Nanoscribe PhotonicProfessional: Difference between revisions
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Latest revision as of 17:03, 19 November 2016
Gerätebezeichnung: Nanoscribe 3D Laserlithographie-System
Geräteverantwortliche/Operateure: XXXX
Standort: R147 (Reinraum)
Prüfmittel-/Fertigungsmittelnummer: XXXX
Spezifikations-Nummer: SP-280960
Kurzbeschreibung
Ein Laserstrahl unterhalb der Aktivierungsenergie wird in einen Photolack fokussiert, im Fokus kommt es zur 2-Photonenabsorption. Strukturgrößen unterhalb der Auflösungsgrenze sind möglich.
Alternativen
Spezifikationen des Geräts
Wellenlänge: 780nm
Strukturdimensionen: 200nm x 200nm x 300nm
Piezogeschwindigkeit: 50 µm/s
Galvogeschwindigkeit (GT): 10000 µm/s (nur in x und y)
Etablierte Prozesse
Einschränkungen
Feld: 300µm x 300µm (für größere Strukturen stitching erforderlich)
Arbeitsabstand: max 300µm (für größere Strukturen stitching erforderlich)
