Nassprozessanlage: Difference between revisions
From IMT-Wiki
Jump to navigationJump to search
No edit summary |
No edit summary |
||
| Line 45: | Line 45: | ||
== Eingewiesene Nutzer == |
== Eingewiesene Nutzer == |
||
[[ |
[[User: Julia.Wolf | Wolf, Julia]] |
||
'''Stellvertreter:''' |
'''Stellvertreter:''' |
||
[[ |
[[User:Martin.Boerner|Börner, Martin]] |
||
[[ |
[[User:Christin.Straus|Straus, Christin]] |
||
[[ |
[[User:Birgit.Huebner|Hübner, Birgit]] |
||
[[ |
[[User:Heike.Fornasier|Fornasier, Heike]] |
||
[[ |
[[User:Pascal.Meyer|Meyer, Pascal]] |
||
| Line 63: | Line 63: | ||
[[ |
[[Category:Geräte - Devices]] |
||
[[ |
[[Category:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment]] |
||
Latest revision as of 18:55, 19 November 2016
Gerätebezeichnung: Nassprozess- / Entwicklungsanlage
Geräteverantwortliche/Operateure: Julia Wolf, Martin Börner
Standort: Bau 307, Raum 132c
Prüfmittel/Fertigungsnummer: SL 0252
Spezifikations-Nummer: SP-XXXX
Kurzbeschreibung
Diese Entwicklungsanlage der Firma Ritter (Firma Sonosys) Anagenbau GmbH dient zur Maskenentwicklung.
Sie kann mit Megaschall betrieben werden.
Alternativen
Die Nassentwicklung kann auch im Becherglas erfolgen.
Spezifikationen des Geräts
Die Laufzeit ist programmierbar und mit einer Signaleinrichtung versehen.
Solltemperatur der Bäder: 23 °C
Zur Zeit werden das Wasserbad und das BDG-Bad (Spülbad) genutzt.
Etablierte Prozesse
Einschränkungen
Eingewiesene Nutzer
Stellvertreter: