Automatisches Filmziehgerät: Difference between revisions
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Automatisches Laborgerät zur reproduzierbaren Applikation von Beschichtungsstoffen, Klebstoffen und ähnlichen Produkten, anwendbar mit nahezu allen Arten von Filmziehapplikatoren Multifunktionaler Einsatz mit wendbarer, doppelseitiger Glasplatte (Glas/Drucktuch), oder Vakuumplatte, einfach zu wenden oder zu wechseln Variabler Applikationsbereich durch verstellbare Anfangs- und Endanschläge |
Automatisches Laborgerät zur reproduzierbaren Applikation von Beschichtungsstoffen, Klebstoffen und ähnlichen Produkten, anwendbar mit nahezu allen Arten von Filmziehapplikatoren Multifunktionaler Einsatz mit wendbarer, doppelseitiger Glasplatte (Glas/Drucktuch), oder Vakuumplatte, einfach zu wenden oder zu wechseln Variabler Applikationsbereich durch verstellbare Anfangs- und Endanschläge |
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Für die Nutzung des Gerätes ist noch ein Rakel notwendig. |
Für die Nutzung des Gerätes ist noch ein Rakel notwendig. |
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Revision as of 11:30, 24 June 2016
250px|thumb|right|ZAA 2300 Automatisches Filmziehgerätt
Gerätebezeichnung: Automatisches Filmziehgerät (Rakel)
Geräteverantwortliche/Operateure: Schröter, Tobias
Standort: Resistlabor, Bau 307, Raum 132c
Prüfmittel-/Fertigungsmittelnummer: XXXX
Spezifikations-Nummer: SP-XXXX
Kurzbeschreibung
250px|thumb|right|ZAA 2300 Automatisches Filmziehgerätt
250px|thumb|right|ZAA 2300 Automatisches Filmziehgerätt
Automatisches Laborgerät zur reproduzierbaren Applikation von Beschichtungsstoffen, Klebstoffen und ähnlichen Produkten, anwendbar mit nahezu allen Arten von Filmziehapplikatoren Multifunktionaler Einsatz mit wendbarer, doppelseitiger Glasplatte (Glas/Drucktuch), oder Vakuumplatte, einfach zu wenden oder zu wechseln Variabler Applikationsbereich durch verstellbare Anfangs- und Endanschläge Für die Nutzung des Gerätes ist noch ein Rakel notwendig.
Alternativen
Die Alternative für Rotationssymetrische Substrate ist der Spinncoater, oder die Tauchbeschichtung
Spezifikationen des Geräts
Ziehgeschwindigkeit 0-99 mm/s, Auflösung 1 mm/s
Etablierte Prozesse
Beschichtung von Rechteckigen Kapton Substraten mit Photoresist
Einschränkungen
Rotationssymetrische Substrate
Eingewiesene Nutzer
Personen bitte immer mit Schröter, Tobias verknüpfen.
