Elektronenstrahlschreiber VB6 UHR-EWF: Difference between revisions
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Gibt es andere Geräte, die gleiche oder ähnliche Funktion haben/Prozesse durchführen können? Bitte hier benennen und verlinken. Den korrekten Namen der Wiki-Seite des zu verlinkenden Geräts findet sich in der [[Prüfmittel_Liste_-_List_of_Measurement_Devices| Prüfmittel Liste]] oder der [[Liste der Fertigungsmittel - List of Manufacturing Equipment|Liste der Fertigungsmittel]]. |
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== Spezifikationen des Geräts == |
== Spezifikationen des Geräts == |
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* Beschleunigungsspannung: 100keV |
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(Zusätzliche) Ausstattung und Funktionen, z.B. Prozessgase, Wellenlängen, Auflösung, Strukturdimensionen |
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* theoretische Auflösung: 0,5nm '''(Achtung: das ist die minimale BeamStepSize - <u>nicht</u> kleinstes schreibbares Feature!)''' |
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* kleinster Strahldurchmesser: 4nm |
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== Etablierte Prozesse == |
== Etablierte Prozesse == |
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* Strukturierung von PMMA 950k in unterschiedlichen Schichtdicken (aktuell zwischen 30nm und 3,2µm) |
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Welche Prozesse wurden erfolgreich mit diesem Gerät durchgeführt, welche Materialien wurden mit dem Gerät strukturiert, geprüft, verarbeitet? Bitte keine Prozessparameter und sensible Details in die Wiki eintragen, stattdessen Hinweise, wo man diese finden oder erfragen kann (z.B. Pfad zu Dokument im J: Laufwerk). |
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== Einschränkungen == |
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Welche Prozesse lassen sich mit dem Gerät nicht durchführen oder würden die Funktion des Gerätes beeinträchtigen? |
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* keine Substrate grösser 6" |
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== Eingewiesene Nutzer == |
== Eingewiesene Nutzer == |
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[[User:Peter-Jürgen.Jakobs|Jakobs, Peter]]; [[User:Andreas.Bacher|Bacher, Andreas]]; [[User:Marie-Kristin.Nees|Nees, Marie-Kristin]] |
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Personen bitte immer mit [[Benutzer:Vorname.Nachname | Nachname, Vorname]] verknüpfen. |
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[[Category:Geräte - Devices]] |
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[[Category:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment]] |
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Latest revision as of 20:00, 19 November 2016
Seite noch im Aufbau!
Gerätebezeichnung: Elektronenstrahlschreiber VB6 UHR-EWF
Geräteverantwortliche/Operateure: Jakobs, Peter, Bacher, Andreas / Nees, Marie-Kristin
Standort: Bau 301 Räume 107.8 - 107.10
Fertigungmittelnummer: BS 0249
Spezifikations-Nummer: SP280310.00
Kurzbeschreibung
Alternativen
- Laser-Lithographie-Anlage: nur für Strukturen >1 µm geeignet. Verschiedene Resiste: mr-X, AZ
Spezifikationen des Geräts
- Beschleunigungsspannung: 100keV
- theoretische Auflösung: 0,5nm (Achtung: das ist die minimale BeamStepSize - nicht kleinstes schreibbares Feature!)
- kleinster Strahldurchmesser: 4nm
Etablierte Prozesse
- Strukturierung von PMMA 950k in unterschiedlichen Schichtdicken (aktuell zwischen 30nm und 3,2µm)
Einschränkungen
- keine Substrate grösser 6"
