SU-8: Difference between revisions
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SU-8 besteht aus einem Epoxidharz, Lösungmittel und Photoinitiator. Durch Belichtung und Post-bake ensteht ein hochvernetzter Duroplast. |
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- Kurze Beschreibung, z.B. Photoresist, Formgedächtnispolymer/legierung, Lösungsmittel ... |
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Das verwendete Harz basiert auf Bisphenol-A. |
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- Besonderheiten |
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- z.B. Chemische Zusammensetzung, wie liegt es üblicherweise vor, evtl. Preis, kurz- alles was euch sinnvoll und wichtig erscheint, auch mit Unterüberschriften |
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=== Gefahreneinstufung === |
=== Gefahreneinstufung === |
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=== Alternativen === |
=== Alternativen === |
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== Links == |
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Überschrift entfernen --> |
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Umfangreiche Zusammenstellung der Eigenschaften von SU-8: |
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[http://memscyclopedia.org/su8.html MEMScyclopedia SU-8] |
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<!-- Optionale Einträge wie Veröffentlichungen und Vorträge andere |
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Wunschthemen --> |
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<!-- Weitere Kategorien: FuEX, --> |
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=Alternativen= |
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[[Category:Negativresist - negative resist]] |
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Latest revision as of 19:12, 19 November 2016
| Eigenschaft | Wert |
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| Dichte | |
SU-8
SU-8 ist ein Negativresist.
Eigenschaften
SU-8 besteht aus einem Epoxidharz, Lösungmittel und Photoinitiator. Durch Belichtung und Post-bake ensteht ein hochvernetzter Duroplast.
Das verwendete Harz basiert auf Bisphenol-A.
Gefahreneinstufung
Am IMT
Verfügbarkeit
Geräte
Prozesse
Ansprechpartner
Alternativen
- mr-X: Weiterentwicklung der Fa. micro resist technology zur Herstellung hoher Aspektverhältnisse.
Links
Umfangreiche Zusammenstellung der Eigenschaften von SU-8: MEMScyclopedia SU-8
