinraum und Bau 321)

=== Prozesse ===
* Elektronenstrahllithographie (komplette Prozesskette)
* Spin-coating, speziell von kleinen Chips [[Aufschleudern/Spin coating]]
* Trockenätzen für Silizium und Siliziumnitrid
* Schwefelsäure
* Reinigungsprozesse

=== Software ===
* CST Microwavestudio (Simulation von Wellenleiterstrukturen)
* Phoenix Mask Engineer (Design von photonischen Bauteilen)
* Inkscape

== Weitere Aufgaben am IMT ==
* Ehemaliger Doggiesprecher zusammen mit [[User:Radwanul.Siddique | Radwan]]

==English version==

*With the institute since April 2012
*Topic: Nanophotonic and nanoplasmonic devices and their fabrication
* Subtopics:
** Fabrication and characterization of "Sub-wavelength Grating Waveguides"
** Fabrication of ring resonators in silicon-rich silicon nitride
** Testing of negative resists for the IMT
** Proximity correction mechanism
*Students
** Andrew Katumba (Internship) - Aug/Sep 2012
** Han Yu (Internship) - March to June 2013
*Papers: --
*Konferences, Workshops:
** Genisys Beammeeting in Freiburg (14-15. March 2013)
** CFN Summer school Nano-Photonics (10. - 13. September 2012)

[[Category:F&E3-TN]]
[[Category:Ehemalige Mitarbeiter - Former Employees]]
[[Category:Ehemalige Doktoranden - Former PhD Students]]

User:Hinnerk.Ossmer

2017-11-02T13:04:36Z

Randy.Fechner:

[[User:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Hinnerk Oßmer ==


[[File:<Bilddatei>|rahmenlos|links|Text der Bild-Legende]]

'''Funktionsbereich''': F&E1-SMD

'''Aufgabengebiet''': Elastokalorische Kühlung mit Formgedächtnislegierungen

'''Raum''': B.307, R.336

'''Telefon''': 6830 (Büro), 2749 (Labor)

'''e-mail''': hinnerk.ossmer@kit.edu

'''Stellvertreter''':

== Tätigkeitsbeschreibung ==

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===
Zwick Zugmaschine, Infrarotkamera, DSC

=== Prozesse ===

=== Software ===

=== Materialien ===
NiTi, NiTi+X (Formgedächtnislegierungen)

== Weitere Aufgaben am IMT ==





[[Category:Mitarbeiter - Employees]]
[[Category:F&E1-SMD]]
[[Category:Ehemalige Doktoranden - Former PhD Students]]

User:Franziska.Lambrecht

2017-11-02T13:03:50Z

Randy.Fechner:

{{Dead Box}}

[[file:franzsika_lambrecht.jpg|thumb|500x250px|rechts|Franziska Lambrecht]]

[[user:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Franziska Lambrecht ==


'''Funktionsbereich''': F&E1-SMD

'''Aufgabengebiet''': Durchstimmbare Nanoschalter durch reversible Phasenumwandlung

'''Gebäude / Raum''': 301 / 402

'''Telefon''': 0721-608-22759

'''e-mail''': franziska.lambrecht@kit.edu

'''Stellvertreter''': [[User:Randy.Fechner| Randy Fechner]]

== Tätigkeitsbeschreibung ==
Herstellung und Untersuchung freistehender Teststrukturen mit Nanometerabmessungen um das Skalierungsverhalten physikalischer Kenngrößen bei abnehmender Baugröße zu untersuchen.

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===
* [[RIE/RIBE_Oxford_PlasmaLab_100 | RIE/RIBE Oxford PlasmaLab 100]]
* [[4-TEC Plasmaätzer]]
* Nanomanipulator-Setup von Kleindiek
* [[Rasterelektronenmikroskop SUPRA 60 VP]]
*[[CryoVac]]
*[[4W-CryoVac]]

=== Prozesse ===

=== Software ===

=== Materialien ===
bi-NiTi, NiTi(Cu), NiMnGa

== [[Abkürzungen - Abbreviations|PVA]] für IMT-Projekte ==
* [[13-112]]

== Weitere Aufgaben am IMT ==





[[Category:Ehemalige Mitarbeiter - Former Employees]]
[[Category:Ehemalige Doktoranden - Former PhD Students]]
[[Category:F&E1-SMD]]

User:Randy.Fechner

2017-11-02T13:00:57Z

Randy.Fechner:

[[file:Randy_Fechner.jpg|thumb|150x225px|rechts|Randy Fechner]]

[[User:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Randy Fechner ==


'''Funktionsbereich''': F&E1-SMD

'''Aufgabengebiet''': Thermomechanische Nanoaktoren

'''Bau''': 301

'''Raum''': 402

'''Telefon''': 0721-608-22759

'''e-mail''': mailto:randy.fechner@kit.edu

'''Stellvertreter''': [[User:Sanaz.Rastjoo|Rastjoo, Sanaz]]

== Tätigkeitsbeschreibung ==
Weiterentwicklung von In-Situ-Messverfahren zur Charakterisierung physikalischer Kenngrößen im Nanometermaßstab. Herstellung thermomechanischer Nanoaktoren und deren Integration in nanophotonische Chips.

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===
*[[RIE/RIBE_Oxford_PlasmaLab_100 | RIE/RIBE Oxford PlasmaLab 100]]
*[[Sputter-Anlage]]

=== Prozesse ===

=== Software ===

=== Materialien ===

== [[Abkürzungen - Abbreviations|PVA]] für IMT-Projekte ==
* [[00-000P]]

== Weitere Aufgaben am IMT ==





[[Category:Mitarbeiter - Employees]]
[[Category:F&E1-SMD]]
[[Category:Doktoranden - PhD Students]]

Poster/english

2017-10-26T18:33:14Z

Randy.Fechner: Created page with "IMT-Vorlage Poster English version == Print a poster for a conference == You have the possibility to p..."

[[file:Poster.jpg|thumb|500x250px|rechts|IMT-Vorlage Poster]]

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

== Print a poster for a conference ==

You have the possibility to present a poster at the next conference? Awesome!

What you have to do now:

# Use the Powerpoint template [Powerpoint - Datei - neu - meine Vorlagen - KIT-Formulare - KIT-Poster_A0_hoch_en_IMT]
# Create an award-winning poster
# Create a PDF-file [e.g. "save as PDF", however the SCC advises to use a PDF-printer]
# Make sure that your PDF-file shows exactly what your poster looked like in Powerpoint. Sometimes errors occure while saving as PDF.
# Print the poster.
## You can print on standard paper at IMT. Talk to Mr. Gutjahr about that.
## If you want to print on photograpfic paper, you have to use the printer at the SCC
### Open https://scc-print.scc.kit.edu/cgi-bin/print/index.cgi?printer=lfp-cn-foto
### Log-in with your KIT staff account
### Choose a printer [Campus Nord - Großformat Normalpapier Farbplotter <u>or</u> Campus Nord - Großformat Fotopapier Farbplotter]
### Upload your PDF-file
### Click on "drucken"
### If you have done that, you can check the status of your print under "Druckaufträge Info --> Campus Nord - Großformat Fotopapier Farbplotter --> Status / Warteschlange CN - Großformat Fotopapier Farbplotter".
### When the "Job-Status" is "fertig", go and get your poster at the SCC close to the IMT (Building 449 - https://www.kit.edu/downloads/Campus-Nord.pdf). You can easily cut your poster directly at SCC.

{{suchbegriffe|Poster, Posterdruck, print, Konferenz, conference}}
[[Category:Doktorandenzeug - PhD Stuff]]

Poster

2017-10-26T18:19:50Z

Randy.Fechner:

[[file:Poster.jpg|thumb|500x250px|rechts|IMT-Vorlage Poster]]

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

== Konferenz-Beitrag ==

Du kannst bei der nächsten Konferenz deine aktuellen Forschungsergebnisse auf einem Poster präsentieren? Toll!

