Automatisches Filmziehgerät: Difference between revisions

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Automatisches Laborgerät zur reproduzierbaren Applikation von:
Automatisches Laborgerät zur reproduzierbaren Applikation von:


- Beschichtungsstoffen
# Beschichtungsstoffen


- Klebstoffen und ähnlichen Produkten
# Klebstoffen und ähnlichen Produkten


Anwendbar mit nahezu allen Arten von Filmziehapplikatoren
Anwendbar mit nahezu allen Arten von Filmziehapplikatoren
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Multifunktionaler Einsatz mit:
Multifunktionaler Einsatz mit:


- wendbarer, doppelseitiger Glasplatte
# wendbarer, doppelseitiger Glasplatte


- oder Vakuumplatte
# oder Vakuumplatte


Einfach zu wenden oder zu wechseln Variabler Applikationsbereich durch verstellbare Anfangs- und Endanschläge
Einfach zu wenden oder zu wechseln Variabler Applikationsbereich durch verstellbare Anfangs- und Endanschläge

Revision as of 11:37, 24 June 2016


English Version

250px|thumb|right|ZAA 2300 Automatisches Filmziehgerätt

Gerätebezeichnung: Automatisches Filmziehgerät (Rakel)

Geräteverantwortliche/Operateure: Schröter, Tobias

Standort: Resistlabor, Bau 307, Raum 132c

Prüfmittel-/Fertigungsmittelnummer: XXXX

Spezifikations-Nummer: SP-XXXX


Kurzbeschreibung

250px|thumb|right|Anwendungsbeispiel Rakeln mit Universalaplikator (Bitte immer Anzug tragen)

250px|thumb|right|Automatisches Filmziehgerätt + Universalaplikator


Automatisches Laborgerät zur reproduzierbaren Applikation von:

  1. Beschichtungsstoffen
  1. Klebstoffen und ähnlichen Produkten

Anwendbar mit nahezu allen Arten von Filmziehapplikatoren

Multifunktionaler Einsatz mit:

  1. wendbarer, doppelseitiger Glasplatte
  1. oder Vakuumplatte

Einfach zu wenden oder zu wechseln Variabler Applikationsbereich durch verstellbare Anfangs- und Endanschläge

Achtung: Für die Nutzung des Gerätes ist noch ein Rakel notwendig!

Alternativen

Die Alternative für Rotationssymetrische Substrate ist der Spinncoater, oder die Tauchbeschichtung

Spezifikationen des Geräts

Ziehgeschwindigkeit 0-99 mm/s, Auflösung 1 mm/s

Etablierte Prozesse

Beschichtung von Rechteckigen Kapton Substraten mit Photoresist

Einschränkungen

Rotationssymetrische Substrate

Eingewiesene Nutzer

Personen bitte immer mit Schröter, Tobias verknüpfen.


Kategorie:Geräte - Devices