Mr-X: Difference between revisions
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'''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist|Negativresist]]. Er ist eine [[SU-8]]-basierte Weiterentwicklung der Fa. micro resist technology zur Herstellung sehr hoher Aspektverhältnisse durch (Röntgentiefen-)Lithografie. |
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- z.B. Chemische Zusammensetzung, wie liegt es üblicherweise vor, evtl. Preis, kurz- alles was euch sinnvoll und wichtig erscheint, auch mit Unterüberschriften |
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* '''mr-X10''': Schichtdicken bis ca. 40 µm |
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*für die Röntgenlithografie: |
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**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 1)|Litho 1]] |
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**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 2)|Litho 2]] |
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Latest revision as of 20:11, 19 November 2016
| Eigenschaft | Wert |
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| Dichte | kg/l |
| Feststoffgehalt | % |
| Brechzahl |
mr-X
mr-X (vorher: mr-L) ist ein Negativresist. Er ist eine SU-8-basierte Weiterentwicklung der Fa. micro resist technology zur Herstellung sehr hoher Aspektverhältnisse durch (Röntgentiefen-)Lithografie.
Eigenschaften
- z.B. Chemische Zusammensetzung, wie liegt es üblicherweise vor, evtl. Preis, kurz- alles was euch sinnvoll und wichtig erscheint, auch mit Unterüberschriften
Gefahreneinstufung
Am IMT
Verfügbarkeit
- mr-X10: Schichtdicken bis ca. 40 µm
- mr-X50: Schichtdicken bis ca. 300 µm
Geräte
- für die Belackung:
- für die Röntgenlithografie:
- Galvanikbäder
Prozesse
- LIGA
- Röntgengitter
- Röntgenlinsen
Ansprechpartner
- Danays Kunka
- Frieder Koch
- Alexandra Karbacher
- Pascal Meyer
- Jan Meiser
- Felix Marschall
- Heike Fornasier
