Mr-X: Difference between revisions
From IMT-Wiki
Jump to navigationJump to search
Jan.Meiser (talk | contribs) No edit summary |
Jan.Meiser (talk | contribs) No edit summary |
||
| Line 1: | Line 1: | ||
[[{{PAGENAME}}/English|English Version]] |
[[{{PAGENAME}}/English|English Version]] |
||
{| border="1" align="right" style="background-color:#ffffcc;" |
{| border="1" align="right" style="background-color:#ffffcc;" |
||
| Line 19: | Line 17: | ||
== mr-X == |
== mr-X == |
||
''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist|Negativresist]]. |
'''mr-X''' (vorher: '''mr-L''') ist ein [[:Kategorie:Negativresist - negative resist|Negativresist]]. |
||
== Eigenschaften == |
== Eigenschaften == |
||
| Line 30: | Line 28: | ||
=== Verfügbarkeit === |
=== Verfügbarkeit === |
||
* mr-X10: Schichtdicken bis ca. 40 µm |
* '''mr-X10''': Schichtdicken bis ca. 40 µm |
||
* mr-X50: Schichtdicken bis ca. 300 µm |
* '''mr-X50''': Schichtdicken bis ca. 300 µm |
||
=== Geräte === |
=== Geräte === |
||
| Line 38: | Line 36: | ||
*für die Röntgenlithografie: |
*für die Röntgenlithografie: |
||
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 1)|Litho 1]] |
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 1)|Litho 1]] |
||
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 2) |
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 2)|Litho 2]] |
||
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 3)|Litho 3]] |
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 3)|Litho 3]] |
||
*Galvanikbäder |
|||
*für die Galvanik: |
|||
**[[Kupfergalvanikbad]] |
|||
=== Prozesse === |
=== Prozesse === |
||
* [[LIGA]] |
|||
* Röntgengitter |
** Röntgengitter |
||
* Röntgenlinsen |
** Röntgenlinsen |
||
=== Ansprechpartner === |
=== Ansprechpartner === |
||
Revision as of 16:09, 5 March 2014
| Eigenschaft | Wert |
|---|---|
| Dichte | kg/l |
| Feststoffgehalt | % |
| Brechzahl |
mr-X
mr-X (vorher: mr-L) ist ein Negativresist.
Eigenschaften
- z.B. Chemische Zusammensetzung, wie liegt es üblicherweise vor, evtl. Preis, kurz- alles was euch sinnvoll und wichtig erscheint, auch mit Unterüberschriften
Gefahreneinstufung
Am IMT
Verfügbarkeit
- mr-X10: Schichtdicken bis ca. 40 µm
- mr-X50: Schichtdicken bis ca. 300 µm
Geräte
- für die Belackung:
- für die Röntgenlithografie:
- Galvanikbäder
Prozesse
- LIGA
- Röntgengitter
- Röntgenlinsen
Ansprechpartner
- Danays Kunka
- Frieder Koch
- Alexandra Karbacher
- Pascal Meyer
- Jan Meiser
- Felix Marschall
- Heike Fornasier
Alternativen
Kategorie:Negativresist - negative resist Kategorie:Materialien - Materials