Mr-X: Difference between revisions
From IMT-Wiki
Jump to navigationJump to search
Jan.Meiser (talk | contribs) (→mr-X) |
Jan.Meiser (talk | contribs) (→Geräte) |
||
| Line 38: | Line 38: | ||
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 2)|Litho 2]] |
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 2)|Litho 2]] |
||
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 3)|Litho 3]] |
**[[Jenoptic-Scanner, Fa. Jenoptik (Litho 3)|Litho 3]] |
||
*Galvanikbäder |
*[[:Kategorie:Galvanik - Electroforming|Galvanikbäder]] |
||
=== Prozesse === |
=== Prozesse === |
||
Revision as of 16:36, 5 March 2014
| Eigenschaft | Wert |
|---|---|
| Dichte | kg/l |
| Feststoffgehalt | % |
| Brechzahl |
mr-X
mr-X (vorher: mr-L) ist ein Negativresist. Er ist eine SU-8-basierte Weiterentwicklung der Fa. micro resist technology zur Herstellung sehr hoher Aspektverhältnisse durch (Röntgentiefen-)Lithografie.
Eigenschaften
- z.B. Chemische Zusammensetzung, wie liegt es üblicherweise vor, evtl. Preis, kurz- alles was euch sinnvoll und wichtig erscheint, auch mit Unterüberschriften
Gefahreneinstufung
Am IMT
Verfügbarkeit
- mr-X10: Schichtdicken bis ca. 40 µm
- mr-X50: Schichtdicken bis ca. 300 µm
Geräte
- für die Belackung:
- für die Röntgenlithografie:
- Galvanikbäder
Prozesse
- LIGA
- Röntgengitter
- Röntgenlinsen
Ansprechpartner
- Danays Kunka
- Frieder Koch
- Alexandra Karbacher
- Pascal Meyer
- Jan Meiser
- Felix Marschall
- Heike Fornasier
Alternativen
Kategorie:Negativresist - negative resist Kategorie:Materialien - Materials