Resistlabor - Revision history

WikiSysop at 14:43, 19 November 2016

2016-11-19T14:43:55Z

← Older revision		Revision as of 16:43, 19 November 2016
Line 29:		Line 29:


	[[~~Kategorie~~: Infrastruktur]]		[[Category: Infrastruktur]]

Birgit.Huebner at 08:07, 25 January 2016

2016-01-25T08:07:08Z

← Older revision		Revision as of 10:07, 25 January 2016
Line 4:		Line 4:

	Das Resistlabor ist ein Teil des IMT - Reinraums der Klasse ISO 7(nach DIN EN ISO 14644).		Das Resistlabor ist ein Teil des IMT - Reinraums der Klasse ISO 7(nach DIN EN ISO 14644).
	Dieser Raum ist dem Funktionsbereich [[~~Mikrofertigung~~ (MF)]] zugeordnet.		Dieser Raum ist dem Funktionsbereich [[Core Technologies (CTE)]] zugeordnet.
	Hier befindet sich unter anderem der [[Kleberoboter]], die [[Nassprozessanlage]] zum Entwickeln, sowie die [[Gefriertrocknungsanlage]] mit Cyclohexan.		Hier befindet sich unter anderem der [[Kleberoboter]], die [[Nassprozessanlage]] zum Entwickeln, sowie die [[Gefriertrocknungsanlage]] mit Cyclohexan.

	Das IMT-Resistlabor kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. [[Reinraum - Cleanroom\|IMT-Reinraum]]		Das IMT-Resistlabor kann nur mit Genehmigung von CTE selbstständig genutzt werden. [[Reinraum - Cleanroom\|IMT-Reinraum]]

Stephan.Dottermusch at 15:07, 26 January 2015

2015-01-26T15:07:44Z

← Older revision		Revision as of 17:07, 26 January 2015
Line 5:		Line 5:
	Das Resistlabor ist ein Teil des IMT - Reinraums der Klasse ISO 7(nach DIN EN ISO 14644).		Das Resistlabor ist ein Teil des IMT - Reinraums der Klasse ISO 7(nach DIN EN ISO 14644).
	Dieser Raum ist dem Funktionsbereich [[Mikrofertigung (MF)]] zugeordnet.		Dieser Raum ist dem Funktionsbereich [[Mikrofertigung (MF)]] zugeordnet.
	Hier befindet sich unter anderem der [[Kleberoboter]], die [[Nassprozessanlage]] zum Entwickeln ~~und zwei [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System\|NANOSCRIBE]] Geräte~~ sowie die [[Gefriertrocknungsanlage]] mit Cyclohexan.		Hier befindet sich unter anderem der [[Kleberoboter]], die [[Nassprozessanlage]] zum Entwickeln, sowie die [[Gefriertrocknungsanlage]] mit Cyclohexan.

	Das IMT-Resistlabor kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. [[Reinraum - Cleanroom\|IMT-Reinraum]]		Das IMT-Resistlabor kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. [[Reinraum - Cleanroom\|IMT-Reinraum]]

Birgit.Huebner at 09:24, 24 July 2013

2013-07-24T09:24:55Z

← Older revision		Revision as of 11:24, 24 July 2013
Line 7:		Line 7:
	Hier befindet sich unter anderem der [[Kleberoboter]], die [[Nassprozessanlage]] zum Entwickeln und zwei [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System\|NANOSCRIBE]] Geräte sowie die [[Gefriertrocknungsanlage]] mit Cyclohexan.		Hier befindet sich unter anderem der [[Kleberoboter]], die [[Nassprozessanlage]] zum Entwickeln und zwei [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System\|NANOSCRIBE]] Geräte sowie die [[Gefriertrocknungsanlage]] mit Cyclohexan.

