User:Christin.Straus: Difference between revisions

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* Plasma-Reinigungsschritte (4Tec; RIE/RIBE)
* Plasma-Reinigungsschritte (4Tec; RIE/RIBE)
* die Urlaubsvertretung im nasschemischen Entwickeln
* die Urlaubsvertretung im nasschemischen Entwickeln
* Wafervorbereitung für gebogene Gitter
* für die Ordnung im Reinraum und das Auffüllen von Verbrauchs- und Arbeitsmaterialien
* für die Ordnung im Reinraum und das Auffüllen von Verbrauchs- und Arbeitsmaterialien



Revision as of 16:02, 17 May 2013


English Version


Christin Straus

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Fachbereich: MF (Mikrofertigung)

Aufgabengebiet: Goldgalvanik, (i.V. Nickelgalvanik, verschiedene Ätzarbeiten

Raum: Bau 307 Raum 125

Telefon: 072160824429

e-mail: christin.straus@kit.edu

Stellvertreter: Barbara Matthis

Tätigkeitsbeschreibung

Zuständig für

  • die Galdgalvanik und vertretungsweise Nickelgalvanik
  • verschiedene Ätzprozesse wie Kupfer-, Titan-, Invar- und SU8 ätzen
  • die Oxidation von Wafern und Kupfergrundplatten
  • Plasma-Reinigungsschritte (4Tec; RIE/RIBE)
  • die Urlaubsvertretung im nasschemischen Entwickeln
  • Wafervorbereitung für gebogene Gitter
  • für die Ordnung im Reinraum und das Auffüllen von Verbrauchs- und Arbeitsmaterialien

Fertigkeiten/Kenntnisse

Geräte

Prozesse

  • Oxidation
  • Goldgalvanik
  • Plasmaätzen

Software

  • Analysis (teilweise)

Weitere Aufgaben am IMT

Kategorie:Mitarbeiter - Employees