Sputteranlage UNIVEX 500: Difference between revisions

Revision as of 12:35, 5 November 2013

Gerätebezeichnung: Sputteranlage UNIVEX 500

Geräteverantwortliche/Operateure: Uwe Köhler, Birgit Hübner

Standort: Bau 309, Raum 137

Prüfmittel/Fertigungsnummer: SA 0818

Spezifikations-Nummer: SP-XXXX

Die Anlage dient zum Kohlenstoff(C) - sputtern für Trennschichten.

Prozessgas: Argon

Zum Belüften der Vakumanlage dient Stickstoff.

4" Si-Substrate (versehen mit 1% SiO2) mit ca. 50 nm Kohlenstoff (C) beschichten.

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 == Kurzbeschreibung ==
 Die Anlage dient zum Kohlenstoff(C) - sputtern für Trennschichten.
-== Alternativen ==
 == Spezifikationen des Geräts ==
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 * Glasobjektträger mit ca. 100 nm Kohlenstoff (C) beschichten.
-== Einschränkungen ==
 == Eingewiesene Nutzer ==