RIE Plasmalab 80 Plus: Difference between revisions
From IMT-Wiki
Jump to navigationJump to search
Jan.Meiser (talk | contribs) (Layoutanpassung) |
Jan.Meiser (talk | contribs) m (- statt /) |
||
| Line 46: | Line 46: | ||
*[[Benutzer:Christin.Straus|Straus, Christin]] |
*[[Benutzer:Christin.Straus|Straus, Christin]] |
||
[[Kategorie:Geräte |
[[Kategorie:Geräte - Devices]] |
||
[[Kategorie:Fertigungsmittel |
[[Kategorie:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment]] |
||
[[Category:Geräte |
[[Category:Geräte - Devices]] |
||
Revision as of 16:56, 3 April 2013
English Version [[Datei:<Dateiname>|<Gewünschte Breite in Pixeln>|thumb|right|<Bildunterschrift>]]
Gerätebezeichnung: RIE Plasmalab 80 Plus
Geräteverantwortliche/Operateure: Uwe Köhler
Standort: B. 301, R. 142
Prüfmittel/Fertigungsnummer: AE 0226
Hersteller: Fa. Oxford
Kurzbeschreibung
Die RIE80+ ist ein Gerät zum Reaktiven Ionenätzen mittels Sauerstoff oder Argon. Die Anlage verfügt über ein gerichtetes Plasma.
Alternativen
- 4-TEC Plasmaätzer: hat allerdings kein gerichtetes Plasma
- RIE/RIBE Oxford PlasmaLab 100: Für die Strukturierung von Materialien, insb. Silizium, bietet diese Anlage eine größere Auswahl an Prozessgasen sowie die Möglichkeit der Substratkühlung.
Spezifikationen des Geräts
- Prozessgase: Sauerstoff, Argon
Etablierte Prozesse
- Reinigung von Wafern im Sauerstoffplasma
- Reinigung von Entwicklungsresten von [[mr-L/mr-X|mr-X] im Sauerstoffplasma, insbesondere für hohe Aspektverhältnisse
- Abtragen von nanometerdicken Au-Schichten im Argonplasma
Einschränkungen
Welche Prozesse lassen sich mit dem Gerät nicht durchführen oder würden die Funktion des Gerätes beeinträchtigen?
Eingewiesene Nutzer
Kategorie:Geräte - Devices Kategorie:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment