Resist
Als Resist (auch: Fotolack) wird in der Regel ein lichtempfindliches Polymer bezeichnet, das zur fotolithografischen Strukturierung verwendet wird. Am IMT sind Resiste wesentlicher Bestandteil des LIGA-Verfahrens.
Resiste werden nach ihrer Reaktion auf die Belichtung in zwei Gruppen eingeteilt:
- Positivresist
- Negativresist
Positivresist
Bei Belichtung werden die Polymerketten aufgebrochen, der Resist wird löslich. Im folgenden Entwicklungsschritt werden so die belichteten Bereiche herausgelöst.
Einer der verbreitetsten Positivresiste ist PMMA.
Negativresist
Bei Belichtung setzt eine Vernetzung der Polymerketten ein, der Resist wird unlöslich. Im folgenden Entwicklungsschritt werden die unbelichteten Bereiche herausgelöst.
Einer der verbreitetsten Negativresist ist SU-8.
Eigenschaften
- z.B. Chemische Zusammensetzung, wie liegt es üblicherweise vor, evtl. Preis, kurz- alles was euch sinnvoll und wichtig erscheint, auch mit Unterüberschriften
