Elektronenstrahlschreiber VB6 UHR-EWF: Difference between revisions

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== Alternativen ==
== Alternativen ==
* [[Laser-Lithographie-Anlage]]: nur für Strukturen >1 µm geeignet. Verschiedene Resiste: mr-X, AZ
* [[Laser-Lithographie-Anlage]]: nur für Strukturen >1 µm geeignet. Verschiedene Resiste: [[mr-X]], AZ


== Spezifikationen des Geräts ==
== Spezifikationen des Geräts ==

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250px|thumb|right|Elektronenstrahlschreiber

Gerätebezeichnung: Elektronenstrahlschreiber VB6 UHR-EWF

Geräteverantwortliche/Operateure: Jakobs, Peter, Bacher, Andreas / Nees, Marie-Kristin

Standort: Bau 301 Räume 107.8 - 107.10

Fertigungmittelnummer: BS 0249

Spezifikations-Nummer: SP280310.00


Kurzbeschreibung

Alternativen

Spezifikationen des Geräts

  • Beschleunigungsspannung: 100keV
  • theoretische Auflösung: 0,5nm (Achtung: das ist die minimale BeamStepSize - nicht kleinstes schreibbares Feature!)
  • kleinster Strahldurchmesser: 4nm

Etablierte Prozesse

  • Strukturierung von PMMA 950k in unterschiedlichen Schichtdicken (aktuell zwischen 30nm und 3,2µm)

Einschränkungen

  • keine Substrate grösser 6"

Eingewiesene Nutzer

Jakobs, Peter; Bacher, Andreas; Nees, Marie-Kristin


Kategorie:Geräte - Devices Kategorie:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment