Vakuumofen Vacutherm: Difference between revisions

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'''Gerätebezeichnung:''' XXXXXXXX
'''Gerätebezeichnung:''' Vakuumofen Vacutherm


'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' XXXX
'''Geräteverantwortliche/Operateure:''' Birgit Hübner


'''Standort:''' XXXX
'''Standort:''' Bau 307, Raum 132c


'''Prüfmittel/Fertigungsnummer:''' XXXX
'''Prüfmittel/Fertigungsnummer:''' OF 0235


'''Spezifikations-Nummer:''' SP-XXXX
'''Spezifikations-Nummer:''' SP-XXXX
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== Kurzbeschreibung ==
== Kurzbeschreibung ==

Es handelt sich um einen Vakuumofen der Firma Heraeus.




== Alternativen ==
== Alternativen ==

Gibt es andere Geräte, die gleiche oder ähnliche Funktion haben/Prozesse durchführen können? Bitte hier benennen und verlinken. Den korrekten Namen der Wiki-Seite des zu verlinkenden Geräts findet sich in der [[Prüfmittel_Liste_-_List_of_Measurement_Devices| Prüfmittel Liste]] oder der [[Liste der Fertigungsmittel - List of Manufacturing Equipment|Liste der Fertigungsmittel]].


== Spezifikationen des Geräts ==
== Spezifikationen des Geräts ==

(Zusätzliche) Ausstattung und Funktionen, z.B. Prozessgase, Wellenlängen, Auflösung, Strukturdimensionen
Das Vakuum wird mit einer Wasserstrahlpumpe erzeugt und es kann ein Vakuum von 200 mbar erreicht werden.
Eine Rühreinrichtung ist fest eingebaut.



== Etablierte Prozesse ==
== Etablierte Prozesse ==
Dieser Vakuumofen wird zum entgasen des Resistklebstoffgemisches verwendet.
Welche Prozesse wurden erfolgreich mit diesem Gerät durchgeführt, welche Materialien wurden mit dem Gerät strukturiert, geprüft, verarbeitet? Bitte keine Prozessparameter und sensible Details in die Wiki eintragen, stattdessen Hinweise, wo man diese finden oder erfragen kann (z.B. Pfad zu Dokument im J: Laufwerk).


== Einschränkungen ==
== Einschränkungen ==

Revision as of 11:34, 23 July 2013

English Version

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Gerätebezeichnung: Vakuumofen Vacutherm

Geräteverantwortliche/Operateure: Birgit Hübner

Standort: Bau 307, Raum 132c

Prüfmittel/Fertigungsnummer: OF 0235

Spezifikations-Nummer: SP-XXXX


Kurzbeschreibung

Es handelt sich um einen Vakuumofen der Firma Heraeus.


Alternativen

Spezifikationen des Geräts

Das Vakuum wird mit einer Wasserstrahlpumpe erzeugt und es kann ein Vakuum von 200 mbar erreicht werden. Eine Rühreinrichtung ist fest eingebaut.


Etablierte Prozesse

Dieser Vakuumofen wird zum entgasen des Resistklebstoffgemisches verwendet.

Einschränkungen

Welche Prozesse lassen sich mit dem Gerät nicht durchführen oder würden die Funktion des Gerätes beeinträchtigen?

Eingewiesene Nutzer

Personen bitte immer mit Nachname, Vorname verknüpfen.


Kategorie:Geräte - Devices Kategorie:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment