Automatisches Filmziehgerät: Difference between revisions
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Gibt es andere Geräte, die gleiche oder ähnliche Funktion haben/Prozesse durchführen können? Bitte hier benennen und verlinken. Den korrekten Namen der Wiki-Seite des zu verlinkenden Geräts findet sich in der [[Prüfmittel_Liste_-_List_of_Measurement_Devices| Prüfmittel Liste]] oder der [[Liste der Fertigungsmittel - List of Manufacturing Equipment|Liste der Fertigungsmittel]]. |
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== Spezifikationen des Geräts == |
== Spezifikationen des Geräts == |
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Ziehgeschwindigkeit 0-99 mm/s, Auflösung 1 mm/s |
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(Zusätzliche) Ausstattung und Funktionen, z.B. Prozessgase, Wellenlängen, Auflösung, Strukturdimensionen |
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== Etablierte Prozesse == |
== Etablierte Prozesse == |
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Beschichtung von Rechteckigen Kapton Substraten mit Photoresist |
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Welche Prozesse wurden erfolgreich mit diesem Gerät durchgeführt, welche Materialien wurden mit dem Gerät strukturiert, geprüft, verarbeitet? Bitte keine Prozessparameter und sensible Details in die Wiki eintragen, stattdessen Hinweise, wo man diese finden oder erfragen kann (z.B. Pfad zu Dokument im J: Laufwerk). |
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== Einschränkungen == |
== Einschränkungen == |
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Rotationssymetrische Substrate |
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Welche Prozesse lassen sich mit dem Gerät nicht durchführen oder würden die Funktion des Gerätes beeinträchtigen? |
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== Eingewiesene Nutzer == |
== Eingewiesene Nutzer == |
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Personen bitte immer mit [[Benutzer: |
Personen bitte immer mit [[Benutzer:Tobias.Schröter|Schröter, Tobias]] verknüpfen. |
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Revision as of 11:23, 24 June 2016
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Gerätebezeichnung: Automatisches Filmziehgerät
Geräteverantwortliche/Operateure: Schröter, Tobias
Standort: Resistlabor, Bau 307, Raum 132c
Prüfmittel-/Fertigungsmittelnummer: XXXX
Spezifikations-Nummer: SP-XXXX
Kurzbeschreibung
Automatisches Laborgerät zur reproduzierbaren Applikation von Beschichtungsstoffen, Klebstoffen und ähnlichen Produkten, anwendbar mit nahezu allen Arten von Filmziehapplikatoren Multifunktionaler Einsatz mit wendbarer, doppelseitiger Glasplatte (Glas/Drucktuch), oder Vakuumplatte, einfach zu wenden oder zu wechseln Variabler Applikationsbereich durch verstellbare Anfangs- und Endanschläge
Alternativen
Die Alternative für Rotationssymetrische Substrate ist der Spinncoater, oder die Tauchbeschichtung
Spezifikationen des Geräts
Ziehgeschwindigkeit 0-99 mm/s, Auflösung 1 mm/s
Etablierte Prozesse
Beschichtung von Rechteckigen Kapton Substraten mit Photoresist
Einschränkungen
Rotationssymetrische Substrate
Eingewiesene Nutzer
Personen bitte immer mit Schröter, Tobias verknüpfen.