Das ist zu tun:
# Nimm eine AKTUELLE Postervorlage [Powerpoint - Datei - neu - meine Vorlagen - KIT-Formulare - KIT-Poster_A0_hoch_en_IMT]
# Erstelle das most-awesome-ever Poster
# Erzeuge ein PDF [z.B. "als PDF speichern", vom SCC empfohlen ist allerdings ein PDF-Drucker]
# Überzeuge dich, dass das PDF richtig angezeigt wird und keine Fehler beim Speichern entstanden sind!
# Drucke das Poster
## Normalpapier kann im IMT gedruckt werden. Wende dich an Herrn Gutjahr.
## Normalpapier und Fotopapier kann über das SCC gedruckt werden
### Öffne https://scc-print.scc.kit.edu/cgi-bin/print/index.cgi?printer=lfp-cn-foto
### Log-in mit KIT-Mitarbeiteraccount
### Wähle deinen Drucker [Campus Nord - Großformat Normalpapier Farbplotter <u>oder</u> Campus Nord - Großformat Fotopapier Farbplotter]
### Lade deine PDF-Datei hoch
### Klicke auf "drucken"
### Wenn du damit fertig bist, kannst du den Druckstatus unter "Druckaufträge Info --> Campus Nord - Großformat (Fotopapier/Normalpapier) Farbplotter --> Status / Warteschlange CN - Großformat Fotopapier Farbplotter" abrufen
### Wenn der Job-Status "fertig" ist, kannst du das Poster beim SCC am Campus Nord abholen (Gebäude 449 - https://www.kit.edu/downloads/Campus-Nord.pdf). Außerdem kannst du das Poster vor Ort einfach zuschneiden.

== IMT-intern ==

Ihr habt etwas tolles erwissenschaftelt und möchtet ein Poster dauerhaft im IMT aushängen? Dafür werden Poster auf FOREX benutzt! Das ist das gleiche, aus was die Tafeln in der [[Hall_of_Fame|Hall of Fame]] der IMT PhDs gemacht sind.

Das ist zu tun:
# Nehmt eine AKTUELLE Postervorlage [Powerpoint - neu - meine Vorlagen - zweite Karte - Din-A-0 Englisch oder Deutsch]
# Erzeugt eine PDF im DIN-A-0 Format [z.B. Drucken - Drucker pdf-creater - Eigenschaften - Erweitert - Format - DIN-A-0]
# Fülle den [[:file:Repro-Auftrag.pdf|Reproauftrag]] aus und lass ihn vom Sekretariat unterschreiben
# geht zur Repro
## Die sind in diesem Fall in 141. Also Repro ist zwar 142, aber die Leute, die den DIN-A-0 Drucken, sind unten in 141 (z.B. Eva Geiger)
## Für die Hall-of-Fame Tafeln geht man zur Repro 142
# Ihr wollt ein DIN-A-0 (841mm x 1189mm) Poster auf FOREX 10mm. Glänzend oder matt müsst ihr dann noch entscheiden
# Holt das Poster ab, lasst ein fremdes verschwinden und hängt euer eigenes auf ;)

{{suchbegriffe|Poster, Posterdruck, Forex, Tafel, Hall of Fame}}
[[Category:Doktorandenzeug - PhD Stuff]]

File:Poster.jpg

2017-10-26T17:48:27Z

Randy.Fechner: Screenshot of IMT poster template. Just for illustration.

Screenshot of IMT poster template. Just for illustration.

4W-CryoVac

2017-10-26T17:01:51Z

Randy.Fechner:

[[{{PAGENAME}}/English | English Version]]


[[File:Image3001.png|250px|thumb|right|4W-CryoVac]]
[[File:Image99_1.png|250px|thumb|right|Kopf, fein]]

'''Gerätebezeichnung:''' 4W-CryoVac

'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' [[User:Randy.Fechner|Randy Fechner]], [[User:Sanaz.Rastjoo|Sanaz Rastjoo]]

'''Standort:''' B301, R212

'''Prüfmittel-/Fertigungsmittelnummer:''' XXXX

'''Spezifikations-Nummer:''' SP-XXXX

== Kurzbeschreibung ==
Vakuumanlage zur Messung des Widerstandes in Abhängigkeit der Temperatur.
Genauer: Die Probe wird mittels spezieller Messköpfe kontaktiert. Die Messköpfe bestehen aus je vier gespannten Kupferstäben (4-Punkt-Messung), deren Durchmesser sowie Abstand von Kopf zu Kopf variiert um verschiedenen Probengeometrien abzudecken, siehe Abbildung. Durch aktive Kühlung mit flüssigen Stickstoff, der mittels einer Pumpe durch die Anlage befördert wird, sind Temperature <-150°C möglich; die Maximaltemperatur liegt etwa bei +300°C.

== Messung ==
Die Keramik auf der sich die Probe befindet wird zuvor mit Wärmeleitfähigkeitsgel bestrichen und mit dem passenden Messkopf kontaktiert. (An dieser Stelle bietet sich an die Kontaktierung der äußeren sowie der inneren Kontakte zu überprüfen.) Nach Schließung der Anlage und starten der Vakuumpumpe kann der Stickstoff angeschlossen werden sowie die Stickstoffpumpe gestartet werden. Die Regelung des Stickstoffpumpen-Ventils sowie der Heizleistung geschieht automatisch durch die Einstellungen im Programm.

== Einschränkungen ==
Kontaktschwierigkeiten bei sehr dünnen Proben (<500nm Schichtdicke). In diesem Fall werden gelötete Steckverbindungen genutzt, die per Wirebonding mit der Oberfläche verbunden sind.

== Alternativen ==
[[CryoVac]]

== Eingewiesene Nutzer ==
[[User:Randy.Fechner|Randy Fechner]], [[User:Sanaz.Rastjoo|Sanaz Rastjoo]], ([[User:Marcel.Gueltig|Gültig, Marcel]] [[User:Hinnerk.Ossmer|Ossmer, Hinnerk]])

[[Category:Geräte - Devices]]

4W-CryoVac

2017-10-26T16:58:52Z

Randy.Fechner:

[[{{PAGENAME}}/English | English Version]]


[[File:Image3001.png|250px|thumb|right|4W-CryoVac]]
[[File:Image99_1.png|250px|thumb|right|Kopf, fein]]

'''Gerätebezeichnung:''' 4W-CryoVac

'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' [[User:Randy.Fechner|Randy Fechner]], [[User:Sanaz.Rastjoo|Sanaz Rastjoo]]

'''Standort:''' B301, R212

'''Prüfmittel-/Fertigungsmittelnummer:''' XXXX

'''Spezifikations-Nummer:''' SP-XXXX

== Kurzbeschreibung ==
Vakuumanlage zur Messung des Widerstandes in Abhängigkeit der Temperatur.
Genauer: Die Probe wird mittels spezieller Messköpfe kontaktiert. Die Messköpfe bestehen aus je vier gespannten Kupferstäben (4-Punkt-Messung), deren Durchmesser sowie Abstand von Kopf zu Kopf variiert um verschiedenen Probengeometrien abzudecken, siehe Abbildung. Durch aktive Kühlung mit flüssigen Stickstoff, der mittels einer Pumpe durch die Anlage befördert wird, sind Temperature <-150°C möglich; die Maximaltemperatur liegt etwa bei +300°C.

== Messung ==
Die Keramik auf der sich die Probe befindet wird zuvor mit Wärmeleitfähigkeitsgel bestrichen und mit dem passenden Messkopf kontaktiert. (An dieser Stelle bietet sich an die Kontaktierung der äußeren sowie der inneren Kontakte zu überprüfen.) Nach Schließung der Anlage und starten der Vakuumpumpe kann der Stickstoff angeschlossen werden sowie die Stickstoffpumpe gestartet werden. Die Regelung des Stickstoffpumpen-Ventils sowie der Heizleistung geschieht automatisch durch die Einstellungen im Programm.

== Einschränkungen ==
Kontaktschwierigkeiten bei sehr dünnen Proben (<500nm Schichtdicke)

== Alternativen ==
[[CryoVac]]

== Eingewiesene Nutzer ==
[[User:Marcel.Gueltig|Gültig, Marcel]] [[User:Hinnerk.Ossmer|Ossmer, Hinnerk]] [[User:Franziska.Lambrecht|Lambrecht, Franziska]]

[[Category:Geräte - Devices]]

4W-CryoVac

2017-10-26T16:58:16Z

Randy.Fechner:

[[{{PAGENAME}}/English | English Version]]


[[File:Image3001.png|250px|thumb|right|4W-CryoVac]]
[[File:Image99_1.png|250px|thumb|right|Kopf, fein]]

'''Gerätebezeichnung:''' 4W-CryoVac

'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' [[User:Randy.Fechner|Fechner, Randy]], [[User:Sanaz.Rastjoo|Rastjoo, Sanaz]]

'''Standort:''' B301, R212

'''Prüfmittel-/Fertigungsmittelnummer:''' XXXX

'''Spezifikations-Nummer:''' SP-XXXX

== Kurzbeschreibung ==
Vakuumanlage zur Messung des Widerstandes in Abhängigkeit der Temperatur.
Genauer: Die Probe wird mittels spezieller Messköpfe kontaktiert. Die Messköpfe bestehen aus je vier gespannten Kupferstäben (4-Punkt-Messung), deren Durchmesser sowie Abstand von Kopf zu Kopf variiert um verschiedenen Probengeometrien abzudecken, siehe Abbildung. Durch aktive Kühlung mit flüssigen Stickstoff, der mittels einer Pumpe durch die Anlage befördert wird, sind Temperature <-150°C möglich; die Maximaltemperatur liegt etwa bei +300°C.

== Messung ==
Die Keramik auf der sich die Probe befindet wird zuvor mit Wärmeleitfähigkeitsgel bestrichen und mit dem passenden Messkopf kontaktiert. (An dieser Stelle bietet sich an die Kontaktierung der äußeren sowie der inneren Kontakte zu überprüfen.) Nach Schließung der Anlage und starten der Vakuumpumpe kann der Stickstoff angeschlossen werden sowie die Stickstoffpumpe gestartet werden. Die Regelung des Stickstoffpumpen-Ventils sowie der Heizleistung geschieht automatisch durch die Einstellungen im Programm.

== Einschränkungen ==
Kontaktschwierigkeiten bei sehr dünnen Proben (<500nm Schichtdicke)

== Alternativen ==
[[CryoVac]]

== Eingewiesene Nutzer ==
[[User:Marcel.Gueltig|Gültig, Marcel]] [[User:Hinnerk.Ossmer|Ossmer, Hinnerk]] [[User:Franziska.Lambrecht|Lambrecht, Franziska]]

[[Category:Geräte - Devices]]

4W-CryoVac

2017-10-26T16:57:52Z

Randy.Fechner:

[[{{PAGENAME}}/English | English Version]]


[[File:Image3001.png|250px|thumb|right|4W-CryoVac]]
[[File:Image99_1.png|250px|thumb|right|Kopf, fein]]

'''Gerätebezeichnung:''' 4W-CryoVac

'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' [[User:Randy.Fechner|Fechner, Randy], [User:Sanaz.Rastjoo|Rastjoo, Sanaz]]

'''Standort:''' B301, R212

'''Prüfmittel-/Fertigungsmittelnummer:''' XXXX

'''Spezifikations-Nummer:''' SP-XXXX

== Kurzbeschreibung ==
Vakuumanlage zur Messung des Widerstandes in Abhängigkeit der Temperatur.
Genauer: Die Probe wird mittels spezieller Messköpfe kontaktiert. Die Messköpfe bestehen aus je vier gespannten Kupferstäben (4-Punkt-Messung), deren Durchmesser sowie Abstand von Kopf zu Kopf variiert um verschiedenen Probengeometrien abzudecken, siehe Abbildung. Durch aktive Kühlung mit flüssigen Stickstoff, der mittels einer Pumpe durch die Anlage befördert wird, sind Temperature <-150°C möglich; die Maximaltemperatur liegt etwa bei +300°C.

== Messung ==
Die Keramik auf der sich die Probe befindet wird zuvor mit Wärmeleitfähigkeitsgel bestrichen und mit dem passenden Messkopf kontaktiert. (An dieser Stelle bietet sich an die Kontaktierung der äußeren sowie der inneren Kontakte zu überprüfen.) Nach Schließung der Anlage und starten der Vakuumpumpe kann der Stickstoff angeschlossen werden sowie die Stickstoffpumpe gestartet werden. Die Regelung des Stickstoffpumpen-Ventils sowie der Heizleistung geschieht automatisch durch die Einstellungen im Programm.

