VISTEC VB6: Difference between revisions
From IMT-Wiki
Jump to navigationJump to search
mNo edit summary |
No edit summary |
||
| (One intermediate revision by one other user not shown) | |||
| Line 9: | Line 9: | ||
Die <> bitte entfernen. |
Die <> bitte entfernen. |
||
--> |
--> |
||
[[ |
[[File:Ebeam.jpg|300 px|thumb|right|Vistec VB6]] |
||
| Line 39: | Line 39: | ||
== Spezifikationen des Geräts == |
== Spezifikationen des Geräts == |
||
Beschreibung auf der KMNF-Seite: http://www.knmf.kit.edu/ |
Beschreibung auf der KMNF-Seite: http://www.knmf.kit.edu/downloads/KNMF_Technology_Description_1_IMT_EBL.pdf |
||
== Etablierte Prozesse == |
== Etablierte Prozesse == |
||
| Line 52: | Line 52: | ||
|'''Nutzer'''|| '''Sonderaufgabe''' |
|'''Nutzer'''|| '''Sonderaufgabe''' |
||
|- |
|- |
||
|[[ |
|[[User:Marie-Kristin.Nees | Nees, Marie-Kristin]] || Spin-coating, Entwicklung |
||
|- |
|- |
||
|[[ |
|[[User:Andreas.Bacher | Bacher, Andreas]] || Direct Write, Layout |
||
|- |
|- |
||
|[[ |
|[[User:Kira.Koehnle | Köhnle, Kira]] || Prozessentwicklung Negativlacke, Proximitykorrektur |
||
|} |
|} |
||
[[ |
[[Category:Geräte - Devices]] |
||
[[ |
[[Category:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment]] |
||
[[ |
[[Category:KNMF]] |
||
Latest revision as of 16:03, 19 November 2016
Gerätebezeichnung:
VISTEC VB6
Geräteverantwortliche/Operateure: Peter Jakobs
Standort: Reinraumbereich Ebeam
- Gerät in R107.9 (Tel. 25991)
- Bedienerraum in R107.8 (Tel. 25979)
- Wasserbäder in R107.10 (Tel. 25997)
Prüfmittel/Fertigungsnummer: ??
Spezifikations-Nummer: ??
Kurzbeschreibung
Das VISTEC VB6 ist ein Elektronenstrahlschreiber wird wird zur Lithographie verwendet.
Alternativen
- Jeol am CFN - nur 50 keV
- e-line Raith am INT ??
- e-line Raith am IMS
Spezifikationen des Geräts
Beschreibung auf der KMNF-Seite: http://www.knmf.kit.edu/downloads/KNMF_Technology_Description_1_IMT_EBL.pdf
Etablierte Prozesse
- PMMA mit hohen Aspektverhältnissen
Einschränkungen
- Direct Write, d.h. zueinander justierte Belichtungen nur unter Absprache mit Hr. Jakobs.
Eingewiesene Nutzer
| Nutzer | Sonderaufgabe |
| Nees, Marie-Kristin | Spin-coating, Entwicklung |
| Bacher, Andreas | Direct Write, Layout |
| Köhnle, Kira | Prozessentwicklung Negativlacke, Proximitykorrektur |
