RIE Plasmalab 80 Plus - Revision history

WikiSysop at 13:07, 19 November 2016

2016-11-19T13:07:46Z

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	'''Gerätebezeichnung:''' RIE Plasmalab 80 Plus		'''Gerätebezeichnung:''' RIE Plasmalab 80 Plus

	'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' [[~~Benutzer~~:Uwe.Köhler\|Uwe Köhler]]		'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' [[User:Uwe.Köhler\|Uwe Köhler]]

	'''Standort:''' B. 301, R. 142		'''Standort:''' B. 301, R. 142
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	== Eingewiesene Nutzer ==		== Eingewiesene Nutzer ==
	*[[~~Benutzer~~:Thomas.Duttenhofer\|Duttenhofer, Thomas]]		*[[User:Thomas.Duttenhofer\|Duttenhofer, Thomas]]
	*[[~~Benutzer~~:Konradin.Kaiser\|Kaiser, Konradin]]		*[[User:Konradin.Kaiser\|Kaiser, Konradin]]
	*[[~~Benutzer~~:Alexandra.Karbacher\|Karbacher, Alexandra]]		*[[User:Alexandra.Karbacher\|Karbacher, Alexandra]]
	*[[~~Benutzer~~:Jan.Meiser\|Meiser, Jan]]		*[[User:Jan.Meiser\|Meiser, Jan]]
	*[[~~Benutzer~~:Christin.Straus\|Straus, Christin]]		*[[User:Christin.Straus\|Straus, Christin]]

	[[~~Kategorie~~:Geräte - Devices]]		[[Category:Geräte - Devices]]
	[[~~Kategorie~~:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment]]		[[Category:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment]]
	[[Category:Geräte - Devices]]		[[Category:Geräte - Devices]]

WikiSysop at 11:29, 19 November 2016

2016-11-19T11:29:57Z

← Older revision		Revision as of 13:29, 19 November 2016
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	[[RIE Plasmalab 80 Plus/English\|English Version]]		[[RIE Plasmalab 80 Plus/English\|English Version]]

	{{~~Vorlage~~:Important_Box\|Diese Anlage ist außer Betrieb und wurde durch die Sentech ersetzt.}}		{{Template:Important_Box\|Diese Anlage ist außer Betrieb und wurde durch die Sentech ersetzt.}}

Jan.Meiser at 15:43, 26 March 2014

2014-03-26T15:43:46Z

← Older revision		Revision as of 17:43, 26 March 2014
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	[[RIE Plasmalab 80 Plus/English\|English Version]]		[[RIE Plasmalab 80 Plus/English\|English Version]]

	<!--
			{{Vorlage:Important_Box\|Diese Anlage ist außer Betrieb und wurde durch die Sentech ersetzt.}}
	Falls Bilder angezeigt werden sollen, müssen die entsprechenden Dateien erst hochgeladen werden.
	Dies ermöglicht die Seitenleiste "werkzeuge -> Datei hochladen".
	Bitte achtet auf Dateigröße, ideal wäre <100kB
	Das Bild kann auch kleiner angezeigt werden, in dem man z.B. Folgendes einfügt:
	<Gewünschte Breite in Pixeln> = 300px
	Die <> bitte entfernen.
	-->
	[[Datei:<Dateiname>\|<Gewünschte Breite in Pixeln>\|thumb\|right\|<Bildunterschrift>]]

Jan.Meiser: - statt /

2013-04-03T14:56:32Z

- statt /

← Older revision		Revision as of 16:56, 3 April 2013
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	*[[Benutzer:Christin.Straus\|Straus, Christin]]		*[[Benutzer:Christin.Straus\|Straus, Christin]]

	[[Kategorie:Geräte/Devices]]		[[Kategorie:Geräte - Devices]]
	[[Kategorie:Fertigungsmittel/Manufacturing Equipment]]		[[Kategorie:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment]]
	[[Category:Geräte/Devices]]		[[Category:Geräte - Devices]]

Jan.Meiser: Layoutanpassung

2013-03-25T22:09:59Z

Layoutanpassung

← Older revision		Revision as of 00:09, 26 March 2013
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			[[RIE Plasmalab 80 Plus/English\|English Version]]
⚫	Die RIE80+ ist ein Gerät zum Reaktiven Ionenätzen mittels Sauerstoff oder Argon. Die Anlage verfügt über ein gerichtetes Plasma~~, im Gegensatz zur [[4TEC]]~~.
			<!--
	=Funktionen=
			Falls Bilder angezeigt werden sollen, müssen die entsprechenden Dateien erst hochgeladen werden.
⚫	*~~Gase~~: Sauerstoff, Argon
			Dies ermöglicht die Seitenleiste "werkzeuge -> Datei hochladen".
	=Standort=
			Bitte achtet auf Dateigröße, ideal wäre <100kB
	Im R.142 (Reinraum) vor dem Eingang zur Gold-Galvanik.
			Das Bild kann auch kleiner angezeigt werden, in dem man z.B. Folgendes einfügt:
⚫	=Eingewiesene ~~Personen~~=
			<Gewünschte Breite in Pixeln> = 300px
	*Geräteverantwortlicher: [[Uwe Köhler]]
			Die <> bitte entfernen.
⚫	*[[Thomas Duttenhofer]]
			-->
⚫	*[[Alexandra Karbacher]]
			[[Datei:<Dateiname>\|<Gewünschte Breite in Pixeln>\|thumb\|right\|<Bildunterschrift>]]
⚫	*[[Christin Straus]]
⚫	*[[Konradin Kaiser]]
	*[[Jan Meiser]]

⚫	= Alternativen =
⚫	Für die Strukturierung von Materialien, ~~isb~~. ~~Silzium~~, bietet ~~die [[RIE/RIBE Oxford PlasmaLab 100]]~~ Anlage eine größere Auswahl an Prozessgasen sowie die Möglichkeit der Substratkühlung.

			'''Gerätebezeichnung:''' RIE Plasmalab 80 Plus

			'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' [[Benutzer:Uwe.Köhler\|Uwe Köhler]]

			'''Standort:''' B. 301, R. 142

			'''Prüfmittel/Fertigungsnummer:''' [[Abkürzungen/Abbreviations\|AE]] 0226

			'''Hersteller:''' Fa. Oxford

			== Kurzbeschreibung ==
		⚫	Die RIE80+ ist ein Gerät zum Reaktiven Ionenätzen mittels Sauerstoff oder Argon. Die Anlage verfügt über ein gerichtetes Plasma.

		⚫	== Alternativen ==
			* [[4-TEC Plasmaätzer]]: hat allerdings kein gerichtetes Plasma
		⚫	* [[RIE/RIBE Oxford PlasmaLab 100]]: Für die Strukturierung von Materialien, insb. Silizium, bietet diese Anlage eine größere Auswahl an Prozessgasen sowie die Möglichkeit der Substratkühlung.

			== Spezifikationen des Geräts ==
		⚫	* '''Prozessgase:''' Sauerstoff, Argon

			== Etablierte Prozesse ==
			* Reinigung von Wafern im Sauerstoffplasma
			* Reinigung von Entwicklungsresten von [[mr-L/mr-X\|mr-X] im Sauerstoffplasma, insbesondere für hohe Aspektverhältnisse
			* Abtragen von nanometerdicken Au-Schichten im Argonplasma

			== Einschränkungen ==
			Welche Prozesse lassen sich mit dem Gerät nicht durchführen oder würden die Funktion des Gerätes beeinträchtigen?

		⚫	== Eingewiesene Nutzer ==
		⚫	*[[Benutzer:Thomas.Duttenhofer\|Duttenhofer, Thomas]]
		⚫	*[[Benutzer:Konradin.Kaiser\|Kaiser, Konradin]]
		⚫	*[[Benutzer:Alexandra.Karbacher\|Karbacher, Alexandra]]
			*[[Benutzer:Jan.Meiser\|Meiser, Jan]]
		⚫	*[[Benutzer:Christin.Straus\|Straus, Christin]]

			[[Kategorie:Geräte/Devices]]
			[[Kategorie:Fertigungsmittel/Manufacturing Equipment]]
	[[Category:Geräte/Devices]]		[[Category:Geräte/Devices]]

Jan.Meiser: hat „RIE80+“ nach „RIE Plasmalab 80 Plus“ verschoben: richtige Bezeichnung

2013-03-25T21:50:56Z

hat „RIE80+“ nach „RIE Plasmalab 80 Plus“ verschoben: richtige Bezeichnung

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Die RIE80+ ist ein Gerät zum Reaktiven Ionenätzen mittels Sauerstoff oder Argon. Die Anlage verfügt über ein gerichtetes Plasma, im Gegensatz zur [[4TEC]].
=Funktionen=
*Gase: Sauerstoff, Argon
=Standort=
Im R.142 (Reinraum) vor dem Eingang zur Gold-Galvanik.
=Eingewiesene Personen=
*Geräteverantwortlicher: [[Uwe Köhler]]
*[[Thomas Duttenhofer]]
*[[Alexandra Karbacher]]
*[[Christin Straus]]
*[[Konradin Kaiser]]
*[[Jan Meiser]]

= Alternativen =
Für die Strukturierung von Materialien, isb. Silzium, bietet die [[RIE/RIBE Oxford PlasmaLab 100]] Anlage eine größere Auswahl an Prozessgasen sowie die Möglichkeit der Substratkühlung.

[[Category:Geräte/Devices]]