	Das IMT-Resistlabor kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. [[IMT-Reinraum]]		Das IMT-Resistlabor kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. [[Reinraum - Cleanroom\|IMT-Reinraum]]

Birgit.Huebner at 09:23, 24 July 2013

2013-07-24T09:23:04Z

← Older revision		Revision as of 11:23, 24 July 2013
Line 5:		Line 5:
	Das Resistlabor ist ein Teil des IMT - Reinraums der Klasse ISO 7(nach DIN EN ISO 14644).		Das Resistlabor ist ein Teil des IMT - Reinraums der Klasse ISO 7(nach DIN EN ISO 14644).
	Dieser Raum ist dem Funktionsbereich [[Mikrofertigung (MF)]] zugeordnet.		Dieser Raum ist dem Funktionsbereich [[Mikrofertigung (MF)]] zugeordnet.
	Hier befindet sich unter anderem der [[~~Resistkleberoboter~~]], die [[Nassprozessanlage]] zum Entwickeln und zwei [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System\|NANOSCRIBE]] Geräte sowie die [[Gefriertrocknungsanlage]] mit Cyclohexan.		Hier befindet sich unter anderem der [[Kleberoboter]], die [[Nassprozessanlage]] zum Entwickeln und zwei [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System\|NANOSCRIBE]] Geräte sowie die [[Gefriertrocknungsanlage]] mit Cyclohexan.

	Das IMT-Resistlabor kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. [[IMT Reinraum]]		Das IMT-Resistlabor kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. [[IMT-Reinraum]]

Marcel.Gueltig at 10:27, 2 July 2013

2013-07-02T10:27:17Z

← Older revision		Revision as of 12:27, 2 July 2013
Line 5:		Line 5:
	Das Resistlabor ist ein Teil des IMT - Reinraums der Klasse ISO 7(nach DIN EN ISO 14644).		Das Resistlabor ist ein Teil des IMT - Reinraums der Klasse ISO 7(nach DIN EN ISO 14644).
	Dieser Raum ist dem Funktionsbereich [[Mikrofertigung (MF)]] zugeordnet.		Dieser Raum ist dem Funktionsbereich [[Mikrofertigung (MF)]] zugeordnet.
	Hier befindet sich unter anderem der Resistkleberoboter, die Nassprozessanlage zum Entwickeln und zwei NANOSCRIBE Geräte sowie die Gefriertrocknungsanlage mit Cyclohexan.		Hier befindet sich unter anderem der [[Resistkleberoboter]], die [[Nassprozessanlage]] zum Entwickeln und zwei [[Nanoscribe_3_D_Laserlithographie-System\|NANOSCRIBE]] Geräte sowie die [[Gefriertrocknungsanlage]] mit Cyclohexan.

	Das IMT-Resistlabor kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. [[IMT Reinraum]]		Das IMT-Resistlabor kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. [[IMT Reinraum]]

Birgit.Huebner at 09:15, 2 July 2013

2013-07-02T09:15:44Z

← Older revision		Revision as of 11:15, 2 July 2013
Line 3:		Line 3:
	'''Das Resistlabor des IMT'''		'''Das Resistlabor des IMT'''

			Das Resistlabor ist ein Teil des IMT - Reinraums der Klasse ISO 7(nach DIN EN ISO 14644).
			Dieser Raum ist dem Funktionsbereich [[Mikrofertigung (MF)]] zugeordnet.
			Hier befindet sich unter anderem der Resistkleberoboter, die Nassprozessanlage zum Entwickeln und zwei NANOSCRIBE Geräte sowie die Gefriertrocknungsanlage mit Cyclohexan.

			Das IMT-Resistlabor kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. [[IMT Reinraum]]

Birgit.Huebner: Der Seiteninhalt wurde durch einen anderen Text ersetzt: „English version '''Das Resistlabor des IMT''' Kategorie: Infrastruktur“

2013-07-02T07:36:14Z

Der Seiteninhalt wurde durch einen anderen Text ersetzt: „[[{{PAGENAME}}/english|English version]] '''Das Resistlabor des IMT''' Kategorie: Infrastruktur“

← Older revision		Revision as of 09:36, 2 July 2013
Line 3:		Line 3:
	'''Das Resistlabor des IMT'''		'''Das Resistlabor des IMT'''

	Das IMT verfügt über ca. 500 m² Reinraumfläche der Klasse ISO 7 (nach DIN EN ISO 14644). Diese Räume sind dem Funktionsbereich [[Mikrofertigung (MF)]] zugeordnet. Unter anderem befindet sich hier die E-Beam-Lithografie, UV-Lithografie in verschiedenen Varianten, wie z.B. Direct Laser Writing, ein Mask Aligner von EVG und zwei NANOSCRIBE Geräte und die dazugehörige Infrastruktur wie Spin Coater, Entwickler und diverse Plasmaätzanlagen.

	Der IMT-Reinraum kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. Im Reinraum gilt die Arbeitsanweisung AA505.xx. Mitarbeiter mit einer allgemeinen Sicherheitsunterweisung dürfen den Reinraum in Begleitung eines Mitarbeiters mit Zutrittsberechtigung betreten und unter Aufsicht oder zusammen mit einem berechtigten Mitarbeiter Anlagen im Reinraum nutzen oder andere Tätigkeiten wie REM-Inspektionen oder sonstige Messungen ausführen. Wer umfangreiche Arbeiten selbstständig im Reinraum vornehmen will, muss dies mit einem Formular FB516.xx beim Gruppenleiter der Fertigungsausführung beantragen. Dieser Antrag muss eine Begründung für den selbstständigen Reinraumzutritt, die Projektnummer der geplanten Arbeiten und eine Abschätzung der wöchentlichen Arbeitszeit beinhalten und vom FBL des Antragstellers gegengezeichnet sein. Wer nur bis zu 3 Monaten am IMT tätig ist, bekommt in der Regel keinen selbstständigen Zugang, alle anderen benötigen eine mindestens 4-wöchige Einarbeitungszeit.

Birgit.Huebner: Die Seite wurde neu angelegt: „English version '''Das Resistlabor des IMT''' Das IMT verfügt über ca. 500 m² Reinraumfläche der Klasse ISO 7 (nach DIN EN ISO 1464…“

2013-07-02T07:35:20Z

Die Seite wurde neu angelegt: „[[{{PAGENAME}}/english|English version]] '''Das Resistlabor des IMT''' Das IMT verfügt über ca. 500 m² Reinraumfläche der Klasse ISO 7 (nach DIN EN ISO 1464…“

New page

[[{{PAGENAME}}/english|English version]]

'''Das Resistlabor des IMT'''

Das IMT verfügt über ca. 500 m² Reinraumfläche der Klasse ISO 7 (nach DIN EN ISO 14644). Diese Räume sind dem Funktionsbereich [[Mikrofertigung (MF)]] zugeordnet. Unter anderem befindet sich hier die E-Beam-Lithografie, UV-Lithografie in verschiedenen Varianten, wie z.B. Direct Laser Writing, ein Mask Aligner von EVG und zwei NANOSCRIBE Geräte und die dazugehörige Infrastruktur wie Spin Coater, Entwickler und diverse Plasmaätzanlagen.

Der IMT-Reinraum kann nur mit Genehmigung von MF selbstständig genutzt werden. Im Reinraum gilt die Arbeitsanweisung AA505.xx. Mitarbeiter mit einer allgemeinen Sicherheitsunterweisung dürfen den Reinraum in Begleitung eines Mitarbeiters mit Zutrittsberechtigung betreten und unter Aufsicht oder zusammen mit einem berechtigten Mitarbeiter Anlagen im Reinraum nutzen oder andere Tätigkeiten wie REM-Inspektionen oder sonstige Messungen ausführen. Wer umfangreiche Arbeiten selbstständig im Reinraum vornehmen will, muss dies mit einem Formular FB516.xx beim Gruppenleiter der Fertigungsausführung beantragen. Dieser Antrag muss eine Begründung für den selbstständigen Reinraumzutritt, die Projektnummer der geplanten Arbeiten und eine Abschätzung der wöchentlichen Arbeitszeit beinhalten und vom FBL des Antragstellers gegengezeichnet sein. Wer nur bis zu 3 Monaten am IMT tätig ist, bekommt in der Regel keinen selbstständigen Zugang, alle anderen benötigen eine mindestens 4-wöchige Einarbeitungszeit.

[[Kategorie: Infrastruktur]]