Mr-X: Difference between revisions

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== mr-X ==
== mr-X ==
''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist|Negativresist]].
'''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist|Negativresist]]. Er ist eine [[SU-8]]-basierte Weiterentwicklung der Fa. micro resist technology zur Herstellung sehr hoher Aspektverhältnisse durch (Röntgentiefen-)Lithografie.


== Eigenschaften ==
== Eigenschaften ==
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=== Verfügbarkeit ===
=== Verfügbarkeit ===
* mr-X10: Schichtdicken bis ca. 40 µm
* '''mr-X10''': Schichtdicken bis ca. 40 µm
* mr-X50: Schichtdicken bis ca. 300 µm
* '''mr-X50''': Schichtdicken bis ca. 300 µm


=== Geräte ===
=== Geräte ===
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*für die Röntgenlithografie:
*für die Röntgenlithografie:
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 1)|Litho 1]]
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 1)|Litho 1]]
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 2), Litho 2]]
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 2)|Litho 2]]
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 3)|Litho 3]]
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 3)|Litho 3]]
*[[:Kategorie:Galvanik - Electroforming|Galvanikbäder]]
*für die Galvanik:
**[[Kupfergalvanikbad]]


=== Prozesse ===
=== Prozesse ===
* [[LIGA]]
* Röntgengitter
** Röntgengitter
* Röntgenlinsen
** Röntgenlinsen


=== Ansprechpartner ===
=== Ansprechpartner ===
* [[Benutzer:Danays.Kunka|Danays Kunka]]
* [[User:Danays.Kunka|Danays Kunka]]
* [[Benutzer:Frieder.Koch|Frieder Koch]]
* [[User:Frieder.Koch|Frieder Koch]]
* [[Benutzer:Alexandra.Karbacher|Alexandra Karbacher]]
* [[User:Alexandra.Karbacher|Alexandra Karbacher]]
* [[Benutzer:Pascal.Meyer|Pascal Meyer]]
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* [[Benutzer:Jan.Meiser|Jan Meiser]]
* [[User:Jan.Meiser|Jan Meiser]]
* [[Benutzer:Felix.Marschall|Felix Marschall]]
* [[User:Felix.Marschall|Felix Marschall]]
* [[Benutzer:Heike.Fornasier|Heike Fornasier]]
* [[User:Heike.Fornasier|Heike Fornasier]]


=== Alternativen ===
=== Alternativen ===
* [[SU-8]]
* [[SU-8]]


[[Kategorie:Negativresist - negative resist]]
[[Category:Negativresist - negative resist]]
[[Kategorie:Materialien - Materials]]
[[Category:Materialien - Materials]]

Latest revision as of 20:11, 19 November 2016

English Version

Eigenschaft Wert
Dichte kg/l
Feststoffgehalt %
Brechzahl


mr-X

mr-X (vorher: mr-L) ist ein Negativresist. Er ist eine SU-8-basierte Weiterentwicklung der Fa. micro resist technology zur Herstellung sehr hoher Aspektverhältnisse durch (Röntgentiefen-)Lithografie.

Eigenschaften

- z.B. Chemische Zusammensetzung, wie liegt es üblicherweise vor, evtl. Preis, kurz- alles was euch sinnvoll und wichtig erscheint, auch mit Unterüberschriften

Gefahreneinstufung

Am IMT

Verfügbarkeit

  • mr-X10: Schichtdicken bis ca. 40 µm
  • mr-X50: Schichtdicken bis ca. 300 µm

Geräte

Prozesse

  • LIGA
    • Röntgengitter
    • Röntgenlinsen

Ansprechpartner

Alternativen

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