User:Heike.Fornasier: Difference between revisions
From IMT-Wiki
Jump to navigationJump to search
(→Geräte) |
mNo edit summary |
||
| (7 intermediate revisions by 2 users not shown) | |||
| Line 1: | Line 1: | ||
[[ |
[[file:Platzhalter.jpg|thumb|500x250px|rechts|Mäxle und Lieschen]] |
||
[[ |
[[User:{{PAGENAME}}/English|English Version]] |
||
== Heike Fornasier == |
== Heike Fornasier == |
||
| Line 36: | Line 36: | ||
=== Geräte === |
=== Geräte === |
||
*[[Spincoater (OPTIcoat ST22+)]] |
*[[Spincoater (OPTIcoat ST22+)]] |
||
*[[Oxidationsanlage]] |
|||
*[[Oxidationsanlage]] |
*[[Oxidationsanlage]] |
||
*[[Umluftofen UT 6050 LAF, Fa. Kendro]] |
*[[Umluftofen UT 6050 LAF, Fa. Kendro]] |
||
| Line 54: | Line 53: | ||
*[[Spincoater Primus STT15]] |
*[[Spincoater Primus STT15]] |
||
*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]] |
*[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]] |
||
*[[Schichtdickenmessgerät MPV-SP]] |
|||
*[[UV-Intensity Meter Modell 1000 UV]] |
|||
=== Prozesse === |
=== Prozesse === |
||
*Cr-ätzen |
|||
*Ti-ätzen |
|||
*Au-ätzen |
|||
=== Software === |
=== Software === |
||
=== Materialien === |
=== Materialien === |
||
*Resiste |
|||
**AZ Lack |
|||
== [[Abkürzungen - Abbreviations|PVA]] für IMT-Projekte == |
|||
**SU-8/mr-L |
|||
* [[00-000P]] |
|||
**PMMA |
|||
**Durimide |
|||
== Weitere Aufgaben am IMT == |
== Weitere Aufgaben am IMT == |
||
| Line 70: | Line 77: | ||
<!-- Weitere Kategorien: FuEX, --> |
<!-- Weitere Kategorien: FuEX, --> |
||
[[Category:Ehemalige_Mitarbeiter_-_Former_Employees]] |
|||
[[Kategorie:Mitarbeiter - Employees]] |
|||
Latest revision as of 17:47, 24 October 2025
Heike Fornasier
Funktionsbereich: MF
Aufgabengebiet: Arbeiten im Reinraum
Bau: 307
Raum: 124
Telefon: 0721-608-22766
e-mail: mailto:heike.fornasier@kit.edu
Stellvertreter: Mädels Raum 125
Tätigkeitsbeschreibung
- optische Lithographie
- nasschem. Ätzen
- Ansprechpartner für Arbeiten im Reinraum
- Schichtdicken- und Oberflächenmessungen
Fertigkeiten/Kenntnisse
Geräte
- Spincoater (OPTIcoat ST22+)
- Oxidationsanlage
- Umluftofen UT 6050 LAF, Fa. Kendro
- HMDS-Ofen Star-2000, Fa. IMTEC
- Planarätzer P300
- Spin Processor (Entwickler)
- Belichtungsgerät LH5
- RC8 THP Wafer Processing System, Fa. Süss
- Vakuum-/Inertgasofen 500°C, VT 6060 P-500
- Umluftofen UT 5050 LAF, Fa. Kendro
- Vakuumofen VT 6060 M, Fa. Kendro
- Megaschallgeber
- Maskenreiniger HMR 900
- EVG 620 Double Side Mask Aligner
- Hotplate (OPTIhot SHT20)
- Hotplatebox (Horst)
- Spincoater Primus STT15
- Sprühentwickler ST30 (anorganisch)
- Schichtdickenmessgerät MPV-SP
- UV-Intensity Meter Modell 1000 UV
Prozesse
- Cr-ätzen
- Ti-ätzen
- Au-ätzen
Software
Materialien
- Resiste
- AZ Lack
- SU-8/mr-L
- PMMA
- Durimide
