User:Christin.Straus: Difference between revisions
From IMT-Wiki
Jump to navigationJump to search
(→Geräte) |
|||
| Line 32: | Line 32: | ||
=== Geräte === |
=== Geräte === |
||
[[Oxidationsanlage]] |
[[Oxidationsanlage]] |
||
[[Goldgalvanikbäder]] |
|||
[[RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford]] |
|||
[[Laserbeschriftungsgerät]] |
|||
[[Galvanikbad HEGA I+III+IV]] |
|||
[[Vakuumöfen]] |
|||
[[4-TEC Plasmaätzer]] |
|||
[[Maskenreiniger HMR 900]] |
|||
[[Goldgalvanikbad (FMK, WA wie GA 0220)]] |
|||
[[Lackentferner STP 2020]] |
|||
[[Sprühentwickler ST30 (anorganisch)]] |
|||
[[OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)]] |
|||
=== Prozesse === |
=== Prozesse === |
||
Revision as of 15:33, 17 May 2013
Christin Straus
[[Datei:<Bilddatei>|rahmenlos|links|Text der Bild-Legende]]
Fachbereich: MF (Mikrofertigung)
Aufgabengebiet: Goldgalvanik, (i.V. Nickelgalvanik, verschiedene Ätzarbeiten
Raum: Bau 307 Raum 125
Telefon: 072160824429
e-mail: christin.straus@kit.edu
Stellvertreter: Barbara Matthis
Tätigkeitsbeschreibung
Fertigkeiten/Kenntnisse
Geräte
Oxidationsanlage Goldgalvanikbäder RIE-Anlage, Plasmalab 80 Plus, Fa. Oxford Laserbeschriftungsgerät Galvanikbad HEGA I+III+IV Vakuumöfen 4-TEC Plasmaätzer Maskenreiniger HMR 900 Goldgalvanikbad (FMK, WA wie GA 0220) Lackentferner STP 2020 Sprühentwickler ST30 (anorganisch) OPT - Trockenätzanlage (RIE/ICP, RIBE)
