Mr-X: Difference between revisions

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<!-- Hier kann ein Bild stehen, wenn sinnvoll[[Datei:Platzhalter.jpg|thumb|500x250px|rechts|Material]]-->




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<!-- Tabelle mit für das jeweilige Material sinnvollen wichtigen Parametern füllen
{| border="1" align="right" style="background-color:#ffffcc;"
{| border="1" align="right" style="background-color:#ffffcc;"
!Eigenschaft
!Eigenschaft
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|-
|-
|Dichte
|Dichte
|70 kg/l
|kg/l
|-
|-
|Feststoffgehalt
|Bauschkraft
|%
|900 cuin
|-
|-
|Brechzahl
|Landé-Faktor
|42
|
|}
|}
-->


== Hier Materialnamen einsetzen ==
<!--
Falls ein Bild angezeigt werden soll, muss die entsprechende Datei erst

hochgeladen werden.
Dies ermöglicht die Seitenleiste "werkzeuge -> Datei hochladen".
Bitte achtet auf Datei- und Bildgröße, ideal wäre <100kB und z.B. 120×160px
-->

- Kurze Beschreibung, z.B. Photoresist, Formgedächtnispolymer/legierung, Lösungsmittel ...

- Besonderheiten


== mr-X ==
'''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist|Negativresist]]. Er ist eine [[SU-8]]-basierte Weiterentwicklung der Fa. micro resist technology zur Herstellung sehr hoher Aspektverhältnisse durch (Röntgentiefen-)Lithografie.


== Eigenschaften ==
== Eigenschaften ==
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=== Verfügbarkeit ===
=== Verfügbarkeit ===
* '''mr-X10''': Schichtdicken bis ca. 40 µm
* '''mr-X50''': Schichtdicken bis ca. 300 µm


=== Geräte ===
=== Geräte ===
*für die Belackung:

**[[Spincoater]]
*für die Röntgenlithografie:
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 1)|Litho 1]]
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 2)|Litho 2]]
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 3)|Litho 3]]
*[[:Kategorie:Galvanik - Electroforming|Galvanikbäder]]


=== Prozesse ===
=== Prozesse ===
* [[LIGA]]

⚫
** Röntgengitter
⚫
** Röntgenlinsen


=== Ansprechpartner ===
=== Ansprechpartner ===
* [[User:Danays.Kunka|Danays Kunka]]
* [[User:Frieder.Koch|Frieder Koch]]
* [[User:Alexandra.Karbacher|Alexandra Karbacher]]
* [[User:Pascal.Meyer|Pascal Meyer]]
* [[User:Jan.Meiser|Jan Meiser]]
* [[User:Felix.Marschall|Felix Marschall]]
* [[User:Heike.Fornasier|Heike Fornasier]]


=== Alternativen ===
=== Alternativen ===
<!-- z.B. Geräteveratwortlicher etc. falls nicht zutreffend, bitte

Überschrift entfernen -->

<!-- Optionale Einträge wie Veröffentlichungen und Vorträge andere

Wunschthemen -->

<!-- Weitere Kategorien: FuEX, -->
⚫
[[Kategorie:Materialien - Materials]]


'''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist|Negativresist]].

=Verwendung=
⚫
* Röntgengitter
⚫
* Röntgenlinsen

=Alternativen=
* [[SU-8]]
* [[SU-8]]


[[Kategorie:Negativresist - negative resist]]
[[Category:Negativresist - negative resist]]
⚫
[[Category:Materialien - Materials]]

Latest revision as of 20:11, 19 November 2016

English Version

Eigenschaft Wert
Dichte kg/l
Feststoffgehalt %
Brechzahl


mr-X

mr-X (vorher: mr-L) ist ein Negativresist. Er ist eine SU-8-basierte Weiterentwicklung der Fa. micro resist technology zur Herstellung sehr hoher Aspektverhältnisse durch (Röntgentiefen-)Lithografie.

Eigenschaften

- z.B. Chemische Zusammensetzung, wie liegt es üblicherweise vor, evtl. Preis, kurz- alles was euch sinnvoll und wichtig erscheint, auch mit Unterüberschriften

Gefahreneinstufung

Am IMT

Verfügbarkeit

  • mr-X10: Schichtdicken bis ca. 40 µm
  • mr-X50: Schichtdicken bis ca. 300 µm

Geräte

Prozesse

  • LIGA
    • Röntgengitter
    • Röntgenlinsen

Ansprechpartner

Alternativen

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