Strippen - stripping: Difference between revisions
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Latest revision as of 16:16, 19 November 2016
Strippen bezeichnet im Zusammenhang mit Fotoresisten das Entfernen des Fotoresists durch trocken-chemisches Ätzen.
Anlagen zum Strippen von Resist
- 4-TEC Plasmaätzer: Ätzgas Sauerstoff
- RIE/RIBE Oxford PlasmaLab 100: Ätzgas SF6
- Sentech: Ätzgase Sauerstoff, Argon; Nachfolger der RIE Plasmalab 80 Plus
- RIE Plasmalab 80 Plus: außer Betrieb, ersetzt durch Sentech; Ätzgase Sauerstoff, Argon
