Sputteranlage UNIVEX 500: Difference between revisions

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'''Gerätebezeichnung:''' Sputteranlage UNIVEX 500
'''Gerätebezeichnung:''' Sputteranlage UNIVEX 500


'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' Uwe Köhler/ Birgit Hübner
'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' Uwe Köhler, Birgit Hübner


'''Standort:''' Bau 309, Raum
'''Standort:''' Bau 309, Raum

Revision as of 11:31, 17 July 2013

English Version

250px|thumb|right|<Sputteranlage - Bedienelemente>

250px|thumb|right|<Sputteranlage - Innenraum>


Gerätebezeichnung: Sputteranlage UNIVEX 500

Geräteverantwortliche/Operateure: Uwe Köhler, Birgit Hübner

Standort: Bau 309, Raum

Prüfmittel/Fertigungsnummer: SA 0818

Spezifikations-Nummer: SP-XXXX


Kurzbeschreibung

Die Anlage dient zum Kohlenstoff(C) - sputtern für Trennschichten.

Alternativen

Spezifikationen des Geräts

Prozessgas: Argon

Zum Belüften der Vakumanlage dient Stickstoff.

Etablierte Prozesse

  • 4" Si-Substrate (versehen mit 1% SiO2) mit ca. 50 nm Kohlenstoff (C) beschichten.
  • Glasobjektträger mit ca. 100 nm Kohlenstoff (C) beschichten.

Einschränkungen

Eingewiesene Nutzer

Köhler, Uwe

Hübner, Birgit


Kategorie:Geräte - Devices Kategorie:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment