User:Heike.Fornasier

thumb|500x250px|rechts|Mäxle und Lieschen

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Heike Fornasier

Funktionsbereich: MF

Aufgabengebiet: Arbeiten im Reinraum

Bau: 307

Raum: 124

Telefon: 0721-608-22766

e-mail: mailto:heike.fornasier@kit.edu

Stellvertreter: Mädels Raum 125

Tätigkeitsbeschreibung

• optische Lithographie
• nasschem. Ätzen
• Ansprechpartner für Arbeiten im Reinraum
• Schichtdicken- und Oberflächenmessungen

Fertigkeiten/Kenntnisse

Geräte

• Spincoater (OPTIcoat ST22+)
• Oxidationsanlage
• Umluftofen UT 6050 LAF, Fa. Kendro
• HMDS-Ofen Star-2000, Fa. IMTEC
• Planarätzer P300
• Spin Processor (Entwickler)
• Belichtungsgerät LH5
• RC8 THP Wafer Processing System, Fa. Süss
• Vakuum-/Inertgasofen 500°C, VT 6060 P-500
• Umluftofen UT 5050 LAF, Fa. Kendro
• Vakuumofen VT 6060 M, Fa. Kendro
• Megaschallgeber
• Maskenreiniger HMR 900
• EVG 620 Double Side Mask Aligner
• Hotplate (OPTIhot SHT20)
• Hotplatebox (Horst)
• Spincoater Primus STT15
• Sprühentwickler ST30 (anorganisch)
• Schichtdickenmessgerät MPV-SP
• UV-Intensity Meter Modell 1000 UV

Prozesse

• Cr-ätzen
• Ti-ätzen
• Au-ätzen

Materialien

• Resiste
  • AZ Lack
  • SU-8/mr-L
  • PMMA
  • Durimide