IMT-Wiki - User contributions [en]

Reinraum - Cleanroom/english

2016-11-23T09:55:32Z

Uwe.Koehler:

=Cleanrooms at IMT=

The IMT possesses ca. 500 m² of class ISO 7 (DIN EN ISO 14644) clean rooms. These rooms are under the supervision of the [[Core Technologies (CTE)]] Department, represented by the group leader microtechnologies, [[User:Uwe.Koehler|Uwe Köhler]]. Devices in the clean rooms include the Electron Beam lithography and UV lithography facilities such as Direct Laser Writing, an [[EVG_620_Double_Side_Mask_Aligner|EVG mask aligner]] and two [[Nanoscribe PhotonicProfessional|NANOSCRIBE]] devices, as well as the surrounding infrastructure like Spin-Coater, Developer and Plasma Etching facilities.

For any work in the clean room, the rules of working instruction AA505.xx apply [[Reinraumregeln|(see here also)]]. Employees with a general safety instruction may enter the clean room '''accompanied by or under the supervision of an employee with entrance permit''' and use the facilities therein or do other things like SEM inspections or easy measurement tasks.

=Access=
Anyone planning extensive '''independent work''' in the clean room has to request permission from [[Core Technologies (CTE)|CTE]]. Therefor anyone first has to contact [[User:Uwe.Koehler|Uwe Köhler]]. Candidates for personal access will have a kick-off meeting with the clean room team, where they describe their future work and stake out their claims concerning infrastructure and clean room team. In form FB527.xx a mentor will be designated who supervises the induction and discusses the necessary device instructions. After the induction time the personal ID-Card is coded for a three months clean room access. With each participation in the quarterly clean room user meeting the access is extended by another three months.

* Access with a personal ID-Card is only granted for intensive and regular work. Once a week is not enough.
* Candidates for personal access will have a kick-off meeting with the clean room team and their mentor or adviser, where an instruction plan will be discussed and decided.
* Cleanroom access is only ever 3 months - for the period between one clean room user meeting to the next
* Checkliste Reinraumzutritt FB527.xx
* Standard access to the clean room is reduced to 7 am to 5 pm Other times must be applied for and need to be well founded.
* Every misbehavior reduces your admission in access or time.
* In case of severe misdoings your access will be totally canceled for a limited time.

But: access is always possible with an adviser, mentor or team member. You can also always instruct someone of the team by Laufkarte.

{|class="wikitable" border="1"
!Bereich
!Mentor(en)
|-
|FuE1-BSS
|[[User:Felix.Vuellers|Felix Vüllers]]
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|[[User:Markus.Meissner|Markus Meissner]]
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|FuE1-SMD
|[[User:Alban.Muslija|Alban Muslija]]
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|FuE2-BBM
|[[User:Sebastian.vonderEcken|Sebastian von der Ecken]]
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|FuE2-PA
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|FuE3-TN
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|FuE3-XOM
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|FuE4-3GP
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|CTE
|[[User:Uwe.Koehler|Uwe Köhler]], [[User:Paul.Abaffy|Paul Abaffy]], [[User:Heike.Fornasier|Heike Fornasier]], [[User:Birgit.Huebner|Birgit Hübner]], [[User:Barbara.Matthis|Barbara Matthis]]
|}

=Cleanroom Team=
* [[Nanoscribe PhotonicProfessional|Nanoscribe]] und [[Laser-Lithographie-Anlage |DWL]]: [[User:Florian.Rupp|Florian Rupp]] und [[User:Stefan.Hengsbach|Stefan Hengsbach]]
* OLI und Spincoater: [[User:Heike.Fornasier|Heike Fornasier]]
* [[Elektronenstrahlschreiber VB6 UHR-EWF|E-beam]]: [[User:Lothar.Hahn| Lothar Hahn]], [[User:Marie-Kristin.Gamer|Marie-Kristin Gamer]] und [[User:Andreas.Bacher|Andreas Bacher]]
* [[Rasterelektronenmikroskop SUPRA 60 VP|REM]]: [[User:Paul.Abaffy|Paul Abaffy]]
* Galvanik: [[User:Barbara.Matthis|Barbara Matthis]]
* [[RIE/RIBE_Oxford_PlasmaLab_100 | RIE/RIBE]]: [[User:Alban.Muslija|Alban Muslija]]
* Resisttechnik und Chemikalien (ChemA): [[User:Birgit.Huebner|Birgit Hübner]]
* Technik und Infrastruktur: [[User:Timo.Heneka|Timo Heneka]] und [[User:Uwe.Koehler|Uwe Köhler]]

=Cleanroom User Group Meeting=
* every 6 month (2 times per annum) for better networking, better information flow, less anonymity and co-education
* compulsory for all cleanroom users
* 5 scientific presentation (10+5 min)
* poster session (microscope and SEM picture gallery)
* varia from user community
* remarks on security, equipment, new members, ...

[[Category:Reinraum]]
[[Category:Core Technologies (CTE)]]
[[Category:Infrastruktur]]
[[Category:English]]

Reinraum - Cleanroom

2016-01-12T11:34:50Z

Uwe.Koehler:

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

'''Die Reinräume des IMT'''

Das IMT verfügt über ca. 500 m² Reinraumfläche der Klasse ISO 7 (nach DIN EN ISO 14644). Die Verantwortung für diese Räume hat der Bereich [[Core Technologies (CTE)]] - vor Ort vertreten durch den Gruppenleiter Mikrotechnologien [[Benutzer:Uwe.Koehler|Uwe Köhler]]. Unter anderem befinden sich hier die E-Beam-Lithografie, verschiedene Varianten der UV-Lithografie wie z.B. Direct Laser Writing, ein [[EVG_620_Double_Side_Mask_Aligner| Mask Aligner von EVG]] und zwei [[Nanoscribe PhotonicProfessional|NANOSCRIBE]] Geräte und die dazugehörige Infrastruktur wie Spincoater, Nassentwickler, diverse Plasmaätzanlagen etc.

Im Reinraum gilt die Arbeitsanweisung AA505.xx [[Reinraumregeln|(siehe auch Reinraumregeln)]]. Mitarbeiter, die bereits an einer Schulung "Allgemeine Sicherheitsunterweisung" teilgenommen haben, dürfen den Reinraum '''in Begleitung eines Mitarbeiters''' mit Zutrittsberechtigung betreten und unter Aufsicht oder zusammen mit einem berechtigten Mitarbeiter Anlagen im Reinraum nutzen.

'''Selbstständig''' kann der IMT-Reinraum nur nach Genehmigung durch CTE betreten und genutzt werden. Wer also umfangreiche Arbeiten selbstständig im Reinraum durchführen will, wendet sich an den Reinraumverantwortlichen [[Benutzer:Uwe.Koehler|Uwe Köhler]]. In einem KickOff Meeting zusammen mit dem Reinraumteam, stellt der neue Nutzer seine Arbeit und seine Ansprüche an die Infrastruktur und das Team vor. Im Formular FB527.xx wird ein Mentor bestimmt, der die Einarbeitung überwacht und es werden die nötigen Einweisungen besprochen. Nach der EInarbeitungszeit kann der KIT-Werksausweis mit einer Laufzeit von bis zu 3 Monaten kodiert werden. Durch die Teilnahme am vierteljährlich stattfindenden User Meeting wird die Zugangsberechtigung dann jeweils um ein weiteres viertel Jahr verlängert.

'''<span style="color:#800000"> mehr Informationen unter </span> [[{{PAGENAME}}/english|English version]]'''

[[Kategorie: Infrastruktur]]

Reinraumregeln/English

2013-12-13T09:28:50Z

Uwe.Koehler:

[[Datei:RR_Einkleidung_Blau.jpg|150px|thumb|left|Blue Overalls and Hood for the Team]]
[[Datei:Reinraumkleidung_Wei%C3%9F.jpg|150px|thumb|right|Clothing for Users]]
== Clothing in the cleanroom ==

'''The cleanroom team wear blue overalls and hoods. All the other users wear white overalls and paper hoods. Masks are only necessary with critical processes like spincoating or if one has a beard.
'''

== Ground rules in the cleanroom ==

'''Always wear appropriate gloves and a mask if necessary!'''

'''Be careful with your probes, be aware of particles, dirt and avoid finger prints!'''

'''Leave your working place always cleared up and clean! Substrates and chemicals must be removed and restored.'''

'''Experiments should always be checked with the a responsible person. Chemicals have to be labeled and the experimental setup has to be marked with a date and the name of the user!'''

'''Substrates must always be accompanied by its documents!'''

'''Don't move to fast in the cleanroom and don't make hasty moves.'''

'''Eating, drinking and taking medicine are not allowed in any lab, especially in the cleanroom!'''

'''Only use the special cleanroom paper in the cleanroom! '''

== Safety rules in the cleanroom ==
[[Datei:Sicherheitseinrichtungen02.jpg|150px|thumb|right|]]

'''Der Reinraum des IMT ist ein Labor mit erhöhter Gefährdung (s.a. Betriebsanweisung Alleinarbeit). Das heißt, dass z.B. tagsüber zwischen 6:00 und 19:00 Uhr auch alleine gearbeitet werden kann. Das erfordert aber auch eine Minimierung möglicher Gefährdungen sei es durch giftige Chemikalien oder gefährliche Laborgeräte. Da im Reinraum offen mit Gefahrstoffen umgegangen wird und Dämpfe in die Umluft gelangen können, wird angestrebt nur möglichst harmlose Chemikalien zu verwenden. Giftige, umweltgefährdende oder gar krebserregende Stoffe sind verboten oder dürfen nur von speziell geschulten Mitarbeitern mit entsprechenden Sicherheitsvorkehrungen verwendet werden. Jeder neue Stoff, der im Reinraum verwendet werden soll, muss gemeldet und vom Laborverantwortlichen genehmigt werden.'''

== Einschränkungen ==

Reinraumregeln/English

2013-12-13T08:35:13Z

Uwe.Koehler:

[[Datei:RR_Einkleidung_Blau.jpg|150px|thumb|left|Reinraumkleidung Reinraumteam]]
[[Datei:Reinraumkleidung_Wei%C3%9F.jpg|150px|thumb|right|Reinraumkleidung User]]
== Reinraumkleidung ==

'''Die Mitarbeiter des Reinraumteams tragen im Reinraum blaue Overalls und Hauben. Die sonstigen Nutzer des Reinraums tragen weiße Overalls und Einweghauben. Mundschutz zu tragen ist nicht obligatorisch, sondern sollte nur im Bedarfsfall bei kritischen Prozessen wie Spincoating getragen werden. Bartträger müssen immer Mundschutz tragen.
'''

== Grundregeln im Reinraum ==

'''Grundsätzlich im Reinraum Handschuhe und falls erforderlich Mundschutz tragen!'''

'''Auf saubere Handhabung der Substrate achten, Verunreinigungen, Partikel und Fingerabdrücke vermeiden!'''

'''Den Arbeitsplatz stets aufgeräumt und gesäubert hinterlassen! Substrate und Chemikalien müssen weggeräumt werden.'''

'''Versuche dürfen nur in Absprache mit dem Reinraumverantwortlichen aufgebaut werden und müssen mit Name und Datum gekennzeichnet sein!'''

'''Substrate und Dokumente müssen einer Laufkarte oder einem Mitarbeiter zuzuordnen sein!'''

'''Schnelles Gehen und hektische Bewegungen unbedingt vermeiden.'''

'''Der Verzehr sowie die Mitnahme von Speisen, Getränken, Genussmitteln oder Medikamenten ist verboten!'''

'''Für die Dokumentation darf nur spezielles Reinraumpapier verwendet werden! '''

== Sicherheit im Reinraum ==
[[Datei:Sicherheitseinrichtungen02.jpg|150px|thumb|right|]]

'''Der Reinraum des IMT ist ein Labor mit erhöhter Gefährdung (s.a. Betriebsanweisung Alleinarbeit). Das heißt, dass z.B. tagsüber zwischen 6:00 und 19:00 Uhr auch alleine gearbeitet werden kann. Das erfordert aber auch eine Minimierung möglicher Gefährdungen sei es durch giftige Chemikalien oder gefährliche Laborgeräte. Da im Reinraum offen mit Gefahrstoffen umgegangen wird und Dämpfe in die Umluft gelangen können, wird angestrebt nur möglichst harmlose Chemikalien zu verwenden. Giftige, umweltgefährdende oder gar krebserregende Stoffe sind verboten oder dürfen nur von speziell geschulten Mitarbeitern mit entsprechenden Sicherheitsvorkehrungen verwendet werden. Jeder neue Stoff, der im Reinraum verwendet werden soll, muss gemeldet und vom Laborverantwortlichen genehmigt werden.'''

== Einschränkungen ==

Reinraumregeln

2013-12-13T08:27:28Z

Uwe.Koehler:

[[Kategorie:Allgemeines]]
[[{{PAGENAME}}/English | English Version]]


[[Datei:RR_Einkleidung_Blau.jpg|150px|thumb|left|Reinraumkleidung Reinraumteam]]
[[Datei:Reinraumkleidung_Wei%C3%9F.jpg|150px|thumb|right|Reinraumkleidung User]]
== Reinraumkleidung ==

'''Die Mitarbeiter des Reinraumteams tragen im Reinraum blaue Overalls und Hauben. Die sonstigen Nutzer des Reinraums tragen weiße Overalls und Einweghauben. Mundschutz zu tragen ist nicht obligatorisch, sondern sollte nur im Bedarfsfall bei kritischen Prozessen wie Spincoating getragen werden. Bartträger müssen immer Mundschutz tragen.
'''

== Grundregeln im Reinraum ==

'''Grundsätzlich im Reinraum Handschuhe und falls erforderlich Mundschutz tragen!'''

'''Auf saubere Handhabung der Substrate achten, Verunreinigungen, Partikel und Fingerabdrücke vermeiden!'''

'''Den Arbeitsplatz stets aufgeräumt und gesäubert hinterlassen! Substrate und Chemikalien müssen weggeräumt werden.'''

'''Versuche dürfen nur in Absprache mit dem Reinraumverantwortlichen aufgebaut werden und müssen mit Name und Datum gekennzeichnet sein!'''

'''Substrate und Dokumente müssen einer Laufkarte oder einem Mitarbeiter zuzuordnen sein!'''

'''Schnelles Gehen und hektische Bewegungen unbedingt vermeiden.'''

'''Der Verzehr sowie die Mitnahme von Speisen, Getränken, Genussmitteln oder Medikamenten ist verboten!'''

'''Für die Dokumentation darf nur spezielles Reinraumpapier verwendet werden! '''

== Sicherheit im Reinraum ==
[[Datei:Sicherheitseinrichtungen02.jpg|150px|thumb|right|]]

'''Der Reinraum des IMT ist ein Labor mit erhöhter Gefährdung (s.a. Betriebsanweisung Alleinarbeit). Das heißt, dass z.B. tagsüber zwischen 6:00 und 19:00 Uhr auch alleine gearbeitet werden kann. Das erfordert aber auch eine Minimierung möglicher Gefährdungen sei es durch giftige Chemikalien oder gefährliche Laborgeräte. Da im Reinraum offen mit Gefahrstoffen umgegangen wird und Dämpfe in die Umluft gelangen können, wird angestrebt nur möglichst harmlose Chemikalien zu verwenden. Giftige, umweltgefährdende oder gar krebserregende Stoffe sind verboten oder dürfen nur von speziell geschulten Mitarbeitern mit entsprechenden Sicherheitsvorkehrungen verwendet werden. Jeder neue Stoff, der im Reinraum verwendet werden soll, muss gemeldet und vom Laborverantwortlichen genehmigt werden.'''

== Einschränkungen ==

File:Sicherheitseinrichtungen02.jpg

2013-12-13T08:10:39Z

Uwe.Koehler:

Reinraumregeln

2013-11-22T13:09:51Z

Uwe.Koehler: /* Reinraumkleidung */

Reinraumregeln

2013-11-20T16:12:57Z

Uwe.Koehler:

File:Reinraumkleidung Weiß.jpg

2013-11-20T16:03:13Z

Uwe.Koehler:

Reinraumregeln

2013-11-19T09:29:52Z

Uwe.Koehler:

File:RR Einkleidung Blau.jpg

2013-11-19T09:25:40Z

Uwe.Koehler: Blauer Reinraumoverall

Blauer Reinraumoverall

Reinraumregeln/English

2013-11-05T10:06:00Z

Uwe.Koehler:

[[Datei:Reinraum_Sicherheit_001.jpg|250px|thumb|right|<Kleberoboter im Resistlabor>]]

== Clothing ==

== Groundrules ==

'''Always wear gloves and if necessary a mask!'''

'''Auf saubere Handhabung der Substrate achten, Verunreinigungen, Partikel und Fingerabdrücke vermeiden!'''

'''Den Arbeitsplatz stets aufgeräumt und gesäubert hinterlassen! Substrate und Chemikalien müssen weggeräumt werden.'''

'''Versuche dürfen nur in Absprache mit dem Reinraumverantwortlichen aufgebaut werden und müssen mit Name und Datum gekennzeichnet sein!'''

'''Substrate und Dokumente müssen einer Laufkarte oder einem Mitarbeiter zuzuordnen sein!'''

'''Schnelles Gehen und hektische Bewegungen unbedingt vermeiden.'''

'''Der Verzehr sowie die Mitnahme von Speisen, Getränken, Genussmitteln oder Medikamenten ist verboten!'''

'''Für die Dokumentation darf nur spezielles Reinraumpapier verwendet werden! '''

== Safety ==
[[Datei:Reinraum_Sicherheit_001.jpg|250px|thumb|right|<Kleberoboter im Resistlabor>]]

== Specialties ==

Reinraumregeln/English

2013-11-05T09:49:56Z

Uwe.Koehler:

[[Datei:Reinraum_Sicherheit_001.jpg|250px|thumb|right|<Kleberoboter im Resistlabor>]]

== Clothing ==

== Groundrules ==

'''Grundsätzlich im Reinraum Handschuhe und falls erforderlich Mundschutz tragen!'''

'''Auf saubere Handhabung der Substrate achten, Verunreinigungen, Partikel und Fingerabdrücke vermeiden!'''

'''Den Arbeitsplatz stets aufgeräumt und gesäubert hinterlassen! Substrate und Chemikalien müssen weggeräumt werden.'''

'''Versuche dürfen nur in Absprache mit dem Reinraumverantwortlichen aufgebaut werden und müssen mit Name und Datum gekennzeichnet sein!'''

'''Substrate und Dokumente müssen einer Laufkarte oder einem Mitarbeiter zuzuordnen sein!'''

'''Schnelles Gehen und hektische Bewegungen unbedingt vermeiden.'''

'''Der Verzehr sowie die Mitnahme von Speisen, Getränken, Genussmitteln oder Medikamenten ist verboten!'''

'''Für die Dokumentation darf nur spezielles Reinraumpapier verwendet werden! '''

== Safety ==
[[Datei:Reinraum_Sicherheit_001.jpg|250px|thumb|right|<Kleberoboter im Resistlabor>]]

== Specialties ==

Reinraumregeln/English

2013-11-05T09:49:12Z

Uwe.Koehler: Die Seite wurde neu angelegt: „<Kleberoboter im Resistlabor> == Clothing == == Groundrules == '''Grundsätzlich im Reinraum Handschuh…“

[[Datei:Reinraum_Sicherheit_001.jpg|250px|thumb|right|<Kleberoboter im Resistlabor>]]

== Clothing ==

== Groundrules ==

'''Grundsätzlich im Reinraum Handschuhe und falls erforderlich Mundschutz tragen!'''

'''Auf saubere Handhabung der Substrate achten, Verunreinigungen, Partikel und Fingerabdrücke vermeiden!'''

'''Den Arbeitsplatz stets aufgeräumt und gesäubert hinterlassen! Substrate und Chemikalien müssen weggeräumt werden.'''

'''Versuche dürfen nur in Absprache mit dem Reinraumverantwortlichen aufgebaut werden und müssen mit Name und Datum gekennzeichnet sein!'''

'''Substrate und Dokumente müssen einer Laufkarte oder einem Mitarbeiter zuzuordnen sein!'''

'''Schnelles Gehen und hektische Bewegungen unbedingt vermeiden.'''

'''Der Verzehr sowie die Mitnahme von Speisen, Getränken, Genussmitteln oder Medikamenten ist verboten!'''

'''Für die Dokumentation darf nur spezielles Reinraumpapier verwendet werden! '''

== Sicherheit im Reinraum ==
[[Datei:Reinraum_Sicherheit_001.jpg|250px|thumb|right|<Kleberoboter im Resistlabor>]]

== Einschränkungen ==

Reinraumregeln

2013-11-05T09:41:36Z

Uwe.Koehler:

Reinraumregeln

2013-11-05T09:40:42Z

Uwe.Koehler:

Reinraumregeln

2013-11-05T09:38:21Z

Uwe.Koehler:

Reinraumregeln

2013-11-05T09:36:40Z

Uwe.Koehler:

[[Kategorie:Allgemeines]]
[[{{PAGENAME}}/English | English Version]]


[[Datei:Reinraum_Sicherheit_001.jpg|250px|thumb|right|<Kleberoboter im Resistlabor>]]

== Reinraumkleidung ==

== Grundregeln ==

'''Auf saubere Handhabung der Substrate achten, Verunreinigungen, Parti-kel und Fingerabdrücke vermeiden!'''

'''Grundsätzlich im Reinraum Handschuhe und falls erforderlich Mundschutz tragen!'''

'''Auf saubere Handhabung der Substrate achten, Verunreinigungen, Partikel und Fingerabdrücke vermeiden!'''

'''Grundsätzlich im Reinraum Handschuhe und falls erforderlich Mundschutz tragen!'''

'''Den Arbeitsplatz stets aufgeräumt und gesäubert hinterlassen! Substrate und Chemikalien müssen weggeräumt werden.'''

'''Versuche dürfen nur in Absprache mit dem Reinraumverantwortlichen aufgebaut werden und müssen mit Name und Datum gekennzeichnet sein!'''

Substrate und Dokumente müssen einer Laufkarte oder einem Mitarbeiter zuzuordnen sein!
Schnelles Gehen und hektische Bewegungen unbedingt vermeiden.
Der Verzehr sowie die Mitnahme von Speisen, Getränken, Genussmitteln oder Medikamenten ist verboten!
Für die Dokumentation darf nur spezielles Reinraumpapier verwendet werden!

Den Arbeitsplatz stets aufgeräumt und gesäubert hinterlassen! Substrate und Chemikalien müssen weggeräumt werden.

Versuche dürfen nur in Absprache mit dem Reinraumverantwortlichen aufgebaut werden und müssen mit Name und Datum gekennzeichnet sein!

Substrate und Dokumente müssen einer Laufkarte oder einem Mitarbeiter zuzuordnen sein!

Schnelles Gehen und hektische Bewegungen unbedingt vermeiden.

Der Verzehr sowie die Mitnahme von Speisen, Getränken, Genussmitteln oder Medikamenten ist verboten!

Für die Dokumentation darf nur spezielles Reinraumpapier verwendet werden!
'''

== Spezifikationen des Geräts ==
[[Datei:Reinraum_Sicherheit_001.jpg|250px|thumb|right|<Kleberoboter im Resistlabor>]]

Argon dient als Prozessgas.
Der Roboter wird mit Stickstoff betrieben.

Mittels der Software: JR Points Version 4.6 wird der Roboter programmiert.

Arbeitsbereich: 400 x 400 x150 mm,
Genauigkeit: +- 0,01 mm

== Etablierte Prozesse ==

Wafer, welche bisher standardmäßig beklebt wurden, sind:
* 4", 6" - Si-Wafer

* 4" - Keramikwafer

* 4" - Glaswafer

Folien können mit einer Schichtdicke von 100 µm bis 3mm verklebt werden.

Standardgrößen der Resistfolien sind:

* 75 x 30 mm²

* 63 x 23 mm²

* runde Folien mit Flat / ohne Flat und einem Durchmesser von 80 mm²

* kleinst mögliche Foliengröße: 59 x 19 mm²

== Einschränkungen ==

Reinraumregeln

2013-11-05T09:33:17Z

Uwe.Koehler:

[[Kategorie:Allgemeines]]
[[{{PAGENAME}}/English | English Version]]


[[Datei:Reinraum_Sicherheit_001.jpg|250px|thumb|right|<Kleberoboter im Resistlabor>]]

== Kurzbeschreibung ==

'''Auf saubere Handhabung der Substrate achten, Verunreinigungen, Parti-kel und Fingerabdrücke vermeiden!

Grundsätzlich im Reinraum Handschuhe und falls erforderlich Mundschutz tragen!

Den Arbeitsplatz stets aufgeräumt und gesäubert hinterlassen! Substrate und Chemikalien müssen weggeräumt werden.

Versuche dürfen nur in Absprache mit dem Reinraumverantwortlichen aufgebaut werden und müssen mit Name und Datum gekennzeichnet sein!

Substrate und Dokumente müssen einer Laufkarte oder einem Mitarbeiter zuzuordnen sein!

Schnelles Gehen und hektische Bewegungen unbedingt vermeiden.

Der Verzehr sowie die Mitnahme von Speisen, Getränken, Genussmitteln oder Medikamenten ist verboten!

Für die Dokumentation darf nur spezielles Reinraumpapier verwendet werden!
'''

== Spezifikationen des Geräts ==
[[Datei:Reinraum_Sicherheit_001.jpg|250px|thumb|right|<Kleberoboter im Resistlabor>]]

Argon dient als Prozessgas.
Der Roboter wird mit Stickstoff betrieben.

Mittels der Software: JR Points Version 4.6 wird der Roboter programmiert.

Arbeitsbereich: 400 x 400 x150 mm,
Genauigkeit: +- 0,01 mm

== Etablierte Prozesse ==

Wafer, welche bisher standardmäßig beklebt wurden, sind:
* 4", 6" - Si-Wafer

* 4" - Keramikwafer

* 4" - Glaswafer

Folien können mit einer Schichtdicke von 100 µm bis 3mm verklebt werden.

Standardgrößen der Resistfolien sind:

* 75 x 30 mm²

* 63 x 23 mm²

* runde Folien mit Flat / ohne Flat und einem Durchmesser von 80 mm²

* kleinst mögliche Foliengröße: 59 x 19 mm²

== Einschränkungen ==

Reinraumregeln

2013-11-05T09:31:56Z

Uwe.Koehler:

Reinraumregeln

2013-11-05T09:28:45Z

Uwe.Koehler:

Reinraum - Cleanroom

2013-11-05T09:26:32Z

Uwe.Koehler:

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

'''Die Reinräume des IMT'''

Das IMT verfügt über ca. 500 m² Reinraumfläche der Klasse ISO 7 (nach DIN EN ISO 14644). Diese Räume sind dem Funktionsbereich [[Mikrofertigung (MF)]] zugeordnet. Unter anderem befindet sich hier die E-Beam-Lithografie, UV-Lithografie in verschiedenen Varianten, wie z.B. Direct Laser Writing, ein [[EVG_620_Double_Side_Mask_Aligner| Mask Aligner von EVG]] und zwei [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System|NANOSCRIBE]] Geräte und die dazugehörige Infrastruktur wie Spin Coater, Entwickler und diverse Plasmaätzanlagen.

Der IMT-Reinraum kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. Im Reinraum gilt die Arbeitsanweisung AA505.xx [[Reinraumregeln|(s.a. Reinraumregeln)]]. Mitarbeiter mit einer allgemeinen Sicherheitsunterweisung dürfen den Reinraum in Begleitung eines Mitarbeiters mit Zutrittsberechtigung betreten und unter Aufsicht oder zusammen mit einem berechtigten Mitarbeiter Anlagen im Reinraum nutzen oder andere Tätigkeiten wie REM-Inspektionen oder sonstige Messungen ausführen. Wer umfangreiche Arbeiten selbstständig im Reinraum vornehmen will, muss dies mit einem Formular FB516.xx beim Gruppenleiter der Fertigungsausführung [[Benutzer:Uwe.Koehler|Uwe Köhler]] beantragen. Dieser Antrag muss eine Begründung für den selbstständigen Reinraumzutritt, die Projektnummer der geplanten Arbeiten und eine Abschätzung der wöchentlichen Arbeitszeit beinhalten und vom FBL des Antragstellers gegengezeichnet sein. Wer nur bis zu 3 Monaten am IMT tätig ist, bekommt in der Regel keinen selbstständigen Zugang, alle anderen benötigen eine mindestens 4-wöchige Einarbeitungszeit.

[[Kategorie: Infrastruktur]]

Reinraumregeln

2013-11-05T09:19:38Z

Uwe.Koehler:

Kontinuierlicher Verbesserungsprozess im IMT

2013-11-05T09:11:36Z

Uwe.Koehler: hat „Kontinuierlicher Verbesserungsprozess im IMT“ nach „Reinraumregeln“ verschoben

#WEITERLEITUNG [[Reinraumregeln]]

Reinraumregeln

2013-11-05T09:11:36Z

Uwe.Koehler: hat „Kontinuierlicher Verbesserungsprozess im IMT“ nach „Reinraumregeln“ verschoben

== ==

[[Kategorie:Allgemeines]]

Reinraumregeln

2013-10-29T09:39:20Z

Uwe.Koehler: /* Reinraumregeln AA505.xx */

== ==

[[Kategorie:Allgemeines]]

Reinraumregeln

2013-10-29T09:36:30Z

Uwe.Koehler: /* Kontinuierlicher Verbesserungsprozess im IMT */

== Reinraumregeln AA505.xx ==

[[Kategorie:Allgemeines]]

Reinraum - Cleanroom/english

2013-10-29T09:34:15Z

Uwe.Koehler:

'''Clean Rooms at IMT'''

The IMT possesses ca. 500 m² of class ISO 7 (DIN EN ISO 14644) clean rooms. These rooms are under the supervision of the [[Mikrofertigung (MF)|Microfabrication (MF)]] Department. Devices in the clean rooms include the Electron Beam lithography and UV lithography facilities such as Direct Laser Writing, an [[EVG_620_Double_Side_Mask_Aligner|EVG mask aligner]] and two [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System|NANOSCRIBE]] devices, as well as the surrounding infrastructure like Spin-Coater, Developer and Plasma Etching facilities.

Independent work in the clean room can only be done with permission from MF. The rules of working instruction AA505.xx apply. Employees with a general safety instruction may enter the clean room accompanied by or under the supervision of an employee with entrance permit and use the facilities therein or do other things like SEM inspections or easy measurement tasks. Anyone planning extensive independent work in the clean room has to request permission from the group leader of Manufacturing Execution (GL-FAF [[Benutzer:Uwe.Koehler|Uwe Köhler]]) using form FB516.xx. In this form you need to write down the reasons for independant working, the estimated weekly working time and it must be signed by your leader of department. Employees with up to 3 month at IMT, are normally not allowed, others need at least 4 weeks of practice under supervision.

[[Category:English]]

Reinraum - Cleanroom

2013-10-29T09:33:28Z

Uwe.Koehler:

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

'''Die Reinräume des IMT'''

Das IMT verfügt über ca. 500 m² Reinraumfläche der Klasse ISO 7 (nach DIN EN ISO 14644). Diese Räume sind dem Funktionsbereich [[Mikrofertigung (MF)]] zugeordnet. Unter anderem befindet sich hier die E-Beam-Lithografie, UV-Lithografie in verschiedenen Varianten, wie z.B. Direct Laser Writing, ein [[EVG_620_Double_Side_Mask_Aligner| Mask Aligner von EVG]] und zwei [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System|NANOSCRIBE]] Geräte und die dazugehörige Infrastruktur wie Spin Coater, Entwickler und diverse Plasmaätzanlagen.

Der IMT-Reinraum kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. Im Reinraum gilt die Arbeitsanweisung AA505.xx. Mitarbeiter mit einer allgemeinen Sicherheitsunterweisung dürfen den Reinraum in Begleitung eines Mitarbeiters mit Zutrittsberechtigung betreten und unter Aufsicht oder zusammen mit einem berechtigten Mitarbeiter Anlagen im Reinraum nutzen oder andere Tätigkeiten wie REM-Inspektionen oder sonstige Messungen ausführen. Wer umfangreiche Arbeiten selbstständig im Reinraum vornehmen will, muss dies mit einem Formular FB516.xx beim Gruppenleiter der Fertigungsausführung [[Benutzer:Uwe.Koehler|Uwe Köhler]] beantragen. Dieser Antrag muss eine Begründung für den selbstständigen Reinraumzutritt, die Projektnummer der geplanten Arbeiten und eine Abschätzung der wöchentlichen Arbeitszeit beinhalten und vom FBL des Antragstellers gegengezeichnet sein. Wer nur bis zu 3 Monaten am IMT tätig ist, bekommt in der Regel keinen selbstständigen Zugang, alle anderen benötigen eine mindestens 4-wöchige Einarbeitungszeit.

[[Kategorie: Infrastruktur]]

Reinraum - Cleanroom

2013-10-29T09:33:03Z

Uwe.Koehler:

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

'''Die Reinräume des IMT'''

Das IMT verfügt über ca. 500 m² Reinraumfläche der Klasse ISO 7 (nach DIN EN ISO 14644). Diese Räume sind dem Funktionsbereich [[Mikrofertigung (MF)]] zugeordnet. Unter anderem befindet sich hier die E-Beam-Lithografie, UV-Lithografie in verschiedenen Varianten, wie z.B. Direct Laser Writing, ein [[EVG_620_Double_Side_Mask_Aligner| Mask Aligner von EVG]] und zwei [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System|NANOSCRIBE]] Geräte und die dazugehörige Infrastruktur wie Spin Coater, Entwickler und diverse Plasmaätzanlagen.

Der IMT-Reinraum kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. Im Reinraum gilt die Arbeitsanweisung AA505.xx. Mitarbeiter mit einer allgemeinen Sicherheitsunterweisung dürfen den Reinraum in Begleitung eines Mitarbeiters mit Zutrittsberechtigung betreten und unter Aufsicht oder zusammen mit einem berechtigten Mitarbeiter Anlagen im Reinraum nutzen oder andere Tätigkeiten wie REM-Inspektionen oder sonstige Messungen ausführen. Wer umfangreiche Arbeiten selbstständig im Reinraum vornehmen will, muss dies mit einem Formular FB516.xx beim Gruppenleiter der Fertigungsausführung [[Benutzer:uwe.koehler|Uwe Köhler]] beantragen. Dieser Antrag muss eine Begründung für den selbstständigen Reinraumzutritt, die Projektnummer der geplanten Arbeiten und eine Abschätzung der wöchentlichen Arbeitszeit beinhalten und vom FBL des Antragstellers gegengezeichnet sein. Wer nur bis zu 3 Monaten am IMT tätig ist, bekommt in der Regel keinen selbstständigen Zugang, alle anderen benötigen eine mindestens 4-wöchige Einarbeitungszeit.

[[Kategorie: Infrastruktur]]

User:Uwe.Koehler

2013-10-29T09:31:15Z

Uwe.Koehler:

[[Benutzer:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Uwe Köhler ==


[[Datei:Koehler.jpg|rahmenlos|links|Text der Bild-Legende]]

'''Funktionsbereich''': Mikrofertigung

'''Aufgabengebiet''': GL-FAF

'''Raum''': 256

'''Telefon''': 23860

'''e-mail''': uwe.koehler@kit.edu

== Tätigkeitsbeschreibung ==

Gruppenleiter der Fertigungsausführung kurz GL-FAF, Vertreter des FBL MF [[Benutzer:Dieter.Maas|Dieter Maas]]

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

Ich bin auch Physiker: Siehe auch Seite [[Benutzer:Dieter.Maas|Dieter Maas]]. Außerdem bin ich Weintrinker, Zigarrenraucher, Hobbykoch und aktiver Tennisspieler (Bezirksliga Mittelbaden 40+). Läßt sich schwer vereinbaren, aber es geht.
== Weitere Aufgaben am IMT ==
Laborverantwortlicher (Zerberus) des [[Reinraum - Cleanroom|IMT-Reinraums]].
== Werdegang im IMT ==


[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

User:Dieter.Maas

2013-10-29T09:27:53Z

Uwe.Koehler:

[[Benutzer:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Dieter Maas ==


[[Datei:Maas_Internet.jpg|rahmenlos|links|Text der Bild-Legende]]

'''Funktionsbereich''': Mikrofertigung

'''Aufgabengebiet''': Funktionsbereichsleiter

'''Raum''': 254

'''Telefon''': 22774

'''e-mail''': dieter.maas@kit.edu

'''Stellvertreter''': [[Benutzer:Uwe.Koehler|Köhler, Uwe]]

== Tätigkeitsbeschreibung ==

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

Ich bin Physiker: Ich kann Nichts, bin aber zu Allem zu gebrauchen.

== Weitere Aufgaben am IMT ==
Vertreter des Institutsleiters in organisatorischen Angelegenheiten; Vertreter von [[Benutzer:Holger.Moritz|Holger Moritz]] bezüglich administrativer, das gesamte IMT betreffende Angelegenheiten, Informationsmanager des IMT, [http://www.knmf.kit.edu/238.php Leiter des KNMF-Labors für Mikro- und Nanostrukturierung], Gruppenleiter "Fertigungsvorbereitung".

== Werdegang im IMT ==


[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

Reinraum - Cleanroom/english

2013-10-29T09:25:39Z

Uwe.Koehler:

'''Clean Rooms at IMT'''

The IMT possesses ca. 500 m² of class ISO 7 (DIN EN ISO 14644) clean rooms. These rooms are under the supervision of the [[Mikrofertigung (MF)|Microfabrication (MF)]] Department. Devices in the clean rooms include the Electron Beam lithography and UV lithography facilities such as Direct Laser Writing, an [[EVG_620_Double_Side_Mask_Aligner|EVG mask aligner]] and two [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System|NANOSCRIBE]] devices, as well as the surrounding infrastructure like Spin-Coater, Developer and Plasma Etching facilities.

Independent work in the clean room can only be done with permission from MF. The rules of working instruction AA505.xx apply. Employees with a general safety instruction may enter the clean room accompanied by or under the supervision of an employee with entrance permit and use the facilities therein or do other things like SEM inspections or easy measurement tasks. Anyone planning extensive independent work in the clean room has to request permission from the group leader of Manufacturing Execution (GL-FAF [[Uwe.Koehler]]) using form FB516.xx. In this form you need to write down the reasons for independant working, the estimated weekly working time and it must be signed by your leader of department. Employees with up to 3 month at IMT, are normally not allowed, others need at least 4 weeks of practice under supervision.

[[Category:English]]

Reinraum - Cleanroom/english

2013-10-29T09:25:13Z

Uwe.Koehler:

'''Clean Rooms at IMT'''

The IMT possesses ca. 500 m² of class ISO 7 (DIN EN ISO 14644) clean rooms. These rooms are under the supervision of the [[Mikrofertigung (MF)|Microfabrication (MF)]] Department. Devices in the clean rooms include the Electron Beam lithography and UV lithography facilities such as Direct Laser Writing, an [[EVG_620_Double_Side_Mask_Aligner|EVG mask aligner]] and two [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System|NANOSCRIBE]] devices, as well as the surrounding infrastructure like Spin-Coater, Developer and Plasma Etching facilities.

Independent work in the clean room can only be done with permission from MF. The rules of working instruction AA505.xx apply. Employees with a general safety instruction may enter the clean room accompanied by or under the supervision of an employee with entrance permit and use the facilities therein or do other things like SEM inspections or easy measurement tasks. Anyone planning extensive independent work in the clean room has to request permission from the group leader of Manufacturing Execution (GL-FAF [[Uwe. Koehler]]) using form FB516.xx. In this form you need to write down the reasons for independant working, the estimated weekly working time and it must be signed by your leader of department. Employees with up to 3 month at IMT, are normally not allowed, others need at least 4 weeks of practice under supervision.

[[Category:English]]

Reinraum - Cleanroom/english

2013-10-29T09:23:06Z

Uwe.Koehler:

'''Clean Rooms at IMT'''

The IMT possesses ca. 500 m² of class ISO 7 (DIN EN ISO 14644) clean rooms. These rooms are under the supervision of the [[Mikrofertigung (MF)|Microfabrication (MF)]] Department. Devices in the clean rooms include the Electron Beam lithography and UV lithography facilities such as Direct Laser Writing, an [[EVG_620_Double_Side_Mask_Aligner|EVG mask aligner]] and two [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System|NANOSCRIBE]] devices, as well as the surrounding infrastructure like Spin-Coater, Developer and Plasma Etching facilities.

Independent work in the clean room can only be done with permission from MF. The rules of working instruction AA505.xx apply. Employees with a general safety instruction may enter the clean room accompanied by or under the supervision of an employee with entrance permit and use the facilities therein or do other things like SEM inspections or easy measurement tasks. Anyone planning extensive independent work in the clean room has to request permission from the group leader of Manufacturing Execution (GL-FAF) using form FB516.xx. In this form you need to write down the reasons for independant working, the estimated weekly working time and it must be signed by your leader of department. Employees with up to 3 month at IMT, are normally not allowed, others need at least 4 weeks of practice under supervision.

[[Category:English]]

Reinraum - Cleanroom/english

2013-10-29T09:22:48Z

Uwe.Koehler:

'''Clean Rooms at IMT'''

The IMT possesses ca. 500 m² of class ISO 7 (DIN EN ISO 14644) clean rooms. These rooms are under the supervision of the [[Mikrofertigung (MF)|Microfabrication (MF)]] Department. Devices in the clean rooms include the Electron Beam lithography and UV lithography facilities such as Direct Laser Writing, an [[EVG_620_Double_Side_Mask_Aligner|EVG mask aligner]] and two [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System|NANOSCRIBE]] devices, as well as the surrounding infrastructure like Spin-Coater, Developer and Plasma Etching facilities.

Independent work in the clean room can only be done with permission from MF. The rules of working instruction AA505.xx apply. Employees with a general safety instruction may enter the clean room accompanied by or under the supervision of an employee with entrance permit and use the facilities therein or do other things like SEM inspections or easy measurement tasks. Anyone planning extensive independent work in the clean room has to request permission from the group leader of Manufacturing Execution (GL-FAF)using form FB516.xx. In this form you need to write down the reasons for independant working, the estimated weekly working time and it must be signed by your leader of department. Employees with up to 3 month at IMT, are normally not allowed, others need at least 4 weeks of practice under supervision.

[[Category:English]]

User:Uwe.Koehler

2013-05-16T13:45:55Z

Uwe.Koehler:

[[Benutzer:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Uwe Köhler ==


[[Datei:Koehler.jpg|rahmenlos|links|Text der Bild-Legende]]

'''Funktionsbereich''': Mikrofertigung

'''Aufgabengebiet''': GL-FAF

'''Raum''': 256

'''Telefon''': 23860

'''e-mail''': uwe.koehler@kit.edu

== Tätigkeitsbeschreibung ==

Gruppenleiter der Fertigungsausführung kurz GL-FAF, Vertreter des FBL MF [[Dieter.Maas]]

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

Ich bin auch Physiker: Siehe auch Seite [[Dieter.Maas]]. Außerdem bin ich Weintrinker, Zigarrenraucher, Hobbykoch und aktiver Tennisspieler (Bezirksliga Mittelbaden 40+). Läßt sich schwer vereinbaren, aber es geht.
== Weitere Aufgaben am IMT ==
Laborverantwortlicher (Zerberus) des [[Reinraum - Cleanroom|IMT-Reinraums]].
== Werdegang im IMT ==


[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

User:Uwe.Koehler

2013-05-16T13:42:53Z

Uwe.Koehler:

[[Benutzer:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Uwe Köhler ==


[[Datei:Koehler.jpg|rahmenlos|links|Text der Bild-Legende]]

'''Funktionsbereich''': Mikrofertigung

'''Aufgabengebiet''': GL-FAF

'''Raum''': 256

'''Telefon''': 23860

'''e-mail''': uwe.koehler@kit.edu

== Tätigkeitsbeschreibung ==

Gruppenleiter der Fertigungsausführung kurz GL-FAF

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

Ich bin auch Physiker: Siehe Seite Dieter Maas. Außerdem bin ich Weintrinker, Zigarrenraucher, Hobbykoch und aktiver Tennisspieler (Bezirksliga Mittelbaden 40+). Läßt sich schwer vereinbaren, aber es geht.
== Weitere Aufgaben am IMT ==
Laborverantwortlicher (Zerberus) des [[Reinraum - Cleanroom|IMT-Reinraums]].
== Werdegang im IMT ==


[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

User:Uwe.Koehler

2013-05-16T13:41:00Z

Uwe.Koehler:

[[Benutzer:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Uwe Köhler ==


[[Datei:Koehler.jpg|rahmenlos|links|Text der Bild-Legende]]

'''Funktionsbereich''': Mikrofertigung

'''Aufgabengebiet''': GL-FAF

'''Raum''': 256

'''Telefon''': 23860

'''e-mail''': uwe.koehler@kit.edu

== Tätigkeitsbeschreibung ==

Gruppenleiter der Fertigungsausführung kurz GL-FAF

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

Ich bin auch Physiker: Siehe Seite Dieter Maas. Außerdem bin ich begeisteter Weintrinker, Zigarrenraucher, Koch und aktiver Tennisspieler (Bezirksliga Mittelbaden 40+)
== Weitere Aufgaben am IMT ==
Laborverantwortlicher (Zerberus) des [[Reinraum - Cleanroom|IMT-Reinraums]].
== Werdegang im IMT ==


[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

User:Uwe.Köhler

2013-05-16T13:36:31Z

Uwe.Koehler: Die Seite wurde geleert.

User:Uwe.Köhler

2013-05-16T13:35:17Z

Uwe.Koehler: hat „Benutzer:Uwe.Köhler“ nach „Benutzer:Uwe.Koehler“ verschoben

#WEITERLEITUNG [[Benutzer:Uwe.Koehler]]

User:Uwe.Koehler

2013-05-16T13:35:17Z

Uwe.Koehler: hat „Benutzer:Uwe.Köhler“ nach „Benutzer:Uwe.Koehler“ verschoben

[[Benutzer:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Uwe Köhler ==


[[Datei:Koehler.jpg|rahmenlos|links|Text der Bild-Legende]]

'''Funktionsbereich''': Mikrofertigung

'''Aufgabengebiet''': GL-FAF

'''Raum''': 256

'''Telefon''': 23860

'''e-mail''': uwe.koehler@kit.edu

== Tätigkeitsbeschreibung ==

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

Ich bin auch Physiker: Siehe Seite Dieter Maas
== Weitere Aufgaben am IMT ==
Laborverantwortlicher des [[Reinraum - Cleanroom|IMT-Reinraums]].
== Werdegang im IMT ==


[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

Reinraum - Cleanroom/english

2013-05-14T11:48:29Z

Uwe.Koehler:

'''Clean Rooms at IMT'''

The IMT possesses ca. 500 m² of class ISO 7 (DIN EN ISO 14644) clean rooms. These rooms are under the supervision of the [[Mikrofertigung (MF)|Microfabrication (MF)]] Department. Devices in the clean rooms include the Electron Beam lithography and UV lithography facilities such as Direct Laser Writing, an EVG mask aligner and two NANOSCRIBE devices, as well as the surrounding infrastructure like Spin-Coater, Developer and Plasma Etching facilities.

Independent work in the clean room can only be done with permission from MF. The rules of working instruction AA505.xx apply. Employees with a general safety instruction may enter the clean room accompanied by or under the supervision of an employee with entrance permit and use the facilities therein or do other things like SEM inspections or easy measurement tasks. Anyone planning extensive independent work in the clean room has to request permission from the group leader of Manufacturing Execution using form FB516.xx. In this form you need to write down the reasons for independant working, the estimated weekly working time and it must be signed by your leader of department. Employees with up to 3 month at IMT, are normally not allowed, others need at least 4 weeks of practice under supervision.

[[Category:English]]

Reinraum - Cleanroom/english

2013-05-14T11:47:35Z

Uwe.Koehler:

'''Clean Rooms at IMT'''

The IMT possesses ca. 500 m² of class ISO 7 (DIN EN ISO 14644) clean rooms. These rooms are under the supervision of the [[Mikrofertigung (MF)|Microfabrication (MF)]] Department. Devices in the clean rooms include the Electron Beam lithography and UV lithography facilities such as Direct Laser Writing, an EVG mask aligner and two NANOSCRIBE devices, as well as the surrounding infrastructure like Spin-Coater, Developer and Plasma Etching facilities.

Independent work in the clean room can only be done with permission from MF. The rules of working instruction AA505.xx apply. Employees with a general safety instruction may enter the clean room accompanied by or under the supervision of an employee with entrance permit and use the facilities therein or do other things like SEM inspections or easy measurement tasks. Anyone planning extensive independent work in the clean room has to request permission from the group leader of Manufacturing Execution using form FB516.xx. In this form you need to write down the reasons for independant working, the estimated weekly working time and it must be signed by your leader of department. Coworkers with up to 3 month at IMT, are normally not allowed, others need at least 4 weeks of practice under supervision.

[[Category:English]]

Reinraum - Cleanroom/english

2013-05-14T11:44:15Z

Uwe.Koehler:

'''Clean Rooms at IMT'''

The IMT possesses ca. 500 m² of class ISO 7 (DIN EN ISO 14644) clean rooms. These rooms are under the supervision of the [[Mikrofertigung (MF)|Microfabrication (MF)]] Department. Devices in the clean rooms include the Electron Beam lithography and UV lithography facilities such as Direct Laser Writing, an EVG mask aligner and two NANOSCRIBE devices, as well as the surrounding infrastructure like Spin-Coater, Developer and Plasma Etching facilities.

Independent work in the clean room can only be done with permission from MF. The rules of working instruction AA505.xx apply. Employees with a general safety instruction may enter the clean room accompanied by or under the supervision of an employee with entrance permit and use the facilities therein or execute other tasks. Anyone planning extensive independent work in the clean room has to request permission from the group leader of Manufacturing Execution using form FB516.xx. In this form you need to write down the reasons for independant working, the estimated weekly working time and it must be signed by your leader of department. Coworkers with up to 3 month at IMT, are normally not allowed, others need at least 4 weeks of practice under supervision.

[[Category:English]]

Reinraum - Cleanroom

2013-05-14T11:23:24Z

Uwe.Koehler:

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

'''Die Reinräume des IMT'''

Das IMT verfügt über ca. 500 m² Reinraumfläche der Klasse ISO 7 (nach DIN EN ISO 14644). Diese Räume sind dem Funktionsbereich [[Mikrofertigung (MF)]] zugeordnet. Unter anderem befindet sich hier die E-Beam-Lithografie, UV-Lithografie in verschiedenen Varianten, wie z.B. Direct Laser Writing, ein Mask Aligner von EVG und zwei NANOSCRIBE Geräte und die dazugehörige Infrastruktur wie Spin Coater, Entwickler und diverse Plasmaätzanlagen.

Der IMT-Reinraum kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. Im Reinraum gilt die Arbeitsanweisung AA505.xx. Mitarbeiter mit einer allgemeinen Sicherheitsunterweisung dürfen den Reinraum in Begleitung eines Mitarbeiters mit Zutrittsberechtigung betreten und unter Aufsicht oder zusammen mit einem berechtigten Mitarbeiter Anlagen im Reinraum nutzen oder andere Tätigkeiten wie REM-Inspektionen oder sonstige Messungen ausführen. Wer umfangreiche Arbeiten selbstständig im Reinraum vornehmen will, muss dies mit einem Formular FB516.xx beim Gruppenleiter der Fertigungsausführung beantragen. Dieser Antrag muss eine Begründung für den selbstständigen Reinraumzutritt, die Projektnummer der geplanten Arbeiten und eine Abschätzung der wöchentlichen Arbeitszeit beinhalten und vom FBL des Antragstellers gegengezeichnet sein. Wer nur bis zu 3 Monaten am IMT tätig ist, bekommt in der Regel keinen selbstständigen Zugang, alle anderen benötigen eine mindestens 4-wöchige Einarbeitungszeit.

[[Kategorie: Infrastruktur]]

Reinraum - Cleanroom

2013-05-07T12:17:41Z

Uwe.Koehler:

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

'''Die Reinräume des IMT'''
Das Imt verfügt über ca. 500 m² Reinraumfläche der Klasse ISO 7 (nach DIN EN ISO 14644). Diese Räume sind dem Funktionsbereich Mikrofertigung (MF) zugeordnet. Unter anderem befindet sich hier die E-Beam-Lithografie, UV-Lithografie in verschiedenen Varianten, wie z.B. Direct Laser Writing, ein Mask Aligner von EVG und zwei NANOSCRIBE Geräte und die dazugehörige Infrastruktur wie Spin Coater, Entwickler und diverse Plasmaätzanlagen.

Der IMT-Reinraum kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. Im Reinraum gilt die Arbeitsanweisung AA505.xx. Mitarbeiter mit einer allgemeinen Sicherheitsunterweisung dürfen den Reinraum in Begleitung eines Mitarbeiters mit Zutrittsberechtigung betreten und unter Aufsicht oder zusammen mit einem berechtigten Mitarbeiter Anlagen im Reinraum benutzen oder andere Tätigkeiten ausführen. Wer umfangreiche Arbeiten selbstständig im Reinraum vornehmen will, muss dies mit einem Formular FB516.xx beim Gruppenleiter der Fertigungsausführung beantragen.

[[Kategorie: Infrastruktur]]

Reinraum - Cleanroom

2013-05-07T11:52:32Z

Uwe.Koehler:

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

Der IMT-Reinraum kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden.
[[Link-Text]]

[[Kategorie: Infrastruktur]]

User:Uwe.Koehler

2013-05-07T11:48:16Z

Uwe.Koehler:

[[Benutzer:{{PAGENAME}}/English|English Version]]

== Uwe Köhler ==


[[Datei:Koehler.jpg|rahmenlos|links|Text der Bild-Legende]]

'''Funktionsbereich''': Mikrofertigung

'''Aufgabengebiet''': GL-FAF

'''Raum''': 256

'''Telefon''': 23860

'''e-mail''': uwe.koehler@kit.edu

== Tätigkeitsbeschreibung ==

== Fertigkeiten/Kenntnisse ==

Ich bin auch Physiker: Siehe Seite Dieter Maas
== Weitere Aufgaben am IMT ==
Laborverantwortlicher des [[Reinraum - Cleanroom|IMT-Reinraums]].
== Werdegang im IMT ==


[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]]

Reinraum - Cleanroom

2013-05-07T11:44:02Z

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[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

Der IMT-Reinraum kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden.
[[Link-Text]]