Nanoscribe PhotonicProfessional

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Gerätebezeichnung: Nanoscribe 3D Laserlithographie-System

Geräteverantwortliche/Operateure: XXXX

Standort: R147 (Reinraum)

Prüfmittel-/Fertigungsmittelnummer: XXXX

Spezifikations-Nummer: SP-280960

Kurzbeschreibung

Ein Laserstrahl unterhalb der Aktivierungsenergie wird in einen Photolack fokussiert, im Fokus kommt es zur 2-Photonenabsorption. Strukturgrößen unterhalb der Auflösungsgrenze sind möglich.

Spezifikationen des Geräts

Wellenlänge: 780nm

Strukturdimensionen: 200nm x 200nm x 300nm

Piezogeschwindigkeit: 50 µm/s

Galvogeschwindigkeit (GT): 10000 µm/s (nur in x und y)

Einschränkungen

Feld: 300µm x 300µm (für größere Strukturen stitching erforderlich)

Arbeitsabstand: max 300µm (für größere Strukturen stitching erforderlich)