Elektronenstrahlschreiber VB6 UHR-EWF: Difference between revisions
From IMT-Wiki
Jump to navigationJump to search
Jan.Meiser (talk | contribs) mNo edit summary |
Jan.Meiser (talk | contribs) |
||
| Line 23: | Line 23: | ||
== Alternativen == |
== Alternativen == |
||
* [[Laser-Lithographie-Anlage]]: nur für Strukturen >1 µm geeignet. Verschiedene Resiste: mr-X, AZ |
* [[Laser-Lithographie-Anlage]]: nur für Strukturen >1 µm geeignet. Verschiedene Resiste: [[mr-X]], AZ |
||
== Spezifikationen des Geräts == |
== Spezifikationen des Geräts == |
||
Revision as of 16:23, 5 March 2014
Seite noch im Aufbau!
250px|thumb|right|Elektronenstrahlschreiber
Gerätebezeichnung: Elektronenstrahlschreiber VB6 UHR-EWF
Geräteverantwortliche/Operateure: Jakobs, Peter, Bacher, Andreas / Nees, Marie-Kristin
Standort: Bau 301 Räume 107.8 - 107.10
Fertigungmittelnummer: BS 0249
Spezifikations-Nummer: SP280310.00
Kurzbeschreibung
Alternativen
- Laser-Lithographie-Anlage: nur für Strukturen >1 µm geeignet. Verschiedene Resiste: mr-X, AZ
Spezifikationen des Geräts
- Beschleunigungsspannung: 100keV
- theoretische Auflösung: 0,5nm (Achtung: das ist die minimale BeamStepSize - nicht kleinstes schreibbares Feature!)
- kleinster Strahldurchmesser: 4nm
Etablierte Prozesse
- Strukturierung von PMMA 950k in unterschiedlichen Schichtdicken (aktuell zwischen 30nm und 3,2µm)
Einschränkungen
- keine Substrate grösser 6"
Eingewiesene Nutzer
Jakobs, Peter; Bacher, Andreas; Nees, Marie-Kristin
Kategorie:Geräte - Devices Kategorie:Fertigungsmittel - Manufacturing Equipment