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Als '''Resist''' (auch: '''Fotolack''') wird in der Regel ein lichtempfindliches Polymer bezeichnet, das zur fotolithografischen Strukturierung verwendet wird. Am IMT sind Resiste wesentlicher Bestandteil des [[LIGA]]-Verfahrens. 

Resiste werden nach ihrer Reaktion auf die Belichtung in zwei Gruppen eingeteilt:
*Positivresist
*Negativresist

==Positivresist==
Bei Belichtung werden die Polymerketten aufgebrochen, der Resist wird löslich. Im folgenden Entwicklungsschritt werden so die '''belichteten''' Bereiche herausgelöst. 

Einer der verbreitetsten Positivresiste ist [[PMMA]].   

==Negativresist==
Bei Belichtung setzt eine Vernetzung der Polymerketten ein, der Resist wird unlöslich. Im folgenden Entwicklungsschritt werden die '''unbelichteten''' Bereiche herausgelöst.

Einer der verbreitetsten Negativresist ist [[SU-8]].


== Eigenschaften ==

- z.B. Chemische Zusammensetzung, wie liegt es üblicherweise vor, evtl. Preis, kurz- alles was euch sinnvoll und wichtig erscheint, auch mit Unterüberschriften

=== Gefahreneinstufung ===

== Am IMT ==

=== Verfügbarkeit ===

=== Geräte ===
* [[Spincoater]]

=== Prozesse ===
* [[LIGA]]

=== Ansprechpartner ===
* [[User:Heike.Fornasier|Heike Fornasier]]
* [[User:Alexandra.Karbacher|Alexandra Karbacher]]

=== Alternativen ===

==Links==
* [[:Category:Positivresist - positive resist|Positivresist]]
* [[:Category:Negativresist - negative resist|Negativresist]]

[[Category:Materialien - Materials]]