== Einschränkungen ==
Kontaktschwierigkeiten bei sehr dünnen Proben (<500nm Schichtdicke)

== Alternativen ==
[[CryoVac]]

== Eingewiesene Nutzer ==
[[User:Marcel.Gueltig|Gültig, Marcel]] [[User:Hinnerk.Ossmer|Ossmer, Hinnerk]] [[User:Franziska.Lambrecht|Lambrecht, Franziska]]

[[Category:Geräte - Devices]]

User:Randy.Fechner

2017-09-01T14:17:39Z

Randy.Fechner:

User:Randy.Fechner

2017-09-01T14:17:21Z

Randy.Fechner:

[[file:Randy_Fechner.jpg|thumb|150x225px|rechts|Randy Fechner]]

[[User:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Randy Fechner ==


'''Funktionsbereich''': F&E1-SMD

'''Aufgabengebiet''': Thermomechanische Nanoaktoren

'''Bau''': 301

'''Raum''': 402

'''Telefon''': 0721-608-23845

'''e-mail''': mailto:randy.fechner@kit.edu

'''Stellvertreter''': [[User:Sanaz.Rastjoo|Rastjoo, Sanaz]]

== Tätigkeitsbeschreibung ==
Weiterentwicklung von In-Situ-Messverfahren zur Charakterisierung physikalischer Kenngrößen im Nanometermaßstab. Herstellung thermomechanischer Nanoaktoren und deren Integration in nanophotonische Chips.

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===
*[[RIE/RIBE_Oxford_PlasmaLab_100 | RIE/RIBE Oxford PlasmaLab 100]]
*[[Sputter-Anlage]]

=== Prozesse ===

=== Software ===

=== Materialien ===

== [[Abkürzungen - Abbreviations|PVA]] für IMT-Projekte ==
* [[00-000P]]

== Weitere Aufgaben am IMT ==





[[Category:Mitarbeiter - Employees]]

User:Randy.Fechner

2017-09-01T14:16:20Z

Randy.Fechner:

[[file:Randy_Fechner.jpg|thumb|150x225px|rechts|Randy Fechner]]

[[User:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Randy Fechner ==


'''Funktionsbereich''': F&E1-SMD

'''Aufgabengebiet''': Thermomechanische Nanoaktoren

'''Bau''': 307

'''Raum''': 227

'''Telefon''': 0721-608-23845

'''e-mail''': mailto:randy.fechner@kit.edu

'''Stellvertreter''': [[User:Franziska.Lambrecht|Lambrecht, Franziska]]

== Tätigkeitsbeschreibung ==
Weiterentwicklung von In-Situ-Messverfahren zur Charakterisierung physikalischer Kenngrößen im Nanometermaßstab. Herstellung thermomechanischer Nanoaktoren und deren Integration in nanophotonische Chips.

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===
*[[RIE/RIBE_Oxford_PlasmaLab_100 | RIE/RIBE Oxford PlasmaLab 100]]
*[[Sputter-Anlage]]

=== Prozesse ===

=== Software ===

=== Materialien ===

== [[Abkürzungen - Abbreviations|PVA]] für IMT-Projekte ==
* [[00-000P]]

== Weitere Aufgaben am IMT ==





[[Category:Mitarbeiter - Employees]]

User:Randy.Fechner

2015-04-09T11:52:35Z

Randy.Fechner: Die Seite wurde neu angelegt: „Randy Fechner English Version == Randy Fechner == <!-- Falls ein Bild a…“

[[Datei:Randy_Fechner.jpg|thumb|150x225px|rechts|Randy Fechner]]

[[Benutzer:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Randy Fechner ==


'''Funktionsbereich''': F&E1-SMD

'''Aufgabengebiet''': Thermomechanische Nanoaktoren

'''Bau''': 307

'''Raum''': 227

'''Telefon''': 0721-608-23845

'''e-mail''': mailto:randy.fechner@partner.kit.edu

'''Stellvertreter''': [[Benutzer:Franziska.Lambrecht|Lambrecht, Franziska]]

== Tätigkeitsbeschreibung ==
Weiterentwicklung von In-Situ-Messverfahren zur Charakterisierung physikalischer Kenngrößen im Nanometermaßstab. Herstellung thermomechanischer Nanoaktoren und deren Integration in nanophotonische Chips.

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

=== Geräte ===
*[[RIE/RIBE_Oxford_PlasmaLab_100 | RIE/RIBE Oxford PlasmaLab 100]]
*[[Sputter-Anlage]]

=== Prozesse ===

=== Software ===

=== Materialien ===

== [[Abkürzungen - Abbreviations|PVA]] für IMT-Projekte ==
* [[00-000P]]

== Weitere Aufgaben am IMT ==





[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

File:Randy Fechner.jpg

2015-04-09T11:37:34Z

Randy.Fechner: