Mr-X - Revision history

WikiSysop at 18:11, 19 November 2016

2016-11-19T18:11:34Z

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	=== Ansprechpartner ===		=== Ansprechpartner ===
	* [[~~Benutzer~~:Danays.Kunka\|Danays Kunka]]		* [[User:Danays.Kunka\|Danays Kunka]]
	* [[~~Benutzer~~:Frieder.Koch\|Frieder Koch]]		* [[User:Frieder.Koch\|Frieder Koch]]
	* [[~~Benutzer~~:Alexandra.Karbacher\|Alexandra Karbacher]]		* [[User:Alexandra.Karbacher\|Alexandra Karbacher]]
	* [[~~Benutzer~~:Pascal.Meyer\|Pascal Meyer]]		* [[User:Pascal.Meyer\|Pascal Meyer]]
	* [[~~Benutzer~~:Jan.Meiser\|Jan Meiser]]		* [[User:Jan.Meiser\|Jan Meiser]]
	* [[~~Benutzer~~:Felix.Marschall\|Felix Marschall]]		* [[User:Felix.Marschall\|Felix Marschall]]
	* [[~~Benutzer~~:Heike.Fornasier\|Heike Fornasier]]		* [[User:Heike.Fornasier\|Heike Fornasier]]

	=== Alternativen ===		=== Alternativen ===

WikiSysop at 17:12, 19 November 2016

2016-11-19T17:12:38Z

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	* [[SU-8]]		* [[SU-8]]

	[[~~Kategorie~~:Negativresist - negative resist]]		[[Category:Negativresist - negative resist]]
	[[~~Kategorie~~:Materialien - Materials]]		[[Category:Materialien - Materials]]

Jan.Meiser: /* Geräte */

2014-03-05T14:36:12Z

Geräte

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	**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 2)\|Litho 2]]		**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 2)\|Litho 2]]
	**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 3)\|Litho 3]]		**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 3)\|Litho 3]]
	*Galvanikbäder		*[[:Kategorie:Galvanik - Electroforming\|Galvanikbäder]]

	=== Prozesse ===		=== Prozesse ===

Jan.Meiser: /* mr-X */

2014-03-05T14:21:48Z

mr-X

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	== mr-X ==		== mr-X ==
	'''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist\|Negativresist]].		'''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist\|Negativresist]]. Er ist eine [[SU-8]]-basierte Weiterentwicklung der Fa. micro resist technology zur Herstellung sehr hoher Aspektverhältnisse durch (Röntgentiefen-)Lithografie.

	== Eigenschaften ==		== Eigenschaften ==

Jan.Meiser at 14:09, 5 March 2014

2014-03-05T14:09:48Z

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Line 1:		Line 1:
	[[{{PAGENAME}}/English\|English Version]]		[[{{PAGENAME}}/English\|English Version]]



	{\| border="1" align="right" style="background-color:#ffffcc;"		{\| border="1" align="right" style="background-color:#ffffcc;"
Line 19:		Line 17:

	== mr-X ==		== mr-X ==
	''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist\|Negativresist]].		'''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist\|Negativresist]].

	== Eigenschaften ==		== Eigenschaften ==
Line 30:		Line 28:

	=== Verfügbarkeit ===		=== Verfügbarkeit ===
	* mr-X10: Schichtdicken bis ca. 40 µm		* '''mr-X10''': Schichtdicken bis ca. 40 µm
	* mr-X50: Schichtdicken bis ca. 300 µm		* '''mr-X50''': Schichtdicken bis ca. 300 µm

	=== Geräte ===		=== Geräte ===
Line 38:		Line 36:
	*für die Röntgenlithografie:		*für die Röntgenlithografie:
	**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 1)\|Litho 1]]		**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 1)\|Litho 1]]
	**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 2), Litho 2]]		**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 2)\|Litho 2]]
	**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 3)\|Litho 3]]		**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 3)\|Litho 3]]
			*Galvanikbäder
	*für die Galvanik:
	**[[Kupfergalvanikbad]]

	=== Prozesse ===		=== Prozesse ===
			* [[LIGA]]
	* Röntgengitter		** Röntgengitter
	* Röntgenlinsen		** Röntgenlinsen

	=== Ansprechpartner ===		=== Ansprechpartner ===

Jan.Meiser at 14:05, 5 March 2014

2014-03-05T14:05:57Z

@@ Line 1: / Line 1: @@
 {| border="1" align="right" style="background-color:#ffffcc;"
 !Eigenschaft
@@ Line 13: / Line 8: @@
 |-
 |Dichte
-|70 kg/l
+|kg/l
 |-
 |-
-|42
 |}
 == Eigenschaften ==
@@ Line 46: / Line 30: @@
 === Verfügbarkeit ===
 === Geräte ===
 === Prozesse ===
 === Ansprechpartner ===
 === Alternativen ===
 * [[SU-8]]
 [[Kategorie:Negativresist - negative resist]]

Jan.Meiser at 13:52, 5 March 2014

2014-03-05T13:52:44Z

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Line 1:		Line 1:
			<!-- Hier kann ein Bild stehen, wenn sinnvoll[[Datei:Platzhalter.jpg\|thumb\|500x250px\|rechts\|Material]]-->
⚫	[[{{PAGENAME}}/~~english~~\|English ~~version~~]]




		⚫	[[{{PAGENAME}}/English\|English Version]]


			<!-- Tabelle mit für das jeweilige Material sinnvollen wichtigen Parametern füllen
			{\| border="1" align="right" style="background-color:#ffffcc;"
			!Eigenschaft
			!Wert
			\|-
			\|Dichte
			\|70 kg/l
			\|-
			\|Bauschkraft
			\|900 cuin
			\|-
			\|Landé-Faktor
			\|42
			\|}
			-->

			== Hier Materialnamen einsetzen ==
			<!--
			Falls ein Bild angezeigt werden soll, muss die entsprechende Datei erst

			hochgeladen werden.
			Dies ermöglicht die Seitenleiste "werkzeuge -> Datei hochladen".
			Bitte achtet auf Datei- und Bildgröße, ideal wäre <100kB und z.B. 120×160px
			-->

			- Kurze Beschreibung, z.B. Photoresist, Formgedächtnispolymer/legierung, Lösungsmittel ...

			- Besonderheiten


			== Eigenschaften ==

			- z.B. Chemische Zusammensetzung, wie liegt es üblicherweise vor, evtl. Preis, kurz- alles was euch sinnvoll und wichtig erscheint, auch mit Unterüberschriften

			=== Gefahreneinstufung ===

			== Am IMT ==

			=== Verfügbarkeit ===

			=== Geräte ===


			=== Prozesse ===


			=== Ansprechpartner ===

			=== Alternativen ===
			<!-- z.B. Geräteveratwortlicher etc. falls nicht zutreffend, bitte

			Überschrift entfernen -->

			<!-- Optionale Einträge wie Veröffentlichungen und Vorträge andere

			Wunschthemen -->

			<!-- Weitere Kategorien: FuEX, -->
			[[Kategorie:Materialien - Materials]]


	'''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist\|Negativresist]].		'''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist\|Negativresist]].

Jan.Meiser: Die Seite wurde neu angelegt: „English version '''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein Negativresist. =Verwendung= * R…“

2014-03-05T13:14:26Z

Die Seite wurde neu angelegt: „[[{{PAGENAME}}/english|English version]] '''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein Negativresist. =Verwendung= * R…“

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[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

'''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist|Negativresist]].

=Verwendung=
* Röntgengitter
* Röntgenlinsen

=Alternativen=
* [[SU-8]]

[[Kategorie:Negativresist - negative resist]]

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	=== Ansprechpartner ===		=== Ansprechpartner ===
	* [[~~Benutzer~~:Danays.Kunka\|Danays Kunka]]		* [[User:Danays.Kunka\|Danays Kunka]]
	* [[~~Benutzer~~:Frieder.Koch\|Frieder Koch]]		* [[User:Frieder.Koch\|Frieder Koch]]
	* [[~~Benutzer~~:Alexandra.Karbacher\|Alexandra Karbacher]]		* [[User:Alexandra.Karbacher\|Alexandra Karbacher]]
	* [[~~Benutzer~~:Pascal.Meyer\|Pascal Meyer]]		* [[User:Pascal.Meyer\|Pascal Meyer]]
	* [[~~Benutzer~~:Jan.Meiser\|Jan Meiser]]		* [[User:Jan.Meiser\|Jan Meiser]]
	* [[~~Benutzer~~:Felix.Marschall\|Felix Marschall]]		* [[User:Felix.Marschall\|Felix Marschall]]
	* [[~~Benutzer~~:Heike.Fornasier\|Heike Fornasier]]		* [[User:Heike.Fornasier\|Heike Fornasier]]

	=== Alternativen ===		=== Alternativen ===